狭缝可调节的曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种狭缝可调节的曝光装置，所述曝光装置包括：第一构件、第二构件以及粗调机构，所述第一构件具有第一弧面，所述第二构件具有第二弧面，所述第一弧面与所述第二弧面相对设置且两者之间限定出狭缝，所述粗调机构可用于驱动所述第一弧面和所述第二弧面中的一个运动以调节所述狭缝的宽度。根据本发明专利技术的曝光装置，通过粗调机构调整第一构件与第二构件之间的距离，以对曝光装置的照度进行调整，这样不仅可以通过调整狭缝的宽度，以调整曝光装置的照度，均衡照度和解像力，满足产品的解像力要求，而且在调整狭缝的宽度时，无需拆卸曝光装置，节约了产能，提高了生产效率。

【技术实现步骤摘要】
狭缝可调节的曝光装置
本专利技术涉及显示面板
，具体而言，涉及一种狭缝可调节的曝光装置。
技术介绍
在显示面板的曝光工序上，一般显示面板的解像力越高，在对显示面板进行曝光处理时所需要的照度越低，而当显示面板的解像力下降，那么相应的需要的照度也就越高。然而，现有技术中的曝光装置为了提升解像力或者照度，需要对曝光装置的狭缝进行更换，每一块狭缝对应一个固有的照度和解像力，照度与解像力不能均衡，不仅浪费了设备产能，而且更换狭缝的操作复杂、繁琐，降低了生产效率。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术提出一种通用性好且可以均衡照度和解像力的狭缝可调节的曝光装置。根据本专利技术实施例的狭缝可调节的曝光装置包括：第一构件、第二构件以及粗调机构，所述第一构件具有第一弧面，所述第二构件具有第二弧面，所述第一弧面与所述第二弧面相对设置且两者之间限定出狭缝，所述粗调机构可用于驱动所述第一弧面和所述第二弧面中的一个运动以调节所述狭缝的宽度。根据本专利技术实施例的曝光装置，通过粗调机构调整第一构件与第二构件之间的距离，以对曝光装置的照度进行调整，这样不仅可以通过调整狭缝的宽度，以调整曝光装置的照度，均衡照度和解像力，满足产品的解像力要求，而且在调整狭缝的宽度时，无需拆卸曝光装置，节约了产能，提高了生产效率。根据本专利技术的一些实施例，所述粗调机构被构造成能够对所述狭缝的宽度进行毫米级调节。在一些实施例中，所述狭缝的横截面为月牙形，所述第一弧面形成在所述狭缝的内侧，所述第二弧面形成在所述狭缝的外侧，所述粗调机构用于驱动所述第一弧面运动。进一步地，所述粗调机构被构造成能够驱动所述第一弧面的中部与位于中部两侧的两个侧部同时运动且运动方向相反，其中，自所述第一弧面的中部向任意一个侧部，所述第一弧面与所述第二弧面的间距逐渐缩小。可选地，所述粗调机构包括：主调节组件和副调节组件，所述主调节组件至少部分伸入所述第一构件且在与所述狭缝相背离的一侧与所述第一弧面的中部连接，以驱动所述第一弧面的中部朝第一方向移动，所述副调节组件与所述第一弧面的两个侧部分别连接以驱动该两者分别朝与所述第一方向相反的第二方向同步移动。可选地，所述主调节组件包括：支撑座、调节螺杆以及驱动电机，所述支撑座与所述第一构件固定连接，所述调节螺杆与所述支撑座通过螺纹传动，且所述调节螺杆与所述第一弧面的中部连接，所述驱动电机与所述调节螺杆连接以驱动所述调节螺杆转动。可选地，所述副调节组件包括：第一弹性件以及第二弹性件，所述第一弹性件在所述主调节组件的左侧与所述第一弧面的左侧部连接，所述第二弹性件在所述主调节组件的右侧与所述第一弧面的右侧部连接。进一步地，所述第一弹性件和所述第二弹性件均为压缩弹簧或均为拉伸弹簧。进一步地，所述粗调机构还包括：用于显示所述第一弧面的中部的位移的第一测距件以及用于显示所述第一弧面的侧部的位移的第二测距件。可选地，所述曝光装置还包括控制元件，所述驱动电机、所述第一测距件、所述第二测距件均与控制元件连接，所述控制元件根据所述第一测距件发送的显示第一读数的第一信号以及所述第二测距件发动的显示第二读数的第二信号，实时控制所述驱动电机的启停。根据本专利技术一个实施例的曝光装置，还包括微调机构，所述微调机构可用于对所述第一弧面和所述第二弧面中的另一个的弧形表面形状进行调节，所述微调机构被构造成能够对相应弧面进行微米级调节。本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。附图说明本专利技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1是根据本专利技术实施例的曝光装置的示意图；图2是根据本专利技术实施例的曝光装置的第一弧面的一个调节示意图；图3是根据本专利技术实施例的曝光装置的第一弧面的另一个调节示意图。附图标记：曝光装置100，第一构件10，第一弧面11，第二构件20，第二弧面21，微调机构30，粗调机构40，主调节组件41，支撑座411，调节螺杆412，第一测距件413，副调节组件42，第一弹性件421，第二弹性件422，第二测距件423，狭缝a。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的单元或具有相同或类似功能的单元。