一种CVD机台腔室顶盖清理装置制造方法及图纸

一种CVD机台腔室顶盖清理装置，用于清理所述顶盖下表面及内部孔洞，其特征在于：所述清理装置至少包括：震荡装置、废料收集装置、气体吹扫装置、液体加热装置；其中，所述震荡装置置放于所述顶盖上表面，用于形成震荡波清除所述顶盖下表面和顶盖内部孔洞中的废料残留物；所述废料收集装置覆盖于所述顶盖下表面，用于收集所述震荡波清除的废料；所述气体吹扫装置连接于所述顶盖的进气口，用于吹扫所述顶盖内部孔洞残留物；所述液体加热装置连接于所述顶盖上表面进出水口，用于维持顶盖温度。

A cleaning device for the top of the chamber of a CVD machine

A top cover cleaning device for the CVD chamber chamber, used to clean the upper and inner holes of the top cover, characterized by the cleaning device at least: a concussion device, a waste collection device, a gas purge, and a liquid heating device, wherein the concussion device is placed on the top surface of the top cover to form an earthquake. A waste residue removed from the lower surface of the top cover and the inner hole of the top cover. The waste collection device covers the surface of the top cover to collect the waste of the concussion wave. The gas purge is connected to the intake of the top cover to blow the inner hole remnants of the top cover; the liquid is used. The body heating device is connected to the inlet and outlet of the upper surface of the top cover for maintaining the temperature of the top cover.

