用于在基板上真空沉积的设备和用于在真空沉积期间掩蔽基板的方法技术

提供用于在基板上真空沉积的设备。所述设备包括：真空腔室，所述真空腔室具有沉积区域；一个或多个沉积源，所述一个或多个沉积源位于沉积区域中并且经构造以在基板沿着运输方向被运输通过一个或多个溅射沉积源时在基板上真空沉积；和掩蔽布置，所述掩蔽布置位于沉积区域中并且经构造以在基板通过掩蔽布置和一个或多个沉积源时掩蔽基板的第一边缘部分和第二边缘部分中的至少一者。第一边缘部分和第二边缘部分是基板的相对边缘部分。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于在基板上真空沉积的设备和用于在真空沉积期间掩蔽基板的方法
本公开内容的实施方式涉及用于在基板上真空沉积的设备和用于在真空沉积期间掩蔽基板的方法。本公开内容的实施方式具体地涉及经构造以用于动态溅射沉积的设备和在基板被运输通过静态掩蔽布置时使用静态掩蔽布置掩蔽基板的方法。
技术介绍
用于在基板上层沉积的技术例如包括溅射沉积、热蒸发和化学气相沉积。溅射沉积工艺可用于在基板上沉积材料层，诸如导电材料层或绝缘材料层。在溅射沉积工艺期间，具有待沉积在基板上的靶材材料的靶材被等离子体区域中产生的离子轰击以将靶材材料的原子从靶材的表面除去。除去原子可以在基板上形成材料层。在反应溅射沉积工艺中，除去原子可以与等离子体区域中的气体(例如，氮或氧)反应以在基板上形成靶材材料的氧化物、氮化物或氮氧化物。基板(诸如玻璃基板)可以在基板处理期间被支撑在载体上。载体驱动基板通过处理系统。掩蔽布置可以提供在载体处以掩蔽基板，其中材料沉积在暴露的基板部分上。掩蔽布置可由载体的框架提供或可提供为安装在载体上的单独实体(separateentity)。在沉积工艺期间，材料沉积在掩蔽布置上。因此，材料将会在掩蔽布置上生长，使得掩蔽构造将会随材料生长而改变。另外，具有掩蔽布置的载体具有必须被运输通过处理系统的增加的重量。此外，掩蔽布置需要频繁地清洁和/或替换，以便允许适当地掩蔽。鉴于上文，克服本领域的问题中的至少一些的用于在基板上真空沉积的新颖设备和用于在真空沉积期间掩蔽基板的新颖方法是有益的。本公开内容的目的具体地是提供允许在增加的时间段内实现改进的掩蔽的设备和方法。
技术实现思路
鉴于上文，提供了用于在基板上真空沉积的设备和用于在真空沉积期间掩蔽基板的方法。本公开内容的另外方面、益处和特征从权利要求书、说明书和附图显而易见。根据本公开内容的一个方面，提供了用于在基板上真空沉积的设备。所述设备包括：真空腔室，所述真空腔室具有沉积区域；一个或多个沉积源，所述一个或多个沉积源位于沉积区域中并且经构造以在基板沿着运输方向被运输通过一个或多个溅射沉积源时在基板上真空沉积；和掩蔽布置，所述掩蔽布置位于沉积区域中并且经构造以在基板通过掩蔽布置和一个或多个沉积源时掩蔽基板的第一边缘部分和第二边缘部分中的至少一者，其中第一边缘部分和第二边缘部分是基板的相对边缘部分。根据本公开内容的另一方面，提供了在用于在基板上真空沉积的设备中使用的掩蔽布置。掩蔽布置经构造以安装在所述设备的真空腔室中，相对于基板的运输方向是静止的。掩蔽布置经构造以在基板在真空沉积工艺期间通过掩蔽布置时掩蔽基板的第一边缘部分和第二边缘部分中的至少一者，其中第一边缘部分和第二边缘部分是基板的相对边缘部分。根据本公开内容的另一方面，提供了在用于在基板上真空沉积的设备中使用的掩蔽布置。掩蔽布置经构造以安装在所述设备的真空腔室中，相对于基板的运输方向是静止的。