显示基板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

技术编号:18052422 阅读:35 留言:0更新日期:2018-05-26 09:32
本发明专利技术提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置,属于显示技术领域。其中,显示基板,包括弯折区域,所述弯折区域涂覆有流变性材料,还包括有能够阻挡所述流变性材料流出到所述弯折区域之外的缓冲结构。通过本发明专利技术的技术方案,能够避免弯折区域涂覆的胶水留到弯折区域之外,进而保证显示装置的良率。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
,特别是指一种显示基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
现有的显示装置为了实现窄边框,会采用padBending(电路区弯折)的技术,该技术中会在Bending(弯折)区域涂覆胶水,来调整弯折区域的中性层位置,这样在弯折区域弯折时,能够使得弯折区域的走线受到的应力较小,弯折区域的走线不易损坏;同时涂覆的胶水还能够防止外部水氧对弯折区域的渗透腐蚀。然而在涂覆胶水的过程中,由于胶水具有流动性,其固化后的边缘位置难以控制,所涂覆的胶水有流到弯折区域两侧的COF(ChipOnFilm,覆晶薄膜)Bonding(绑定)区域和TPF(保护膜)区域的风险,会对COFBonding效果和TPF撕膜工艺造成影响,影响显示装置的良率。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种显示基板及其制作方法、显示装置,能够避免弯折区域涂覆的胶水留到弯折区域之外,进而保证显示装置的良率。为解决上述技术问题,本专利技术的实施例提供技术方案如下:一方面,提供一种显示基板,包括弯折区域,所述弯折区域涂覆有流变性材料,还包括有能够阻挡所述流变性材料流出到所述弯折区域之外的缓冲结构。进一步地,所述弯折区域包括弯曲边缘和非弯曲边缘,所述缓冲结构包括沿着所述非弯曲边缘设置的挡墙。进一步地,所述挡墙在垂直于其自身延伸方向上的截面包括梯形、倒梯形、三角形、半圆形、矩形中至少之一。进一步地,所述缓冲结构包括设置在所述弯折区域内的多个阵列排布的阻挡物。进一步地,所述阻挡物包括球状、圆柱状、矩形柱状中至少之一。进一步地,所述缓冲结构中对应所述弯折区域的部分,在与所述流变性材料接触的表面上设置多列凹槽,所述凹槽的延伸方向与所述弯折区域的所述非弯曲边缘大致平行。进一步地,所述凹槽在垂直于其自身延伸方向上的截面包括梯形、倒梯形、三角形、半圆形、矩形中至少之一。进一步地,所述缓冲结构中对应所述弯折区域的部分,在与所述流变性材料接触的表面上设置多个阵列排布的凹槽。进一步地,所述凹槽在垂直于所述显示基板方向上的截面包括梯形、倒梯形、半圆形、矩形中至少之一。本专利技术实施例还提供了一种显示装置,包括如上所述的显示基板。本专利技术实施例还提供了一种显示基板的制作方法,所述显示基板包括弯折区域,所述制作方法包括:在所述弯折区域涂覆流变性材料之前,形成能够阻挡所述流变性材料流出到所述弯折区域之外的缓冲结构。进一步地,所述弯折区域包括弯曲边缘和非弯曲边缘,形成所述缓冲结构包括:在所述弯折区域上形成绝缘材料层,在所述绝缘材料层上涂覆光刻胶;对所述光刻胶进行曝光,显影后形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域,所述光刻胶保留区域沿着所述非弯曲边缘延伸;去除所述光刻胶去除区域的绝缘材料层,并剥离所述光刻胶保留区域的光刻胶,形成沿着所述非弯曲边缘延伸的挡墙;或形成所述缓冲结构包括:通过喷墨打印工艺利用绝缘材料形成沿着所述非弯曲边缘延伸的挡墙。进一步地,形成所述缓冲结构包括:在所述弯折区域上形成绝缘材料层,在所述绝缘材料层上涂覆光刻胶;对所述光刻胶进行曝光,显影后形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域,所述光刻胶保留区域在所述弯折区域阵列排布;去除所述光刻胶去除区域的绝缘材料层,并剥离所述光刻胶保留区域的光刻胶,在所述弯折区域内形成多个阵列排布的阻挡物;或形成所述缓冲结构包括:通过喷墨打印工艺利用绝缘材料在所述弯折区域内形成多个阵列排布的阻挡物。进一步地,所述弯折区域包括弯曲边缘和非弯曲边缘,形成所述缓冲结构包括:在所述弯折区域上形成平坦层,在所述平坦层上涂覆光刻胶;对所述光刻胶进行曝光,显影后形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域,所述光刻胶去除区域与所述弯折区域的所述非弯曲边缘大致平行;去除所述光刻胶去除区域的平坦层,并剥离所述光刻胶保留区域的光刻胶,在所述平坦层与所述流变性材料接触的表面上形成多列凹槽,所述凹槽的延伸方向与所述弯折区域的所述非弯曲边缘大致平行。进一步地,形成所述缓冲结构包括:在所述弯折区域上形成平坦层,在所述平坦层上涂覆光刻胶;对所述光刻胶进行曝光,显影后形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域,所述光刻胶去除区域在所述弯折区域阵列排布;去除所述光刻胶去除区域的平坦层,并剥离所述光刻胶保留区域的光刻胶,在所述平坦层与所述流变性材料接触的表面上形成多个阵列排布的凹槽。本专利技术的实施例具有以下有益效果:上述方案中,在弯折区域涂覆流变性材料之前,形成缓冲结构,这样在弯折区域涂覆流变性材料时,缓冲结构能够阻挡流变性材料的流速,减缓流变性材料的流动,使得流变性材料能够在超出弯折区域之前固化,不会留到弯折区域两侧的COFBonding区域和TPF区域,从而保证显示装置的良率。附图说明图1为现有显示基板非显示区域的截面示意图;图2为现有显示基板非显示区域的平面示意图;图3为本专利技术一实施例显示基板非显示区域的截面示意图;图4为图3所示显示基板非显示区域的平面示意图;图5为本专利技术另一实施例显示基板非显示区域的截面示意图;图6为图5所示显示基板非显示区域的平面示意图;图7为本专利技术另一实施例显示基板非显示区域的截面示意图;图8为图7所示显示基板非显示区域的平面示意图。附图标记1柔性基底2无机绝缘层3第一平坦层4第二平坦层5胶水6覆晶薄膜7异方性导电胶8覆晶薄膜电路区域9第二扇形走线区域10弯折区域11挡墙12阻挡物13凹槽14第一扇形走线区具体实施方式为使本专利技术的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。现有的显示装置为了实现窄边框,会采用padBending的技术,该技术中会在弯折区域涂覆胶水,来调整弯折区域的中性层位置,这样在弯折区域弯折时,能够使得弯折区域的走线受到的应力较小,弯折区域的走线不易损坏;同时涂覆的胶水还能够防止外部水氧对弯折区域的渗透腐蚀。然而在涂覆胶水的过程中,由于胶水具有流动性,如图1和图2所示,其固化后的边缘位置难以控制,弯折区域10所涂覆的胶水5有流到弯折区域两侧的覆晶薄膜电路区域8和TPF区域的风险,会对COFBonding效果和TPF撕膜工艺造成影响,影响显示装置的良率。现有技术中,为了防止弯折区域所涂覆的胶水流到弯折区域两侧的覆晶薄膜电路区域和TPF区域,在弯折区域两侧预留比较大的涂胶流动空间,但是预留的空间比较难控制,并且这样不利于显示装置的窄边框设计。本专利技术的实施例针对上述问题,提供一种显示基板及其制作方法、显示装置,能够避免弯折区域涂覆的胶水留到弯折区域之外,进而保证显示装置的良率。本专利技术实施例提供一种显示基板,包括弯折区域,所述弯折区域涂覆有流变性材料,所述显示基板还包括能够阻挡流变性材料流出到所述弯折区域之外的缓冲结构。本实施例中,在弯折区域涂覆流变性材料之前,形成缓冲结构,这样在弯折区域涂覆流变性材料时,缓冲结构能够减缓流变性材料的流动,使得流变性材料能够在超出弯折区域之前固化,不会流到弯折区域两侧的COFBonding区域和TPF区域,从而保证显示装置的良率。所述弯折区域包括弯曲边缘和非弯曲边缘,一具体实施例中,缓冲结构可以包括沿着所述弯折区域的非弯曲边缘设置的挡墙,挡墙可以阻挡流变性材料流出到弯折区域之外的区域。具体地,所述挡墙在垂直于其自身延伸方向上的截面本文档来自技高网...
显示基板及其制作方法、显示装置