【技术实现步骤摘要】
一种CVD机台腔室顶盖清理装置
本技术属于半导体设备领域，尤其涉及一种CVD机台腔室顶盖清理装置。
技术介绍
参看附图1，目前LED外延生产设备CVD机台反应室顶盖500在周期维护时主要靠维护人员手动手动用吸尘毛刷Ⅰ直接吸除表面的颗粒，以达到清理反应室顶盖500的目的，但人员操作时吸取的力度、角度、次数等均无法统一控制。亦或者如附图2，在周期维护时采用电机驱动毛刷Ⅱ来刷顶盖500以达到清理的目的，但因为毛刷的新旧程度，角度，力度调节等存在诸多不可控因素同样导致无法保证清理的一致性。另外，CVD机台反应室顶盖500在正常使用中是恒温在50-60℃左右的，当打开腔室移除加热水管后顶盖500温度迅速下降，导致表面及内部残留物直接附着在内壁上，即使采用吸尘器或电动毛刷都很难清理干净，残留物因为含有大量水、氧，从而导致很难快速复机。
技术实现思路
为解决上述问题，本技术提供一种CVD机台腔室顶盖清理装置，用于清理所述顶盖下表面及内部孔洞，其特征在于：所述清理装置至少包括：震荡装置、废料收集装置、气体吹扫装置、液体加热装置和总控装置；其中，所述震荡装置置放于所述顶盖上表面，用于形成震荡波清除所述顶盖下表面和顶盖内部孔洞中的废料残留物；所述废料收集装置覆盖于所述顶盖下表面，用于收集所述震荡波清除的废料；所述气体吹扫装置连接于所述顶盖的进气口，用于吹扫所述顶盖内部孔洞残留物；所述液体加热装置连接于所述顶盖上表面进出水口，用于维持顶盖温度。优选的，所述震荡装置包括震荡波发生器、起震部件、连接各起震部件的连接部件，所述起震部件固定于所述顶盖上表面，并连接于震荡波发生器。优选的，所述震荡波发生器产生的震荡波为超声波。优选的，所述起震部件为多个子部件组成或为一个整体结构。优选的，所述废料收集装置包括收集罩、真空收集管和废料暂存装置，所述收集罩覆盖于所属顶盖的整个下表面，所述废料落入收集罩后通过真空收集管进入废料暂存装置。优选的，所述气体吹扫装置包括气体发生器、压力控制装置和气体管路加热部件，所述气体管路加热部件可将管道内气体加热至30-50℃，用于保持通入顶盖的气体使所述顶盖表面及孔洞内部的残留物呈液态，便于吹扫清理。优选的，所述气体发生器产生的气流为脉冲式气流。优选的，所述液体加热装置加热所述顶盖的温度为35-80℃。本技术至少具备以下有益效果：1.本装置采用超声波震荡装置直接覆盖于顶盖上表面，方便安装，超声波震荡的频率和电流可根据实际需求设定，使用方便快捷；2.腔室顶盖利用机台自身的热交换器或增加配置的热交换器将顶盖温度升高-使表面及内部生长残留物转化为液态，便于清理；3.用于吹扫的氮气采用脉冲式，且气源进口管路安装有加热带，用以保证吹扫顶盖和顶盖内部的气体可以使顶盖内壁上的残留物变为液态，并直接吹出，随后被真空管路吸走，改善手动或电动毛刷仅能在顶盖表面清理的不足，改变传统的使用吸尘器因在无尘室操作造成颗粒以及残留气体污染腔室环境；4.本装置为全自动化，无需人为干预，所有操作参数均为程序设定，在使用过程中直接选取所需的参数，从而使操作建档便捷，且保证操作的一致性。附图说明图1为现有技术清理反应室顶盖的示意图一。图2为现有技术清理反应室顶盖的示意图二。图3为本技术之清理装置结构示意图一。图4为本技术之清理装置结构示意图二。具体实施方式在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本技术。根据下面说明和权利要求书，本技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本技术实施例的目的。参看附图3，本技术提供一种CVD机台腔室顶盖清理装置，用于清理所述顶盖下表面及内部孔洞，所述清理装置至少包括：气体吹扫装置100、震荡装置200、液体加热装置300、废料收集装置400和总控装置600；其中，震荡装置200置放于顶盖500上表面，用于形成震荡波清除顶盖500下表面及内部孔洞中的残留物；残留物收集装置400覆盖于顶盖500下表面，用于收集震荡波清除的残留物；气体吹扫装置100连接于顶盖500的进气口，用于吹扫顶盖500内部孔洞；液体加热装置300连接于顶盖500上表面进出水口，用于维持顶盖温度，总控装置600用于控制清理装置，使清理装置的使用更方便简单。具体如下：参看图3和图4，将顶盖500本体拆离于反应腔室，在顶盖500表面安装震荡装置200，其中起震部件230固定于顶盖500上表面，且各起震部件230之间通过连接部件220连成一体，震荡波发生器210产生震荡波通过各子起震部件作用于顶盖，使附着于顶盖500下表面及内部孔洞中的残留物疏松或脱离顶盖，其中震荡波优选超声波，并且根据顶盖500表面残留物附着状况，灵活调变超声波的频率及功率；起震部件230为多个子部件组成或为一个整体结构，本实施例优选为多个子部件组成。同时在顶盖本体气管510上接入连接气体吹扫装置100的管路150，通入的气源110经过压力控制装置120的调节，再经过气体发生器130形成脉冲式气流，增强吹扫的力度，且在气体管路上缠绕加热带140，保证吹扫的气体温度高于腔室正常工作时顶盖500表面的温度，为30-50℃，促使残留物呈液态状，利于清理。再将废料收集装置400安装于顶盖500下表面，收集罩420完全覆盖于顶盖500下表面，收集罩420下端连接真空收集管430及废料暂存装置440，用以收集清理的废料残留物。此外，为了更好的清理顶盖500表面及孔洞内附着的残留物，在顶盖拆离于反应腔室后，在顶盖本体的水管520上接入液体加热装置300的进出管进管320及出管330，其中液体优选为水，且通过热交换机310的转换，采用通入顶盖500的液体加热顶盖，使得顶盖的温度高于腔室正常工作时顶盖的温度，加热后顶盖的温度为35-80℃，促使顶盖下表面和内部孔洞的残留物为液态状，方便清理。应当理解的是，上述具体实施方案为本技术的优选实施例，本技术的范围不限于该实施例，凡依本技术所做的任何变更，皆属本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种CVD机台腔室顶盖清理装置，用于清理所述顶盖下表面及内部孔洞，其特征在于：所述清理装置至少包括：震荡装置、废料收集装置、气体吹扫装置、液体加热装置和总控装置；其中，所述震荡装置置放于所述顶盖上表面，用于形成震荡波清除所述顶盖下表面和顶盖内部孔洞中的废料残留物；所述废料收集装置覆盖于所述顶盖下表面，用于收集所述震荡波清除的废料；所述气体吹扫装置连接于所述顶盖的进气口，用于吹扫所述顶盖内部孔洞残留物；所述液体加热装置连接于所述顶盖上表面进出水口，用于维持顶盖温度。

【技术特征摘要】
1.一种CVD机台腔室顶盖清理装置，用于清理所述顶盖下表面及内部孔洞，其特征在于：所述清理装置至少包括：震荡装置、废料收集装置、气体吹扫装置、液体加热装置和总控装置；其中，所述震荡装置置放于所述顶盖上表面，用于形成震荡波清除所述顶盖下表面和顶盖内部孔洞中的废料残留物；所述废料收集装置覆盖于所述顶盖下表面，用于收集所述震荡波清除的废料；所述气体吹扫装置连接于所述顶盖的进气口，用于吹扫所述顶盖内部孔洞残留物；所述液体加热装置连接于所述顶盖上表面进出水口，用于维持顶盖温度。2.根据权利要求1所述的一种CVD机台腔室顶盖清理装置，其特征在于：所述震荡装置包括震荡波发生器、起震部件、连接各起震部件的连接部件，所述起震部件固定于所述顶盖上表面，并连接于震荡波发生器。3.根据权利要求2所述的一种CVD机台腔室顶盖清理装置，其特征在于：所述震荡波发生器产生的震荡波为超声波。4....

【专利技术属性】
技术研发人员：张飞，杨琳，郭晃亨，李政鸿，寻飞林，林兓兓，蔡吉明，
申请(专利权)人：安徽三安光电有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34