一种光刻机光源漏光监测系统技术方案

技术编号:17819836 阅读:73 留言:0更新日期:2018-04-28 12:26
本实用新型专利技术涉及半导体制作设备领域,具体涉及一种光刻机光源漏光监测系统,包括光刻机本体,光刻机本体的遮光器远离光源的一侧设置有光电探测器,光电探测器通过光电模块与光刻机本体的主控制模块电连接。本实用新型专利技术的光电探测器在挡片闭合的状态下侦测是否有光通过,然后把监测信息传送给光刻机本体的主控制模块,达到实时监控漏光的目的,保障产品的良率。

A light source leakage monitoring system for photolithography

The utility model relates to the field of semiconductor manufacturing equipment, in particular to a light source leakage monitoring system for a photolithography machine, including a photolithography body. A photodetector is set on one side of the light shading device of the photolithography body far away from the light source, and the photodetector is electrically connected to the main control module of the photolithography body through the photoelectric module. The photoelectric detector of the utility model detects whether the light passes through the closed state of the block, and then transfers the monitoring information to the main control module of the photolithography body to monitor the light leakage in real time and ensure the good rate of the product.

【技术实现步骤摘要】
一种光刻机光源漏光监测系统
本技术属于半导体制作设备领域,具体涉及一种光刻机光源漏光监测系统。
技术介绍
光刻机的功能主要是通过光源曝光把光刻版上的图像转移到晶圆上。其中,光刻机的光路系统包括光源、光刻版及投影物镜组,其功能是将光源发出的光传送到光刻版表面,并且要求到达光刻版表面的光束均匀一致,光束的大小也要符合曝光区域的要求。随着半导体集成密度的提高,光刻技术的线宽越来越小,对光路系统的精确度要求也越来越高。目前采用的光路系统存在一个缺陷,即光源的通过与切断是通过遮光器挡片的打开与闭合来控制,由于遮光器的挡片是由马达来控制,马达使用过程中会存在精度不准的问题,该问题导致遮光器的挡片在闭合状态下仍有光源从遮光器挡片的缝隙中漏出,漏出的光通过光路系统曝光到晶圆上,使晶片上出现不需要的图像,导致产品良率大大降低。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种可以监测光源是否从遮光器挡片的缝隙中漏出的光刻机光源漏光监测系统。为达到上述要求,本技术采取的技术方案是:提供一种光刻机光源漏光监测系统,包括光刻机本体,光刻机本体的遮光器远离光源的一侧设置有光电探测器,光电探测器通过光电模块与光刻机本体的主控制模块电连接;光电探测器包括圆环状的基座,基座的内壁上均匀分布有若干沿基座径向设置的光电探测针。光电探测针至少有2根。基座内部设置有若干与光电探测针一一对应的第二动力机构,第二动力机构的输出端与光电探测针连接,且带动光电探测针做直线运动,第二动力机构与主控制模块电连接。第二动力机构均为电动丝杆。与现有技术相比,本技术具有以下优点:(1)在遮光器远离光源的一侧设置光电探测器,光电探测器在挡片闭合的状态下侦测是否有光通过,然后把监测信息传送给光刻机本体的主控制模块,达到实时监控漏光的目的,保障产品的良率;(2)光电探测器至少具有2根光电探测针,可以实现多点探测,提高探测的准确性;(3)光电探测器的光电探测针可以伸缩,当光刻机进行光刻时,第二动力机构带动光电探测针回到基座中,避免光电探测针遮挡光源,影响光刻效果。附图说明此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解,构成本申请的一部分,在这些附图中使用相同的参考标号来表示相同或相似的部分,本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请,并不构成对本申请的不当限定。在附图中:图1为本技术的结构示意图;图2为本技术光电探测器的结构示意图。具体实施方式为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚,以下结合附图及具体实施例,对本申请作进一步地详细说明。为简单起见,以下描述中省略了本领域技术人员公知的某些技术特征。如图1所示,本实施例提供一种光刻机光源3漏光监测系统,包括光刻机本体,光刻机本体的遮光器2远离光源3的一侧设置有光电探测器1,光电探测器1通过光电模块与光刻机本体的主控制模块电连接。如图2所示,光电探测器1包括圆环状的基座4,基座4的内壁上均匀分布有4根沿基座4径向设置的光电探测针5。基座4内部设置有4个与光电探测针5一一对应的第二动力机构,第二动力机构的输出端与光电探测针5连接,且带动光电探测针5做直线运动,第二动力机构与主控制模块电连接。第二动力机构为电动丝杆。本技术的工作原理是:在挡片闭合的状态下,光电探测器侦测是否有光通过,然后把监测信息传送给光刻机本体的主控制模块,主控制模块根据接收到的信号判断是否有光源漏出,并根据判断结果进行后续处理,如停止光刻机工作。以上实施例仅表示本技术的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能理解为对本技术范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本技术构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本技术保护范围。因此本技术的保护范围应该以权利要求为准。本文档来自技高网...
一种光刻机光源漏光监测系统

【技术保护点】
一种光刻机光源漏光监测系统,包括光刻机本体,其特征在于,所述光刻机本体的遮光器远离光源的一侧设置有光电探测器,光电探测器通过光电模块与光刻机本体的主控制模块电连接;所述光电探测器包括圆环状的基座,基座的内壁上均匀分布有若干沿基座径向设置的光电探测针。

【技术特征摘要】
1.一种光刻机光源漏光监测系统,包括光刻机本体,其特征在于,所述光刻机本体的遮光器远离光源的一侧设置有光电探测器,光电探测器通过光电模块与光刻机本体的主控制模块电连接;所述光电探测器包括圆环状的基座,基座的内壁上均匀分布有若干沿基座径向设置的光电探测针。2.根据权利要求1所述的光刻机光源漏光监测系统,其特征在于,所述光电探...

【专利技术属性】
技术研发人员:牟宏惺
申请(专利权)人:成都海威华芯科技有限公司
类型:新型
国别省市:四川,51

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