The invention belongs to the technical field of optical element performance detection equipment, in particular to a test bench for optical element performance detection and a test bench installation method. The bench consists of a base and a worktable, which supports the worktable and can drive the worktable to move together. The worktable is provided with a lateral adjustment unit, the base seat includes a supporting plate, and a movable unit is provided below the support plate, and the movable unit and the supporting plate are provided with a movable unit. The height adjustment unit is provided with a longitudinal adjustment unit on the two symmetrical surfaces above the support plate, and a vertical limit unit is provided on the left and right sides of the test rig. By using the test rig and the installation method for the performance detection of optical components, the invention can provide an adjustable installation datum for the worktable, and the device itself can realize the translation movement, and the handling process is simplified without the aid of the external tools during the handling of the workpiece.
【技术实现步骤摘要】
用于光学元件性能检测的试验台及试验台安装方法
本专利技术属于光学元件性能检测设备
,具体涉及一种用于光学元件性能检测的试验台及试验台安装方法。
技术介绍
在光学性能参数的检测、光源性能参数检测及光刻等领域,要得到高质量的成像,检测系统必须具备精确调平调焦和对准功能,因此都需要用到工件台来实现对准和调焦功能,并且要求工件台六自由可调和超高的位置控制精度。目前高精度的工件台的长行程采用直线电机驱动控制、短行程采用微位移驱动器控制这样一种由粗到精的控制策略实现的。为了保证工件台位置控制的高精度,通常会引入六维激光干涉仪检测系统,用于检测和反馈工件的位置信息,消除和减小由于机械膨胀、振动等因素带来的误差。由于工件台的控制精度要求极高,所以其自身结构、支撑结构、安装基础结构都必须满足:高刚性、高稳定性以及轻量化,有利于高精度和高响应的运动控制。为了达到高刚性、高稳定性,工件台的支撑子系统大多采用低膨胀率材料,对于成熟的光刻设备,工件台的模块化成度非常高。为了搬运和安装方便,在底部会设计气垫支撑,在结构的侧面会设计电动的定位与锁死机构。这样会使整个系统过于复杂化,虽然精度高,装调自动化程度高,功能全,但系统结构复杂、产品体积大、质量重且价格昂贵。此类设备均为专门订制设备,通常是针对光刻设备供应。对于一些检测实验、不追求产率、较少自由度需求的应用场合并不适合。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决上述存在的至少一个问题,该目的是通过以下技术方案实现的。本专利技术提出了一种用于光学元件性能检测的试验台,其中包括基座和工件台,所述基座用于支撑所述工件台并能够带动所述工 ...
【技术保护点】
用于光学元件性能检测的试验台,其特征在于,包括基座和工件台,所述基座用于支撑所述工件台并能够带动所述工件台共同移动,所述工件台的两个相反的侧面上设有横向调节单元,所述基座包括支撑板,所述支撑板的下方设有可移动单元,所述可移动单元和所述支撑板之间设有高度调节单元,所述支撑板的上方设有纵向调节单元,所述试验台的左、右两侧机架上均设有纵向限位单元,当所述基座和所述工件台移动到所述试验台的左、右两侧机架之间时,所述支撑板能够与所述纵向限位单元相贴合,通过调节所述高度调节单元来降低所述支撑板的高度,能够使所述支撑板贴靠在所述试验台的左、右两侧机架之间的高度限位单元上,通过调节所述纵向调节单元能够调节所述工件台在水平面内的纵向位置,通过调节所述横向调节单元能够调节所述工件台在水平面内的横向位置。
【技术特征摘要】
1.用于光学元件性能检测的试验台,其特征在于,包括基座和工件台,所述基座用于支撑所述工件台并能够带动所述工件台共同移动,所述工件台的两个相反的侧面上设有横向调节单元,所述基座包括支撑板,所述支撑板的下方设有可移动单元,所述可移动单元和所述支撑板之间设有高度调节单元,所述支撑板的上方设有纵向调节单元,所述试验台的左、右两侧机架上均设有纵向限位单元,当所述基座和所述工件台移动到所述试验台的左、右两侧机架之间时,所述支撑板能够与所述纵向限位单元相贴合,通过调节所述高度调节单元来降低所述支撑板的高度,能够使所述支撑板贴靠在所述试验台的左、右两侧机架之间的高度限位单元上,通过调节所述纵向调节单元能够调节所述工件台在水平面内的纵向位置,通过调节所述横向调节单元能够调节所述工件台在水平面内的横向位置。2.根据权利要求1所述的用于光学元件性能检测的试验台,其特征在于,所述可移动单元为滚轮。3.根据权利要求2所述的用于光学元件性能检测的试验台,其特征在于,所述高度调节单元包括滚轮支架、高度调节螺母和锁紧螺母,所述滚轮通过所述滚轮支架连接于所述支撑板的下方,所述高度调节螺母设于所述滚轮支架的下方,用于调节所述滚轮支架的高度,所述锁紧螺母设于所述滚轮支架的上方,用于锁紧所述滚轮支架并固定所述滚轮支架的高度。4.根据权利要求1所述的用于光学元件性能检测的试验台,其特征在于,所述纵向调节单元包括纵向固定板和纵向调节螺钉,所述纵向固定板为L型固定板,所述纵向固定板的一个板面垂直于所述支撑板的上表面,所述纵向固定板的另一个板面与所述支撑板的上表面相贴合并通过螺栓连接固定于所述支撑板的上表面,所述纵向调节螺钉设于所述纵向固定板的所述一个...
【专利技术属性】
技术研发人员:齐威,齐月静,王宇,卢增雄,李兵,
申请(专利权)人:中国科学院光电研究院,
类型:发明
国别省市:北京,11
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