曝光装置、曝光方法和物品的制造方法制造方法及图纸

技术编号:18048961 阅读:27 留言:0更新日期:2018-05-26 07:25
本发明专利技术涉及曝光装置、曝光方法和物品的制造方法。本发明专利技术提供曝光基板的曝光装置,所述曝光装置包括:被配置为在多个测量点中的每一个处测量基板的高度的测量单元;和被配置为基于通过测量单元获得的测量结果控制基板的高度并且控制将基板的被照区域布置在第一位置中并且曝光被照区域的操作的控制单元,其中,被照区域包含多个部分区域,以及,通过将被照区域布置在与第一位置不同的第二位置中使得布置于多个部分区域中的测量点的数量大于但将被照区域布置在第一位置中时的数量,控制单元使测量单元测量基板的高度。

【技术实现步骤摘要】
曝光装置、曝光方法和物品的制造方法
本专利技术涉及曝光装置、曝光方法和物品的制造方法。
技术介绍
近年,在半导体器件制造工艺中,采用称为FOWLP(扇出晶片级封装)的半导体器件封装方法。FOWLP是用于在通过布置和借助于成型材料固定经预处理和切割的多个半导体芯片构成的基板上通过使用曝光装置形成布线层和电极焊盘等的方法。这种基板也被称为重构基板。在曝光装置中,为了在投影光学系统的成像平面(聚焦平面)上布置基板的表面,在来自投影光学系统的光的光路区域中的多个测量点中的每一个处测量基板的高度,并且,基于测量结果执行高度方向的基板的对准。但是,例如,由于难以在重构基板上实现成型材料的平坦化或者由于去除形成于基板上的层的一部分,因此可能在要通过曝光装置经受曝光处理的目标基板上形成台阶。在这种基板中,如果测量点分别设置在由于台阶而具有彼此不同的高度的两个区域中,则变得难以基于多个测量点的测量结果在高度方向上精确地对准基板。在日本专利公开No.2002-100552中,公开了从多个测量点(传感器)的基板高度测量结果选择要用于高度方向的基板对准的测量点的方法。在曝光装置中,优选从多个测量点的测量结果使用尽可能多的测量结果,使得可以精确地执行基板在高度方向上的对准。
技术实现思路
例如,本专利技术提供有利于精确地执行基板的高度方向的对准的技术。根据本专利技术的一个方面,提供一种经由投影光学系统曝光基板的曝光装置,包括:测量单元,被配置为在来自投影光学系统的光的光路区域中的多个测量点中的每一个处测量基板的高度;和控制单元,被配置为基于通过测量单元获得的测量结果控制基板的高度和倾斜度中的至少一个,以及控制将基板的被照(shot)区域布置在第一位置中并且曝光被照区域的操作,其中,被照区域包含要在其上形成图案的多个部分区域,以及,通过将被照区域布置在与第一位置不同的第二位置中使得布置于所述多个部分区域中的测量点的数量大于当将被照区域布置在第一位置中时的数量,控制单元使测量单元测量基板的高度。根据本专利技术的一个方面,提供一种物品的制造方法,所述方法包括如下步骤:通过使用曝光装置曝光基板;显影曝光的基板;和处理经显影的基板以制造物品,其中,所述曝光装置经由投影光学系统曝光基板并且包括:测量单元,被配置为在来自投影光学系统的光的光路区域中的多个测量点中的每一个处测量基板的高度;和控制单元,被配置为基于通过测量单元获得的测量结果控制基板的高度和倾斜度中的至少一个,以及控制将基板的被照区域布置在第一位置中并且曝光被照区域的操作,其中,被照区域包含要在其上形成图案的多个部分区域,以及通过将被照区域布置在与第一位置不同的第二位置中使得布置于所述多个部分区域中的测量点的数量大于当将被照区域布置在第一位置中时的数量,控制单元使测量单元测量基板的高度。根据本专利技术的一个方面,提供一种经由投影光学系统曝光基板的曝光方法,包括如下步骤:在来自投影光学系统的光的光路区域中的多个测量点中的每一个中测量基板的高度;和基于测量步骤中的测量结果控制基板的高度和倾斜度中的至少一个;将基板的被照区域布置在第一位置中并且曝光被照区域,其中,被照区域包含要在其上形成图案的多个部分区域,以及,在测量步骤中,被照区域被布置在与第一位置不同的第二位置中,使得布置于所述多个部分区域中的测量点的数量大于当将被照区域布置在第一位置中时布置于所述多个部分区域中的测量点的数量。从参照附图对示例性实施例的以下描述,本专利技术的其它特征将变得清晰。附图说明图1是示出根据第一实施例的曝光装置的示意图;图2是示出来自投影光学系统的光的照射区域和布置于所述区域内的多个测量点的示图;图3是示出基板(重构基板)的示图;图4是示出在多个半导体芯片中的每一个上形成了布线层和电极焊板的状态的示图;图5A是示出重构基板的截面的示图;图5B是示出重构基板的截面的示图;图5C是示出重构基板的截面的示图;图6是示出形成布线层之后的重构基板的截面的示图;图7是示出被照区域被布置于曝光位置上的状态的示图;图8是示出被照区域被布置在从曝光位置偏移的位置中的状态的示图;图9是示出基板的被照区域的曝光方法的流程图。具体实施方式下面将参照附图描述本专利技术的示例性实施例。注意,在附图中相同的附图标记始终表示相同的部件,并且将不再给出重复的描述。<第一实施例>将参照图1描述根据本专利技术的第一实施例的曝光装置10。图1是示出根据第一实施例的曝光装置10的示意图。根据第一实施例的曝光装置10可以包括例如光源1、照明光学系统2、掩模台架3、投影光学系统4、基板台架5、测量单元6和控制单元7。控制单元7例如包括CPU和存储器,并且控制曝光装置10的各单元(控制曝光基板9的被照区域的操作)。并且,在本实施例中,与从投影光学系统4发射的光的光轴平行的方向被设定为Z方向,并且,相对于光轴垂直且彼此正交的两个方向被设定为X方向和Y方向。例如,光源1由i线汞灯或准分子激光器形成,并且发射用于曝光基板9的光(曝光光)。照明光学系统2引导从光源1发射的光以均匀地照射由掩模台架3保持的掩模8。投影光学系统4具有预定的投影倍率,并且将在掩模8上形成的图案投影到基板9上。基板台架5被配置为可以在保持基板9的同时移动,并且,其位置和取向通过诸如干涉仪或编码器(未示出)的位置测量机构被高精度地管理。在以这种方式形成的曝光装置10中,执行将基板9的被照区域布置在曝光位置(第一位置)中并且用来自投影光学系统4的光曝光被照区域的曝光处理。即,曝光处理是通过用来自投影光学系统4的光(掩模的图案图像)曝光在被照区域上供给(涂覆)的感光材料导致诸如抗蚀剂或聚酰亚胺的感光材料反应的处理。通过使得基板台架5逐步移动,对基板9上的多个被照区域中的每一个依次执行这种曝光处理。随后,在基板9的显影处理之后,在基板9上(更具体地,在被供给到基板上的感光材料上)形成图案。这里,被照区域表示在每次曝光处理操作中一次曝光的基板9的区域(即,基板9的布置在来自投影光学系统4的光的照射区域中的区域)。来自投影光学系统4的光的照射区域是从投影光学系统4发射的光的光路区域。并且,曝光位置是当在用来自投影光学系统4的光曝光被照区域时布置被照区域的位置。即,曝光位置是当关于照射区域(来自投影光学系统4的光的光路区域)确定了被照区域的位置时的被照区域的位置。另外,在曝光装置10中,在曝光处理之前控制基板9的高度和倾斜度中的至少一个,使得基板9的表面将与投影光学系统4的成像平面(聚焦平面)匹配。由此,在来自投影光学系统4的光的照射区域中的多个测量点中的每一个处测量基板9的高度的测量单元6(聚焦传感器)被设置在曝光装置10中。如图2所示,多个测量点6a的布置(布局)被固定在来自投影光学系统4的光的照射区域4a(在光路区域)中,并且,测量单元6被配置为在多个测量点6a中的每一个处测量基板9的高度。测量单元6包括多个倾斜入射型光学传感器,所述光学传感器接收通过使光倾斜地入射到基板9上而反射的光,并且使用该多个光学传感器以在多个测量点6a的每一个处测量基板的高度。结果,曝光装置10(控制单元7)可以基于多个测量点6a处的基板9的高度的测量结果控制基板9的高度和倾斜度中的至少一个。图2是示出来自投影本文档来自技高网...
曝光装置、曝光方法和物品的制造方法

