基材的表面处理方法以及模具的制造方法技术

技术编号:18176270 阅读:27 留言:0更新日期:2018-06-09 18:39
对圆柱状或圆筒状的基材(12)的表面进行处理的方法包含:(a)在以基材的长轴方向与水平方向大致平行的方式对基材进行了配置的状态下,以基材的长轴为中心使所述基材旋转的工序;以及(b)使基材的外周面的一部分与第一蚀刻槽(51)所收容的第一蚀刻液(E1)接触的工序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基材的表面处理方法以及模具的制造方法
本专利技术涉及一种基材的表面处理方法以及模具的制造方法。在此所说的“模具”,包含各种加工方法(冲压、浇铸)所使用的模具,也可称作压模。此外,还能够用于印刷(包含纳米印刷)。
技术介绍
对于电视、便携式电话等所使用的显示装置、照相机透镜等的光学元件,通常为了降低表面反射提高光的透过量而实施了防反射技术。例如,这是因为像光入射到空气与玻璃的界面时那样,在光穿过折射率不同的介质的界面的情况下,因菲涅尔反射等而光的透过量降低,可见性下降。近年来,作为防反射技术,将凹凸的周期被控制在可视光(λ=380nm~780nm)的波长以下的微细的凹凸图案形成于基板表面的方法受到关注(参照专利文献1至3)。构成表现出防反射功能的凹凸图案的凸部的二维的大小为10nm以上且小于500nm。在此,凸部的“二维的大小”是指,从表面的法线方向观察时的凸部的面积当量圆直径,例如在凸部为圆锥形的情况下,凸部的二维的大小相当于圆锥的底面的直径。凹部的“二维的大小”也是相同的。该方法为,利用了所谓的蛾眼(Moth-eye、蛾的眼睛)构造的原理的方法,通过使相对于入射至基板的光的折射率沿着凹凸的深度方向从入射介质的折射率到基板的折射率连续地发生变化而抑制欲防止反射的波长区域的反射。蛾眼构造除了能够发挥遍及较广的波长区域而入射角依赖性较小的防反射作用以外,还具有能够应用于较多的材料,能够将凹凸图案直接形成于基板等优点。其结果为,能够以低成本提供高性能的防反射膜(或防反射表面)。本申请人开发了作为具有蛾眼构造的防反射膜(或防反射表面)的制造方法,使用通过对铝进行阳极氧化而获得的阳极氧化多孔氧化铝层的方法(专利文献2以及3)。通过利用阳极氧化多孔氧化铝膜,能够容易地制造用于将蛾眼构造形成于表面的模具(以下,称作“蛾眼用模具”。)。特别是,如专利文献2以及3所述,当将铝的阳极氧化膜的表面直接用作模具时,降低制造成本的效果较好。将能够形成蛾眼构造的蛾眼用模具的表面的构造称作“翻转的蛾眼构造”。此外,如专利文献1至4所述,除蛾眼构造(微细构造)以外,通过设置比蛾眼构造大的凹凸构造(粗大构造),能够对防反射膜(防反射表面)赋予防眩(antiglare)功能。构成发挥防眩功能的凹凸构造(有时称作“防眩构造”。)的凸部或凹部的二维的大小为200nm以上且小于100μm。此外,将能够形成防眩构造的模具的表面的构造称作“翻转的防眩构造”。为了参照专利文献1至4所公开的全部内容而将其援引到本说明书中。需要说明的是,在本说明书中,将构成蛾眼构造(或翻转的蛾眼构造)的凹凸称作微细的凹凸,将构成防眩构造(或翻转的防眩构造)的凹凸称作粗大的凹凸。粗大的凹凸的二维的大小的范围与微细的凹凸的二维的大小的范围局部地重叠,但是,在具有防眩功能的防反射膜(防反射表面)中,构成防眩构造的凹凸构造大于构成表现出防反射功能的蛾眼构造的凹凸构造。现有技术文献专利文件专利文献1:日本特表2001-517319号公报专利文献2:日本特表2003-531962号公报专利文献3:国际公开第2011/055757号专利文献4:国际公开第2013/146656号
