一种耐水耐高温的偏光片及制备工艺制造技术

技术编号:18137227 阅读:110 留言:0更新日期:2018-06-06 11:03
本发明专利技术涉及一种耐水耐高温的偏光片及制备工艺,由保护膜、上TAC、第一UV接着剂层、偏光子层、第二UV接着剂层、下TAC、PSA层、离型膜依次堆叠而成;上TAC采用水分透过率<200g/m

A kind of polarizing film and preparation technology for water resistance and high temperature resistance

The present invention relates to a kind of water resistant and high temperature resistant polarizing film and preparation process. It is made up of protective film, upper TAC, first UV next layer, polarizing layer, second UV next agent layer, lower TAC, PSA layer, and off type membrane; the upper TAC uses water transmittance < 200g/m

【技术实现步骤摘要】
一种耐水耐高温的偏光片及制备工艺
本专利技术涉及一种耐水耐高温的偏光片及制备工艺。
技术介绍
偏光板被广泛应用于液晶显示器等显示装置,特别是近年来人工智能的高速发展,液晶显示器应用范围越来越广,使用环境和需求的多样化,导致了市场对偏光片耐水性、耐高温高湿性能越来越严格。而目前的偏光片,液晶面板在储存运输过程中水气对偏光片的侵蚀;偏光片高温信赖性测试中长波段漏光赤化偏红。
技术实现思路
为了克服上述缺陷,本专利技术提供一种提高偏光片的耐水性能、提高偏光片的光学耐高温性能的耐水耐高温的偏光片及制备工艺,能够避免液晶面板在储存运输过程中水气对偏光片的侵蚀;防止偏光片高温信赖性测试中长波段漏光赤化偏红。为了实现上述专利技术目的,本专利技术采用的技术方案为:一种耐水耐高温的偏光片,其特征在于:由保护膜、上TAC、第一UV接着剂层、偏光子层、第二UV接着剂层、下TAC、PSA层、离型膜依次堆叠而成;上TAC采用水分透过率&lt;100g/m2.d的材料,厚度在20~120um,光学透过率88%以上。保护膜通过涂布在保护膜基材上的压敏胶与上TAC贴合。上TAC用于保护偏光子层;第一UV接着剂层和第二UV接着剂层为疏水性材料,防止水分进入偏光子层,通过紫外线进行硬化,以用于连接上TAC和偏光子层;偏光子层:通过PVA原膜的染色、延伸、干燥的制程工艺,通过I3-,I5-对光线的吸收,使非偏振光变成偏正光,从而控制光路;偏光子层由PVA制成。下TAC采用水分透过率&lt;500g/m2.day的透明薄膜材料,光学透过率88%以上。PSA层由丙烯酸酯类主剂和添加剂混合后,涂布在离型膜上,经干燥后与保护膜、上TAC、偏光子、下TAC组成的层叠体贴合。离型膜光线透过度&gt;89%,光轴&lt;12°;离型膜易与PSA剥离。第一UV接着剂层和第二UV接着剂层采用UV硬化型接着剂,UV光敏引发剂选用自由基型光敏引发剂;单体选择含有-OH的低聚物;第一UV接着剂层和第二UV接着剂层使用紫外线进行硬化,UV照射波长为200nm~400nm,厚度分别为0.1um~5um。耐水耐高温的偏光片的制备方法,其特征在于,制程工艺如下:PVA染色→延伸→补色→偏光子热干燥→PVA两面水系接着剂涂布+上/下TAC贴合→UV紫外线硬化。偏光子热干燥后的偏光片单体色相b控制在0.5~3.5之间,贴合干燥(指上/下TAC贴合和UV紫外线硬化步骤之间进行的干燥)后的偏光片单体色相b值控制在1.5~4.5之间。优选的,偏光子干燥后的偏光片单体色相b控制在1.5~2.5之间,贴合干燥后的偏光片单体色相b值控制在2.5~3.5之间。延伸、补色槽KI浓度&lt;7%,热干燥和贴合干燥时温度范围40~100℃。相对于现有技术,本专利技术实现以下有益效果:提高偏光片的耐水性能,避免液晶面板在储存运输过程中水气对偏光片的侵蚀;提高偏光片的光学耐高温性能,防止偏光片高温信赖性测试中长波段漏光赤化偏红。附图说明图1为本专利技术的偏光片结构示意图;图2为I3-、I5-的吸收光谱图;图3为X、Y、Z与各波段的对照图;图4为耐水/湿性评价示意图。具体实施方式下面结合实施例对本专利技术作更进一步的说明。偏光片结构如图1所示,具体组成为:①保护膜:保护膜通过涂布在保护膜基材上的压敏胶与上TAC进行贴合。保护膜主要作用是防止制程工艺中,上TAC受到损伤;同时保护膜外表面具有防污、防静电等特效;②上TAC:保护偏光子层不受外界的破坏、防眩光、抗划伤、抗污染等作用;上TAC主要成分为100%聚对苯二甲酸乙二醇酯,厚度为20~120um;或基材为100%聚对苯二甲酸乙二醇酯,基材表面设有表面处理层(处理层厚度在1um~7um,由1%~5%二氧化硅silica和95%~99%酰化物Acylate组成,百分比为质量分数);亦可为100%亚克力膜或100%亚克力膜+位于膜表面的表面处理层(厚度在1um~7um,1%~5%silica+95%~99%Acylate)。③第一UV接着剂层:很好的疏水性防止水分进入偏光子层,通过紫外线进行交联硬化,从而起到连接上/下TAC和偏光子层的作用;UV接着剂层厚度为0.1um~5um,主要成分为聚合物、光敏引发剂。聚合物由聚合物单体聚合而来,聚合物单体可选择IBOA、IBOMA、HEMA、TPGDA、HDDA、TMPTA、PETA等低聚物;光敏引发剂选择自由基型光敏引发剂,具体物质可选用:安息香及其衍生物、苯乙酮衍生物、芳香酮类化合物和酰基膦氧化物的一种或几种。④偏光子层:通过PVA原膜的染色、延伸、干燥等制程工艺,通过I3-,I5-对光线的吸收,使非偏振光变成偏正光,从而实现控制光路的作用;偏光子层主要为99%以上的聚乙烯醇膜以及附着在膜上的I3-、I5-等碘类染色物质;百分比为质量百分比。⑤第二UV接着剂层:疏水性材料,透水性差,通过紫外线进行铰链硬化,从而起到连接下TAC和偏光子层的作用(作用机理同③);具体成分同③。⑥下TAC层:下TAC主要保护偏光子不受外界伤害以及防止偏光片收缩,另外可以赋予下TAC位相差的光学特性,以提高液晶面板的视野角;下TAC的主要成分可以为三醋酸纤维素、PMMA、COP的一种或几种。⑦PSA胶:由丙烯酸酯类主剂和添加剂混合后,涂布在离型膜上,经烤箱干燥后与层叠体(保护膜+上TAC+偏光子+下TAC)贴合;PSA胶主要由主剂(5%~20%丙烯酸酯类聚合物+80%~95%乙酸乙酯溶剂,丙烯酸酯类分子量在50万~250万)、10%~50%溶剂(乙酸乙酯或甲苯或丁酮类溶剂)、0.01%~2%硬化剂(异氰酸酯或环氧树脂类化学物质)、0.01%~2%硅烷偶联剂、0.1%~2%导电剂(三氟甲烷类锂盐或氮的鎓盐)组成;以上组成物涂布在离型膜上后,通过在烤箱中热量的作用下,溶剂进行挥发已经硬化剂与主剂发生铰链作用,形成高聚物。其中百分比为质量百分比。⑧离型膜:透光性能优秀,光线透过度&gt;89%,光轴&lt;12°;有很好的离型性,能轻易与PSA剥离,且不会有PSA脱落、蚯蚓纹等不良产生;离型膜材质主要为PET,耐热性能优秀,抗变形能力强。离型膜的主要成分是PET成分,并且在PET的一面涂有硅油类的离型剂,离型剂厚度大概在500nm以下,使离型膜与PSA之间有很好的离型性。离型膜的厚度在30um~60um之间。实施例一-----耐水性、耐高温性能的提升(防止偏光片受外界水分的侵蚀)②层上TAC:使用材料为疏水性材料或疏水性材料外加表面处理(防眩光作用),优选水分透过率&lt;100g/m2.day(WVTR)材料,厚度在20~120um,光学透过率88%以上塑料透明薄膜材料,如PET,PMMA等透水率比较低的材料。③&⑤层:使用UV硬化型接着剂,该UV接着剂硬化机理如下◆吸收absorbation◆能量转换energyconversionPI*→I(共价键断裂,变成自由基)◆聚合polymerizationI+单体→聚合物(自由基和单体进行聚合反应)该UV光敏引发剂选用自由基型光敏引发剂,可选用:安息香及其衍生物、苯乙酮衍生物、芳香酮类化合物和酰基膦氧化物等;单体:选择含有-OH的低聚物本文档来自技高网...
一种耐水耐高温的偏光片及制备工艺