掩蔽布置经构造以在基板在真空沉积工艺期间通过掩蔽布置时掩蔽基板的第一边缘部分和第二边缘部分中的至少一者，其中第一边缘部分和第二边缘部分是基板的相对边缘部分。掩蔽布置包括第一掩蔽装置和第二掩蔽装置，第一掩蔽装置经构造以掩蔽基板的第一边缘部分，第二掩蔽装置经构造以掩蔽基板的第二边缘部分，其中第一掩蔽装置经构造以能够在不同于运输方向的第一方向上移动，并且其中第二掩蔽装置经构造以能够在不同于运输方向的第二方向上移动。根据本公开内容的另一方面，提供了用于在真空沉积期间掩蔽基板的方法。所述方法包括：在基板通过设备的掩蔽布置和一个或多个沉积源时使用掩蔽布置掩蔽基板的第一边缘部分和第二边缘部分中的至少一者，其中第一边缘部分和第二边缘部分是基板的相对边缘部分，并且其中掩蔽布置相对于基板的运输方向是静止的。实施方式还涉及了用于进行披露的方法的设备并且包括用于执行每个描述的方法方面的设备零件。这些方法方面可借助于硬件部件、由适当的软件编程的计算机、这两者的任何组合或以任何其他方式执行。此外，根据本公开内容的实施方式还涉及了用于操作描述的设备的方法。用于操作描述的设备的方法包括用于进行设备的每一功能的方法方面。附图说明为了能够详细地理解本公开内容的上述特征，在上文简要概述的本公开内容的更具体的描述可参照实施方式来进行。附图涉及本公开内容的实施方式，并且描述如下：图1示出了根据本文所述的实施方式的用于在基板上真空沉积的设备的示意性俯视图。图2示出了图1的设备的示意性侧视图；图3示出了图1和图2的设备的示意性前视图；图4示出了根据本文所述的实施方式的掩蔽布置的示意图；图5示出了根据本文所述的另外实施方式的掩蔽布置的示意图；和图6示出了根据本文所述的实施方式的用于在真空沉积期间掩蔽基板的方法的流程图。具体实施方式现在将详细地参照本公开内容的各种实施方式，这些实施方式的一个或多个示例示出于附图中。在下文对附图的描述内，相同的元件符号是指相同的部件。仅描述了相对于单独实施方式的差异。每个示例以解释公开内容的方式提供，而不表示本公开内容的限制。另外，被示出或描述为一个实施方式的一部分的特征可以用于其他实施方式或与其他实施方式结合而产生另一实施方式。描述应当包括这样的修改和变化。在真空沉积工艺期间，材料沉积在掩蔽布置上。材料积聚在掩蔽布置上，使得掩蔽构造将会随材料生长而变化。有益地，装置被频繁地清洁和/或替换，以便允许适当地掩蔽。另外，掩蔽布置可以提供在载体处或由载体提供，载体在其被驱动通过设备时保持基板。具有掩蔽布置的载体具有要被运输通过设备的增加的重量，从而使载体的搬运更复杂。此外，每个载体配备有相应的掩蔽布置。载体的制造和/或维护的复杂性和成本增加。本公开内容提供了设置在真空腔室的沉积区域中的静态掩蔽布置。掩蔽布置设置在真空腔室内并且在掩蔽基板期间不沿着基板的运输方向移动。具体地，掩蔽装置不提供在载体处或连接到载体。相反，掩蔽布置被提供为远离载体的单独实体。具体地，掩蔽布置在真空沉积工艺期间不接触载体和/或基板。基板并具体是具有基板定位在其上的载体在真空沉积工艺期间被传输通过静态掩蔽布置(例如，在排队式(in-line)处理设备中)，使得材料可沉积在基板的暴露部分上。术语“掩蔽”可包括减少或隐藏材料在基板的一个或多个区域(诸如边缘区域)上的沉积。本公开内容的实施方式可降低载体的复杂性，从而最小化载体的制造和/或维护的成本。载体的重量可减小，从而便于对载体的搬运。另外，一个单一掩蔽布置被提供用来掩蔽在真空沉积工艺期间被运输通过掩蔽布置的多个基板，从而有利于掩蔽布置的清洁工艺。