旋转清洗设备、用于旋转清洗设备的检测设备以及检测方法技术

本公开涉及一种旋转清洗设备以及用于旋转清洗设备的检测设备和检测方法。该旋转清洗设备包括：壳体；惰轮，设置在壳体内；以及检测设备，包括：信号源、被配置成检测来自信号源的信号的检测器以及被配置为包括至少一条传导路径的传导件，其中，信号源和检测器设置于相对于旋转清洗设备的预定位置处，传导件的至少一部分设置于惰轮中，随着惰轮的旋转，传导件间隔性地将信号从信号源传导至检测器。

Rotary cleaning equipment, detection equipment for rotary cleaning equipment and detection method

The present disclosure relates to a rotary cleaning device and a detection device and a detection method for rotary cleaning equipment. The rotary cleaning device includes a housing, an inert wheel, a shell body, and a detection device, including a signal source, a detector configured to detect a signal from a signal source, and a conductor configured to include at least one transmission path, wherein the signal source and the detector are set relative to the rotating cleaning device. At a predetermined position, at least part of the conductor is set in the idler wheel, and with the rotation of the idler, the signal is spaced to transmit the signal from the signal source to the detector.

【技术实现步骤摘要】
旋转清洗设备、用于旋转清洗设备的检测设备以及检测方法
本公开涉及旋转清洗设备，具体来说，涉及一种旋转清洗设备，以及用于旋转清洗设备的检测设备以及检测方法。
技术介绍
在许多制造工业中，都需要对制品的表面进行清洗。例如，在半导体装置的制造中，经过使用化学机械研磨对制品(诸如晶圆)进行平坦化后，制品表面上产生大量杂质，于是，进行清洗处理变得必不可少。近年来，随着半导体装置的显著高集成化，即使极微量的杂质所造成的污染，对于装置的性能以及对制品的良率也会产生较大影响，因此，对清洗效果的要求也显著提高。旋转清洗设备能够在清洗制品的同时旋转所清洗制品，实现对制品的全局清洗效果。例如，在使用超声波进行清洗时，由于超声波发生器一般设置于设备的底部，导致超声波产生的气泡仅能与制品邻近设备底部的一部分接触，清洗范围通常是有限的。通过旋转制品使超声波产生的气泡充分与制品表面的各个部分接触，清洗能够更加全面、充分。
技术实现思路
本公开的一个目的是提供一种用于旋转清洗设备的检测技术。根据本公开的第一方面，提供了一种旋转清洗设备，其特征在于，包括：壳体；设置在壳体内的惰轮；以及检测设备，检测设备包括：信号源，被配置成检测来自信号源的信号的检测器，以及被配置为包括至少一条传导路径的传导件，其中，信号源和检测器设置于相对于旋转清洗设备的预定位置处，传导件的至少一部分设置于惰轮中，随着惰轮的旋转，传导件间隔性地将信号从信号源传导至检测器。根据本公开的第二方面，提供了一种用于旋转清洗设备的检测设备，其特征在于，包括：信号源；检测器，被配置成检测来自信号源的信号；以及传导件，被配置为包括至少一条传导路径，其中，信号源和检测器设置于相对于旋转清洗设备的预定位置处，传导件的至少一部分设置于旋转清洗设备的惰轮中，随着惰轮的旋转，传导件间隔性地将信号从信号源传导至检测器。根据本公开的第三方面，提供了一种用于检测旋转清洗设备中的惰轮的旋转速度的方法，其特征在于，包括：在相对于旋转清洗设备的预定位置处设置信号源和检测器；在惰轮中设置传导件；随着惰轮旋转，使传导件间隔性地将信号从信号源传导至检测器。根据本公开的实施例的一个优点在于能够测量在旋转清洗设备中进行清洗的制品的旋转速度，从而及时发现旋转异常，以保证制品的良率。通过以下参照附图对本公开的示例性实施例的详细描述，本公开的其它特征及其优点将会变得清楚。附图说明构成说明书的一部分的附图描述了本公开的实施例，并且连同说明书一起用于解释本公开的原理。参照附图，根据下面的详细描述，可以更加清楚地理解本公开，其中：图1A是示出根据本公开一个实施例的旋转清洗设备的前视图。图1B是图1A中示出的旋转清洗设备中的惰轮的侧视图。图2A和图2B分别是示出根据本公开一个实施例的旋转清洗设备中的惰轮的前视截面图和侧视图。图3A和图3B分别是示出根据本公开一个实施例的旋转清洗设备中的惰轮的前视截面图和侧视图。图4A是示出根据本公开一个实施例的关于旋转清洗设备中的惰轮的检测信号的时序图。图4B是示出根据本公开一个实施例的关于旋转清洗设备中的惰轮的检测信号的时序图。图5是示出根据本公开一个实施例的检测方法的流程图。注意，在以下说明的实施方式中，有时在不同的附图之间共同使用同一附图标记来表示相同部分或具有相同功能的部分，而省略其重复说明。在本说明书中，使用相似的标号和字母表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。为了便于理解，在附图等中所示的各结构的位置、尺寸及范围等有时不表示实际的位置、尺寸及范围等。因此，所公开的专利技术并不限于附图等所公开的位置、尺寸及范围等。具体实施方式现在将参照附图来详细描述本公开的各种示例性实施例。应注意到：除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本公开的范围。本申请的专利技术人认识到，传统的旋转清洗设备不具备检测所清洗制品的转速的功能。一般来说，旋转清洗设备中包括位于两侧的驱动轮和位于下方的惰轮。其中，驱动轮负责驱动所清洗制品形成旋转，而惰轮支撑以及引导所清洗制品，并会伴随所清洗制品的旋转而旋转。在旋转清洗过程中，所清洗制品可能会由于诸如连接电机与驱动轮之间的皮带松弛之类的原因而发生旋转异常。在发生旋转异常的情况下，制品的清洗不充分，清洗效果受到影响。而一旦经清洗制品的表面杂质未达到工艺要求，可能会引起工艺缺陷，进而劣化制品的良率。因此，本领域存在对用于旋转清洗设备的检测技术的需求。本专利技术提供了一种通过测量惰轮的转速来确定所清洗制品的旋转速度的设备和方法。一方面，在旋转清洗设备的预定位置处设置可配合使用的信号源和检测器，另一方面，将惰轮的结构改进为包括至少一条传导路径，从而使得传导路径能够随着惰轮的旋转而间隔性地出现在信号源与检测器的传导通路上(或称为进入传导信号状态)，进而使得检测器能够间隔性的检测到信号源发出的信号。该时间间隔与惰轮旋转一定角度所用的时间相关。因此，检测器检测到信号的时间间隔可以用来确定惰轮的旋转速度。本专利技术能够测量在旋转清洗设备中进行清洗的制品的旋转速度，从而及时发现旋转异常，以保证制品的良率。以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本公开及其应用或使用的任何限制。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。在这里示出和讨论的所有示例中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它示例可以具有不同的值。图1A是示出根据本公开一个实施例的旋转清洗设备的前视图。图1B是图1A中示出的旋转清洗设备中的惰轮的侧视图。出于简化说明的目的，附图中省略了旋转清洗设备中用于执行清洗功能的清洗部件(诸如，超声波换能器)以及被清洗的制品(诸如，晶圆)。如图1A所示，旋转清洗设备100可以包括壳体101。这里，为了便于观察壳体101内部的布置，假设壳体101的前半侧被去除。壳体101可以被配置用于容纳清洗液，从而使得旋转清洗能够在清洗液中进行。在一些实施例中，清洗液中包含具有腐蚀性的成分。例如，清洗液可以包含氨水、双氧水中的一种或两种。在该情况下，壳体101的组成材料需要具有耐腐蚀性。本领域技术人员将容易理解，本专利技术对于壳体101的轮廓形状、大小尺寸等参数没有特别的限制。旋转清洗设备100还可以包括驱动轮(未示出)以及惰轮102。其中，驱动轮被用于驱动所清洗制品旋转。在一些实施例中，两个驱动轮被设置于制品的两侧。此外，惰轮102被用于支撑以及引导所清洗制品，并会伴随所清洗制品的旋转而旋转。在一些实施例中，惰轮102被设置于制品的下方。但本领域技术人员将容易理解，本专利技术中的驱动轮以及惰轮102的具体布置方式(诸如数量、位置等)不限于此。在一个实施例中，如图1A所示，惰轮102在厚度方向上可以表现为在中心的部分是凹陷的。这个中心的凹陷部分(或者，对应的两侧凸起部分)有利于对所清洗制品进行限制和引导。此外，如图1A所示，在一个实施例中，惰轮102可以在中心的凹陷部分表面设置有间隔分布的凹槽105。凹槽105能够有利地增大惰轮102与所清洗制品之间的摩擦，从而更有效地保证惰本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种旋转清洗设备，其特征在于，包括：壳体；惰轮，设置在所述壳体内；以及检测设备，所述检测设备包括：信号源，检测器，被配置成检测来自所述信号源的信号，以及传导件，被配置为包括至少一条传导路径，其中，所述信号源和所述检测器设置于相对于所述旋转清洗设备的预定位置处，所述传导件的至少一部分设置于所述惰轮中，随着所述惰轮的旋转，所述传导件间隔性地将所述信号从所述信号源传导至所述检测器。