【技术保护点】
一种耐水耐高温的偏光片,其特征在于:由保护膜、上TAC、第一UV接着剂层、偏光子层、第二UV接着剂层、下TAC、PSA层、离型膜依次堆叠而成;上TAC采用水分透过率<200g/m

【技术特征摘要】
1.一种耐水耐高温的偏光片,其特征在于:由保护膜、上TAC、第一UV接着剂层、偏光子层、第二UV接着剂层、下TAC、PSA层、离型膜依次堆叠而成;上TAC采用水分透过率&lt;200g/m2.d的材料,厚度在20~120um,光学透过率88%以上。2.根据权利要求1所述的一种耐水耐高温的偏光片,其特征在于:保护膜通过涂布在保护膜基材上的压敏胶与上TAC贴合。3.根据权利要求1所述的一种耐水耐高温的偏光片,其特征在于:上TAC用于保护偏光子层;第一UV接着剂层和第二UV接着剂层为疏水性材料,防止水分进入偏光子层,通过紫外线进行硬化,以用于连接上TAC和偏光子层;偏光子层:通过PVA原膜的染色、延伸、干燥的制程工艺,通过染色子I3-,I5-对光线的吸收,使非偏振光变成偏正光,从而控制光路;偏光子层由PVA制成。4.根据权利要求1所述的一种耐水耐高温的偏光片,其特征在于:下TAC采用水分透过率&lt;500g/m2.day的透明薄膜材料,光学透过率88%以上。5.根据权利要求1所述的一种耐水耐高温的偏光片,其特征在于:PSA层由丙烯酸酯类主剂和添加剂混合后,涂布在离型膜上,经干燥后与保护膜、上TAC、偏光子、下TAC组...

【专利技术属性】
技术研发人员:朱洪彬
申请(专利权)人:昆山之奇美材料科技有限公司
类型:发明
国别省市:江苏,32

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