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。下面参考图1至图3描述根据本专利技术实施例的曝光装置100。如图1所示，根据本专利技术实施例的狭缝a可调节的曝光装置100包括：第一构件10、第二构件20、粗调机构40。第一构件10具有第一弧面11，第二构件20具有第二弧面21，第一弧面11与第二弧面21相对设置且两者之间限定出狭缝a，粗调机构40可用于驱动第一弧面11和第二弧面21中的一个运动以调节狭缝a的宽度。以图1为例对狭缝的宽度进行解释，如图1所示，狭缝a为大体月牙形，此时第一弧面11可以构成狭缝a的后侧面，第二弧面21可以构成狭缝a的前侧面，狭缝a呈向后凹的形状。此时狭缝a的宽度可以指狭缝a在图示前后方向上的最大宽度，即第一弧面11与第二弧面21在前后方向上的最大间距。根据本专利技术实施例的曝光装置100，通过粗调机构40调整第一构件10与第二构件20之间的距离(即狭缝a的宽度)，以对曝光装置100的照度进行大致调整，从而使曝光装置100的照度达到要求值范围内。这样，不仅可以通过调整狭缝a的宽度，调整曝光装置100的照度，以均衡照度和解像力，满足产品的解像力要求，而且无需更换曝光装置100，就能实现多个狭缝a的宽度的快速切换，通用性更好，并节约了产能、提高了生产效率。如图2和图3所示，曝光装置100还可以包括微调机构30，微调机构30可用于对第一弧面11和第二弧面21中的另一个的弧形表面形状进行调节，粗调机构40被构造成能够对狭缝a的宽度进行毫米级调节，微调机构30被构造成能够对相应弧面进行微米级调节。这里，“毫米级的调节”是指粗调机构40能够实现的调节精度可以是0.1mm-1mm或者1mm若干倍，同理，“微米级调节”是指粗调机构40能够实现的调节精度可以是0.1um或者1um的若干倍。具体而言，通过粗调机构40对狭缝a的宽度(即第一弧面11与第二弧面21的最大间距)进行毫米级的调节，并在狭缝a的宽度达到指定的宽度后，通过微调机构30对第二弧面21的弧形表面形状进行微米级的精确调节，进而对曝光装置100的照度进行精确调节，以使曝光装置100的照度到达要求值。换言之，当粗调机构40用于驱动第一弧面11产生较大的位移以对狭缝a的宽度进行调节时，此时，微调机构30用于驱动第二弧面21的局部表面产生位移以实现对狭缝a的整体宽度影响较小的调节。反之，当粗调机构40用于驱动第二弧面21产生较大的位移以对狭缝a的宽度进行调节时，此时，微调机构30用于驱动第一弧面11的局部表面产生位移以实现对狭缝a的整体宽度影响较小的调节以实现对曝光装置100的照度的精确调节。需要说明的是，第一弧面11、第二弧面21为具有一定刚度和强度、同时表面弧度能够进行柔性调节的曲面，第一弧面11和第二弧面21共同限定出大体环形的、封闭的上述狭缝a。微调机构30是通过改变本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种狭缝可调节的曝光装置，其特征在于，包括：第一构件，所述第一构件具有第一弧面；第二构件，所述第二构件具有第二弧面，所述第一弧面与所述第二弧面相对设置且两者之间限定出狭缝；以及粗调机构，所述粗调机构可用于驱动所述第一弧面和所述第二弧面中的一个运动以调节所述狭缝的宽度。

【技术特征摘要】
1.一种狭缝可调节的曝光装置，其特征在于，包括：第一构件，所述第一构件具有第一弧面；第二构件，所述第二构件具有第二弧面，所述第一弧面与所述第二弧面相对设置且两者之间限定出狭缝；以及粗调机构，所述粗调机构可用于驱动所述第一弧面和所述第二弧面中的一个运动以调节所述狭缝的宽度。2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述粗调机构被构造成能够对所述狭缝的宽度进行毫米级调节。3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述狭缝的横截面为月牙形，所述第一弧面形成在所述狭缝的内侧，所述第二弧面形成在所述狭缝的外侧，所述粗调机构用于驱动所述第一弧面运动。4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述粗调机构被构造成能够驱动所述第一弧面的中部与位于中部两侧的两个侧部同时运动且运动方向相反，其中，自所述第一弧面的中部向任意一个侧部，所述第一弧面与所述第二弧面的间距逐渐缩小。5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述粗调机构包括：主调节组件，所述主调节组件至少部分伸入所述第一构件且在与所述狭缝相背离的一侧与所述第一弧面的中部连接，以驱动所述第一弧面的中部朝第一方向移动；以及副调节组件，所述副调节组件与所述第一弧面的两个侧部分别连接以驱动该两者分别朝与所述第一方向相反的第二方向同步移动。6.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵巍，魏小丹，王军才，江俊波，韦永强，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11