掩膜版框架制造技术

本实用新型专利技术公开一种掩膜版框架，其包括依次连接的多条边框，多条边框闭合形成开口。其中，边框底部开设有开槽，开槽的延伸方向与边框的延伸方向相同，且开槽的两端未延伸至边框的两端部。本实用新型专利技术提出的掩膜版框架，通过在边框的底部开设开槽的结构设计，在蒸镀过程中，能够改善掩膜版框架的边框中部下垂的问题，保证掩膜版框架各位置与基板之间良好的贴合效果，避免混色问题的产生。同时，由于掩膜版框架的边框部分挖去而形成开槽，使得掩膜版框架的重量减小，有利于满足元件轻量化的要求。

Mask plate frame

The utility model discloses a mask plate frame, which comprises a plurality of border frames sequentially connected, and a plurality of frames are closed to form openings. The bottom of the frame is provided with slotting, and the extension direction of the groove is the same as the extension direction of the frame, and the two ends of the slot are not extended to the two ends of the border frame. The mask plate frame proposed by the utility model is designed by opening the structure of slotting in the bottom of the frame. During the process of evaporation, it can improve the droop in the middle of the frame of the mask plate frame, and ensure the good bonding effect between the position of the mask plate frame and the base plate, and avoid the production of the color mixing problem. At the same time, because the frame portion of the mask frame is excavated to form slotting, the weight of the mask plate frame is reduced, which is beneficial to meet the requirements of lightweight components.