具体地，仅静态掩蔽布置需要被清洁，而不需要清洁多个掩蔽布置，一个掩蔽布置提供在一个载体处。静态掩蔽布置的一个或多个优点是掩模的环境条件不改变。由于掩模不随着每个载体和基板而移动进出真空系统，因此掩模不经历温度偏差(temperatureexcursion)并且不暴露于在真空系统外的环境湿气下。这是有益的，因为这两个条件可导致掩模上的沉积材料的应力和粘附性的变化，从而导致沉积物的脱落和在基板上的颗粒相关缺陷。此外，一旦载体和掩模随要沉积的新的(fresh)基板重新进入真空系统，如果积聚在沉积物中和沉积物上的湿气释放，那么该湿气对沉积在基板上的膜可能有害。设备可经构造以用于动态真空沉积工艺。动态真本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在基板上真空沉积的设备，包括：真空腔室，所述真空腔室具有沉积区域；一个或多个沉积源，所述一个或多个沉积源位于所述沉积区域中并且经构造以在所述基板沿着运输方向被运输通过所述一个或多个溅射沉积源时在所述基板上真空沉积；和掩蔽布置，所述掩蔽布置位于所述沉积区域中并且经构造以在所述基板通过所述掩蔽布置和所述一个或多个沉积源时掩蔽所述基板的第一边缘部分和第二边缘部分中的至少一者，其中所述第一边缘部分和所述第二边缘部分是所述基板的相对边缘部分。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.10.25 US 62/246,095;2015.10.26 US 62/246,401;1.一种用于在基板上真空沉积的设备，包括：真空腔室，所述真空腔室具有沉积区域；一个或多个沉积源，所述一个或多个沉积源位于所述沉积区域中并且经构造以在所述基板沿着运输方向被运输通过所述一个或多个溅射沉积源时在所述基板上真空沉积；和掩蔽布置，所述掩蔽布置位于所述沉积区域中并且经构造以在所述基板通过所述掩蔽布置和所述一个或多个沉积源时掩蔽所述基板的第一边缘部分和第二边缘部分中的至少一者，其中所述第一边缘部分和所述第二边缘部分是所述基板的相对边缘部分。2.如权利要求1所述的设备，其中所述第一边缘部分是所述基板的上缘部分并且所述第二边缘部分是所述基板的下缘部分，具体地，其中所述基板被保持为实质上平坦的，并且所述基板的平面是竖直地取向的。3.如权利要求1或2所述的设备，其中所述掩蔽布置经构造以能够在不同于所述运输方向的方向上移动。4.如权利要求3所述的设备，其中基板运动是实质上水平的，和/或所述掩蔽布置经构造以能够在竖直方向上移动。5.如权利要求3或4所述的设备，进一步包括一个或多个致动器，所述一个或多个致动器经构造以连续地或逐步地移动所述掩蔽布置。6.如权利要求5所述的设备，其中所述一个或多个致动器经构造以在以下情况中的至少一者下移动所述掩蔽布置：(i)在所述基板通过所述掩蔽布置时；(ii)在所述基板通过所述掩蔽布置之前；(iii)在所述基板通过所述掩蔽布置之后。7.如权利要求1至6中任一项所述的设备，其中所述掩蔽布置包括第一掩蔽装置和第二掩蔽装置，所述第一掩蔽装置经构造以掩蔽所述基板的所述第一边缘部分，所述第二掩蔽装置经构造以掩蔽所述基板的所述第二边缘部分。8.如权利要求7所述的设备，其中所述第一掩蔽装置经构造以能够在垂直于所述运输方向的第一方向上移动，并且其中所...

【专利技术属性】
技术研发人员：约翰·M·怀特，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国,US