【技术保护点】
一种经由投影光学系统曝光基板的曝光装置,其特征在于包括:测量单元,被配置为在来自投影光学系统的光的光路区域中的多个测量点中的每一个处测量基板的高度;和控制单元,被配置为基于通过测量单元获得的测量结果控制基板的高度和倾斜度中的至少一个,以及控制将基板的被照区域布置在第一位置中并且曝光被照区域的操作,其中,被照区域包含要在其上形成图案的多个部分区域,以及通过将被照区域布置在与第一位置不同的第二位置中使得布置于所述多个部分区域中的测量点的数量大于当将被照区域布置在第一位置中时布置于所述多个部分区域中的测量点的数量,控制单元使测量单元测量基板的高度。

【技术特征摘要】
2016.11.18 JP 2016-2253721.一种经由投影光学系统曝光基板的曝光装置,其特征在于包括:测量单元,被配置为在来自投影光学系统的光的光路区域中的多个测量点中的每一个处测量基板的高度;和控制单元,被配置为基于通过测量单元获得的测量结果控制基板的高度和倾斜度中的至少一个,以及控制将基板的被照区域布置在第一位置中并且曝光被照区域的操作,其中,被照区域包含要在其上形成图案的多个部分区域,以及通过将被照区域布置在与第一位置不同的第二位置中使得布置于所述多个部分区域中的测量点的数量大于当将被照区域布置在第一位置中时布置于所述多个部分区域中的测量点的数量,控制单元使测量单元测量基板的高度。2.根据权利要求1所述的装置,其中,所述多个测量点包含基准测量点,在基准测量点处测量的基板的高度被用作在所述多个测量点中的每一个处测量的基板的高度的基准,以及通过将被照区域布置在第二位置中使得基准测量点被布置于所述多个部分区域中的任一个中,控制单元使测量单元测量基板的高度。3.根据权利要求1所述的装置,其中,通过将被照区域布置在第二位置中使得所述多个测量点中的不少于2/3的测量点被布置于所述多个部分区域中,控制单元使测量单元测量基板的高度。4.根据权利要求1所述的装置,其中,基于指示基板中的所述多个部分区域的布置的信息,控制单元将被照区域布置在第二位置中。5.根据权利要求1所述的装置,其中,当将被照区域布置在第二位置中并且使测量单元测量基板的高度之后,控制单元控制将被照区域布置在第一位置中并且曝光被照区域的操作。6.根据权利要求1所述的装置,其中,基于指示基板中的所述多个部分区域的布置的信息,控制单元从所述多个测量点中选择当将被照区域布置于第二位置中时布置于所述多个部分区域中的测量点,并且基于来自所选择的...

【专利技术属性】
技术研发人员:平井真一郎本岛顺一大川直人
申请(专利权)人:佳能株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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