【技术保护点】
一种显示基板,包括弯折区域,所述弯折区域涂覆有流变性材料,其特征在于,还包括有能够阻挡所述流变性材料流出到所述弯折区域之外的缓冲结构。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板,包括弯折区域,所述弯折区域涂覆有流变性材料,其特征在于,还包括有能够阻挡所述流变性材料流出到所述弯折区域之外的缓冲结构。2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述弯折区域包括弯曲边缘和非弯曲边缘,所述缓冲结构包括沿着所述非弯曲边缘设置的挡墙。3.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述挡墙在垂直于其自身延伸方向上的截面包括梯形、倒梯形、三角形、半圆形、矩形中至少之一。4.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述缓冲结构包括设置在所述弯折区域内的多个阵列排布的阻挡物。5.根据权利要求4所述的显示基板,其特征在于,所述阻挡物包括球状、圆柱状、矩形柱状中至少之一。6.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述缓冲结构中对应所述弯折区域的部分,在与所述流变性材料接触的表面上设置多列凹槽,所述凹槽的延伸方向与所述弯折区域的所述非弯曲边缘大致平行。7.根据权利要求6所述的显示基板,其特征在于,所述凹槽在垂直于其自身延伸方向上的截面包括梯形、倒梯形、三角形、半圆形、矩形中至少之一。8.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述缓冲结构中对应所述弯折区域的部分,在与所述流变性材料接触的表面上设置多个阵列排布的凹槽。9.根据权利要求8所述的显示基板,其特征在于,所述凹槽在垂直于所述显示基板方向上的截面包括梯形、倒梯形、半圆形、矩形中至少之一。10.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-9中任一项所述的显示基板。11.一种显示基板的制作方法,所述显示基板包括弯折区域,其特征在于,所述制作方法包括:在所述弯折区域涂覆流变性材料之前,形成能够阻挡所述流变性材料流出到所述弯折区域之外的缓冲结构。12.根据权利要求11所述的显示基板的制作方法,其特征在于,所述弯折区域包括弯曲边缘和非弯曲边缘,形成所述缓冲结构包括:在所述弯折区域上形成绝缘材料层,在所述绝缘材料层...

【专利技术属性】
技术研发人员:乔梓蒋志亮
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司成都京东方光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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