【技术特征摘要】
1.一种旋转清洗设备，其特征在于，包括：壳体；惰轮，设置在所述壳体内；以及检测设备，所述检测设备包括：信号源，检测器，被配置成检测来自所述信号源的信号，以及传导件，被配置为包括至少一条传导路径，其中，所述信号源和所述检测器设置于相对于所述旋转清洗设备的预定位置处，所述传导件的至少一部分设置于所述惰轮中，随着所述惰轮的旋转，所述传导件间隔性地将所述信号从所述信号源传导至所述检测器。2.如权利要求1所述的旋转清洗设备，其特征在于，所述检测设备基于检测到所述信号的时间间隔来确定所述惰轮的旋转速度。3.如权利要求1所述的旋转清洗设备，其特征在于，所述信号是光信号。4.如权利要1所述的旋转清洗设备，其特征在于，所述传导件被配置为包括多条传导路径，其中所述多条传导路径被设置成随着所述惰轮旋转依次传导所述信号。5.如权利要求1-4中任意一项所述的旋转清洗设备，其特征在于，所述信号源和所述检测器中至少一个设置于所述旋转清洗设备的壳体的外部，并经由已密封的透明窗口面向所述壳体内。6.如权利要求1-4中任意一项所述的旋转清洗设备，其特征在于，所述惰轮的表面上...

【专利技术属性】
技术研发人员：陆从喜，林宗贤，吴龙江，辛君，
申请(专利权)人：德淮半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32