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题对于高效地制造用于形成具有适度的防眩功能的防反射膜(或防反射表面)的模具的方法,探索了各种各样的方法。例如,对于专利文献1所述的喷砂法,再现性良好地形成赋予防眩功能的期望的粗大的凹凸构造较为困难。此外,在专利文献3所述的阴极电解法中,有时无法形成能够充分地发挥防眩功能的粗大的凹凸构造。而且,通过专利文献4所述的电镀而形成的、反映出没有树脂层的平坦部的连续的粗大的凹凸构造的表面,存在有图像模糊这样的问题。近年,随着显示装置的高清晰化的进展,而谋求具有图像的模糊得到抑制的适度的防眩功能的防反射膜。本专利技术者在对通过辊对辊方式制造具有适度的防眩功能和适度和镜面反射性的防反射膜(或防反射表面)的方法进行研究时,发现了在圆筒状的模具基材的表面均匀地形成翻转的防眩构造较为困难这样的问题。该问题在对圆柱状或圆筒状的基材的表面进行处理的技术中是共同的问题。本专利技术的目的在于,提供一种能够对圆柱状或圆筒状的基材的表面实施消除不匀处理的方法。解决问题的手段由本专利技术的实施方式实施的基材的表面处理方法,对圆柱状或圆筒状的基材的表面进行处理,(a)在配置有所述基材的状态下,以所述基材的长轴为中心使所述基材旋转,使得所述基材的长轴方向与水平方向大致平行的工序;以及(b)使所述基材的外周面的一部分与第一蚀刻槽所收容的第一蚀刻液接触的工序。在某实施方式中,还包含将与所述第一蚀刻液相同的第二蚀刻液吹送至所述基材的外周面的工序(c)。在某实施方式中,所述工序(c)与所述工序(b)同时实施,所述第二蚀刻液被吹送至所述基材的外周面中的、与所述第一蚀刻液接触的部位的附近。在某实施方式中,所述工序(c)与所述工序(a)同时实施,在所述第二蚀刻液被吹送至所述基材的外周面中的、与所述第一蚀刻液接触的部位的附近,且在所述工序(a)中以远离所述第一蚀刻液的方式被吹送至旋转的部位。在某实施方式中,所述工序(c)中,所述第二蚀刻液被喷出的角度从铅直方向倾斜45°以上且小于90°。在某实施方式中,所述基材为,由Al-Mg-Si系的铝合金形成并被实施了机械镜面加工的铝基材。在某实施方式中,所述第一蚀刻液为,包含氟化氢与铵的盐的水溶液。在某实施方式中,所述氟化氢与铵的盐为氟化铵。还包含:在所述工序(b)之前,使所述基材的外周面的一部分与不同于所述第一蚀刻液的第三蚀刻液接触的工序(b1),所述第三蚀刻液相对于所述基材的外周面的蚀刻率低于所述第一蚀刻液相对于所述基材的外周面的蚀刻率。在某实施方式中,所述第三蚀刻液为将所述第一蚀刻液稀释而得到的蚀刻液。在某实施方式中,所述第三蚀刻液的温度低于所述第一蚀刻液。在某实施方式中,所述第三蚀刻液被收容在不同于所述第一蚀刻槽的第二蚀刻槽。在某实施方式中,所述第三蚀刻液被收容在所述第一蚀刻槽。在某实施方式中,还包含:在所述工序(b)之后,使所述基材的外周面的一部分与不同于所述第一蚀刻液的第四蚀刻液接触的工序(b2),所述第四蚀刻液相对于所述基材的外周面的蚀刻率低于所述第一蚀刻液相对于所述基材的外周面的蚀刻率。在某实施方式中,所述第四蚀刻液为与所述第三蚀刻液相同的蚀刻液。在某实施方式中,所述工序(a)中,所述基材的圆周速度为超过0m/s且0.03m/s以下。在某实施方式中,所述工序(a)中,所述基材的旋转速度为超过0rpm且2rpm以下。由本专利技术的实施方式实施的模具的制造方法,包含:(A)准备由Al-Mg-Si系的铝合金形成的圆筒状的铝基材且被实施了机械镜面加工的铝基材的工序;(B)利用权利要求1至17中任一项所述的表面处理方法对所述铝基材的表面进行处理的工序;(C)在所述工序(B)之后,通过在所述铝基材的所述表面形成无机材料层,在所述无机材料层之上形成铝膜,制成模具基材的工序;(D)在所述工序(C)之后,通过对所述铝膜的表面进行阳极氧化,形成具有多个微细的凹部的多孔氧化铝层的工序;(E)在所述工序(D)之后,通过使所述多孔氧化铝层与蚀刻液接触,将所述多孔氧化铝层的所述多个微细的凹部扩大的工序;以及本文档来自技高网