【技术实现步骤摘要】
掩膜版框架
本技术涉及OLED器件制造领域，尤其涉及一种掩膜版框架。
技术介绍
平板显示器件主要包括LCD显示器件、OLED显示器件、PDP显示器件和电子墨水显示器件等多种类型。其中，OLED显示器件具有轻薄、低功耗、高对比度、高色域和可以实现柔性显示等优点，是下一代显示器的发展趋势。OLED显示器件可进一步包括PMOLED和AMOLED类型，其中AMOLED显示的实现方式包含LTPS背板和精细金属掩膜(FMMMask)结合的方式以及Oxide背板、WOLED和彩膜结合的方式。前者主要应用于小尺寸面板，例如手机或其他移动设备，后者主要应用于大尺寸面板，例如显示面板和电视等应用。现在LTPS背板和FMMMask结合的方式已经初步成熟，实现了量产。承上，由于掩膜版在设计和制作时存在问题，导致目前的掩膜版框架四边平坦度呈现类似开口向上的抛物线函数曲线。因此导致在蒸镀时，抛物线的最低点及附近位置与玻璃贴合的状态较差，容易导致混色出现。
技术实现思路
本技术的一个主要目的在于克服上述现有技术的至少一种缺陷，提供一种平坦度较高且与基板的贴合状态较佳的掩膜版框架。为实现上述目的，本技术采用如下技术方案：根据本技术的一个方面，提供一种掩膜版框架，其中，所述掩膜版框架包括依次连接的多条边框，多条所述边框闭合形成开口。所述边框底部开设有开槽，所述开槽的延伸方向与所述边框的延伸方向相同，且所述开槽的两端未延伸至所述边框的两端部。根据本技术的其中一个实施方式，所述开槽位于所述边框的延伸方向上的中部位置。根据本技术的其中一个实施方式，所述开槽的高度由其中央至两端渐缩。根据本技术的其中一个实施方式，所述开槽在延伸方向上呈弓形。根据本技术的其中一个实施方式，所述边框的内侧壁与所述掩膜版框架所在平面具有一倾斜角度，所述开槽具有形成在所述内侧壁的槽壁和槽底，所述槽壁沿所述延伸方向开设且垂直于所述掩膜版框架所在平面，所述槽底一侧连接所述槽壁，另一侧邻接所述内侧壁。根据本技术的其中一个实施方式，所述槽壁具有第一侧边和第二侧边，所述第一侧边两端分别连接于所述第二侧边两端，所述第一侧边为直线形，所述第一侧边与所述第二侧边的间距由所述槽壁的中央至两端渐缩。根据本技术的其中一个实施方式，所述第二侧边在延伸方向上呈圆弧形。根据本技术的其中一个实施方式，所述开槽在所述边框的宽度方向上贯通所述边框的两侧。由上述技术方案可知，本技术提出的掩膜版框架的优点和积极效果在于：本技术提出的掩膜版框架，通过在边框的底部开设开槽的结构设计，在蒸镀过程中，能够改善掩膜版框架的边框中部下垂的问题，保证掩膜版框架各位置与基板之间良好的贴合效果，避免混色问题的产生。同时，由于掩膜版框架的边框部分挖去而形成开槽，使得掩膜版框架的重量减小，有利于满足元件轻量化的要求。附图说明通过结合附图考虑以下对本技术的优选实施方式的详细说明，本技术的各种目标、特征和优点将变得更加显而易见。附图仅为本技术的示范性图解，并非一定是按比例绘制。在附图中，同样的附图标记始终表示相同或类似的部件。其中：图1是现有掩膜版框架的结构示意图；图2是图1中示出的现有掩膜版框架的平坦度曲线示意图；图3a和图3b是一种结构的形变原理示意图；图4是根据一示例性实施方式示出的一种掩膜版框架的结构示意图；图5是图1中沿直线E-E所作的截面图；图6是图4中沿直线F-F所作的截面图；图7是图1中沿直线M-M所作的截面图；图8是图4中沿直线N-N所作的截面图。具体实施方式体现本技术特征与优点的典型实施例将在以下的说明中详细叙述。应理解的是本技术能够在不同的实施例上具有各种的变化，其皆不脱离本技术的范围，且其中的说明及附图在本质上是作说明之用，而非用以限制本技术。在对本技术的不同示例性实施方式的下面描述中，参照附图进行，所述附图形成本技术的一部分，并且其中以示例方式显示了可实现本技术的多个方面的不同示例性结构、系统和步骤。应理解的是，可以使用部件、结构、示例性装置、系统和步骤的其他特定方案，并且可在不偏离本技术范围的情况下进行结构和功能性修改。而且，虽然本说明书中可使用术语“底部”、“之间”、“端部”等来描述本技术的不同示例性特征和元件，但是这些术语用于本文中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。本说明书中的任何内容都不应理解为需要结构的特定三维方向才落入本技术的范围内。参阅图4，其代表性地示出了本技术提出的掩膜版框架的结构示意图。在该示例性实施方式中，本技术提出的掩膜版框架是以应用于OLED显示器件的掩膜版张网工艺中的掩膜版框架为例进行说明的。本领域技术人员容易理解的是，为将本技术的相关设计应用于其他类型的显示器件或其他工艺中，而对下述的具体实施方式做出多种改型、添加、替代、删除或其他变化，这些变化仍在本技术提出的掩膜版框架的原理的范围内。参阅图1和图2，图1中示出了一种现有掩膜版框架110的结构示意图；图2中示出了上述现有掩膜版框架110的平坦度曲线示意图。以下结合上述附图，对与本技术较为相关的
技术介绍
进行进一步详细说明。如图1所示，以OLED显示器件的掩膜版张网工艺为例，掩膜版框架110是设置在基板(例如玻璃基板)的一表面上。掩膜版框架110主要包括依次连接的四条边框111，这些边框111闭合形成开口130而供掩膜版设置。其中，掩膜版框架110倒置于蒸镀源上方进行蒸镀时，掩膜版框架110的四边部分因重力而产生下垂，导致掩膜版框架110的平坦度异常，从而使掩膜版框架110与基板的贴合度不佳。承上，使用相关检测设备按照图1中现有的掩膜版框架110上A→B→C→D→A(A、B、C、D分别为掩膜版框架110的四角位置，即各条边框111的端点位置)的测量路径对掩膜版框架110的平坦度进行测量，得到如图2示出的平坦度曲线。可以看出，掩膜版框架110的四条边框111的平坦度曲线明显呈开口130向上的抛物线函数曲线，即边框111中部的下垂导致其相对于边框111两端的平坦度下降。参阅3a和图3b，其分别示出一种结构的形变原理示意图。具体而言，当在图3a示出的板体310底部开设一开槽320时，板体310本身会因该开槽320的开设而产生图3b示出的形变状态，即板体310会朝向开槽320开设位置的反方向产生上拱形变。基于上述结构的形变原理，本技术即为在现有掩膜版框架110的结构基础上进行的改进设计。如图4所示，在本实施方式中，本技术提出的掩膜版框架410主要包括依次连接的多条边框411以及开设在边框411底部的弓形槽412。配合参阅图5至图8，图5中示出了沿图1的直线E-E所作的截面图；图6中示出了沿图4的直线F-F所作的截面图，并可据此与图5示出的截面图形成对比；图7中示出了沿图1的直线M-M所作的截面图；图8中示出了沿图4的直线N-N所作的截面图，并可据此与图7示出的截面图形成对比。以下结合上述附图，对本技术提出的掩膜版框架410的结构、连接方式或功能关系进行详细说明。如图4所示，在本实施方式中，掩膜版框架410包括四条边框411，且四条边框411依次连接且闭合形成开口430。其中，掩膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜版框架，其特征在于，所述掩膜版框架包括依次连接的多条边框，多条所述边框闭合形成开口，所述边框底部开设有开槽，所述开槽的延伸方向与所述边框的延伸方向相同，且所述开槽的两端未延伸至所述边框的两端部。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版框架，其特征在于，所述掩膜版框架包括依次连接的多条边框，多条所述边框闭合形成开口，所述边框底部开设有开槽，所述开槽的延伸方向与所述边框的延伸方向相同，且所述开槽的两端未延伸至所述边框的两端部。2.根据权利要求1所述的掩膜版框架，其特征在于，所述开槽位于所述边框的延伸方向上的中部位置。3.根据权利要求1所述的掩膜版框架，其特征在于，所述开槽的高度由其中央至两端渐缩。4.根据权利要求3所述的掩膜版框架，其特征在于，所述开槽在延伸方向上呈弓形。5.根据权利要求1所述的掩膜版框架，其特征在于，所述边框的内侧壁与所述掩膜版框架所在平面具...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙朴，林治明，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：新型
国别省市：北京,11