新型阵面阵架结构制造技术
【技术实现步骤摘要】
新型阵面阵架结构
本专利技术涉及一种结构设计形式，具体地，涉及一种新型阵面阵架结构。
技术介绍
阵面阵架是专门设计的结构框架，功能是安装、支撑辐射天线阵列，形成辐射场，并为辐射天线阵列的维护及射频馈电系统设备的放置提供平台场地，同时为工作人员提供系统安装、集成、调试、维护的工作平台和空间。阵面阵架由于曲率半径和表面积的需求，尺寸和质量往往较大，进而导致刚度的削弱。为了提高刚度、阵面阵架型材和板材的规格进一步增加，最终导致阵面阵架的质量达数百吨级，只能安放在底层，安放空间受到限制。
技术实现思路
针对现有技术中的缺陷，本专利技术的目的是提供一种新型阵面阵架结构，其轻质、高刚度、高空间利用率阵面阵架结构设计形式，既能够充分利用既有的空间，使得阵面曲率半径和表面积最大化、阵面阵架整体质量轻且刚度高。根据本专利技术的一个方面，提供一种新型阵面阵架结构，其包括墙体、暗室、加强架、阵面阵架、转台，暗室、加强架、阵面阵架、转台都位于墙体内部，加强架、阵面阵架、转台都位于暗室内部，阵面阵架固定在加强架上，转台位于加强架一侧。优选地，所述阵面阵架为旋转球形扇面。优选地，所述阵面阵架沿暗室对角线放置。优选地，所述阵面阵架为上铝制骨架蒙皮结构。优选地，所述蒙皮通过铆钉与阵面阵架连接。优选地，所述加强架与阵面阵架是通过焊接连接。优选地，所述加强架为网格框架结构。与现有技术相比，本专利技术具有如下的有益效果：1.曲率半径最大化。本专利技术阵面阵架沿暗室对角线放置，实现了阵面阵架曲率半径的最大化，解决了现有倒扣或侧立碗式阵面阵架曲率半径相对较小，空间利用率低的问题；2.质量轻。本专利技术...
【技术保护点】
一种新型阵面阵架结构，其特征在于，包括墙体、暗室、加强架、阵面阵架、转台，暗室、加强架、阵面阵架、转台都位于墙体内部，加强架、阵面阵架、转台都位于暗室内部，阵面阵架固定在加强架上，转台位于加强架一侧。
【技术特征摘要】
1.一种新型阵面阵架结构，其特征在于，包括墙体、暗室、加强架、阵面阵架、转台，暗室、加强架、阵面阵架、转台都位于墙体内部，加强架、阵面阵架、转台都位于暗室内部，阵面阵架固定在加强架上，转台位于加强架一侧。2.根据权利要求1所述的新型阵面阵架结构，其特征在于，所述阵面阵架为旋转球形扇面。3.根据权利要求1所述的新型阵面阵架结构，其特征在于，所述阵面阵架沿暗...
【专利技术属性】
技术研发人员：俞刘建，王志成，韦宇祥，刘广，马跃华，武秋生，张凤岗，惠轶，贾耀兴，庄国平，
申请(专利权)人：上海机电工程研究所，
类型：发明
国别省市：上海,31
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