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基材的表面处理方法以及模具的制造方法

【技术保护点】
一种基材的表面处理方法,对圆柱状或圆筒状的基材的表面进行处理,其特征在于,所述基材的表面处理方法包含:(a)在配置有所述基材的状态下,以所述基材的长轴为中心使所述基材旋转,使得所述基材的长轴方向与水平方向大致平行的工序;以及(b)使所述基材的外周面的一部分与第一蚀刻槽所收容的第一蚀刻液接触的工序。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.10.14 JP 2015-2025891.一种基材的表面处理方法,对圆柱状或圆筒状的基材的表面进行处理,其特征在于,所述基材的表面处理方法包含:(a)在配置有所述基材的状态下,以所述基材的长轴为中心使所述基材旋转,使得所述基材的长轴方向与水平方向大致平行的工序;以及(b)使所述基材的外周面的一部分与第一蚀刻槽所收容的第一蚀刻液接触的工序。2.根据权利要求1所述的基材的表面处理方法,其特征在于,还包含将与所述第一蚀刻液相同的第二蚀刻液吹送至所述基材的外周面的工序(c)。3.根据权利要求2所述的基材的表面处理方法,其特征在于,所述工序(c)与所述工序(b)同时实施,所述第二蚀刻液被吹送至所述基材的外周面中的、与所述第一蚀刻液接触的部位的附近。4.根据权利要求2或3所述的基材的表面处理方法,其特征在于,所述工序(c)与所述工序(a)同时实施,在所述第二蚀刻液被吹送至所述基材的外周面中的、与所述第一蚀刻液接触的部位的附近,且在所述工序(a)中以远离所述第一蚀刻液的方式被吹送至旋转的部位。5.根据权利要求2至4中任一项所述的基材的表面处理方法,其特征在于,所述工序(c)中,所述第二蚀刻液被喷出的角度从铅直方向倾斜45°以上且小于90°。6.根据权利要求1至5中任一项所述的基材的表面处理方法,其特征在于,所述基材为,由Al-Mg-Si系的铝合金形成并被实施了机械镜面加工的铝基材。7.根据权利要求1至6中任一项所述的基材的表面处理方法,其特征在于,所述第一蚀刻液为,包含氟化氢与铵的盐的水溶液。8.根据权利要求7所述的基材的表面处理方法,其特征在于,所述氟化氢与铵的盐为氟化铵。9.根据权利要求1至8中任一项所述的基材的表面处理方法,其特征在于,还包含:在所述工序(b)之前,使所述基材的外周面的一部分与不同于所述第一蚀刻液的第三蚀刻液接触的工序(b1),所述第三蚀刻液相对于所述基材的外周面的蚀刻率低于所述第一蚀刻液相对于所述基材的外周面的蚀刻率。10.根据权利要求9所述的基材的表面处理方法,其特征在于,所述第三蚀刻液为将所述第一蚀刻液稀释而得到的蚀刻液。11.根据权利要求9或10所述的基材的表面处理方法,其特征在于,所述第三蚀刻液的温度低于所述第一蚀刻液。12.根据权利要求9至11中任一项所述的基材的表面处理方法,其特征在于,所...

【专利技术属性】
技术研发人员:林秀和山田信明合田洋寺下慎一
申请(专利权)人:夏普株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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