A reaction liquid heating device for the deposition of thin films by industrial chemical water bath, which includes a heating system for the reaction equipment; the reaction equipment is mainly composed of a reaction slot and a top cover on the top of the reaction groove, and the reaction trough cover is relocated by a reaction plate in the upper part of the reaction tank. The heating system comprises a number of heating plates, a purge gas device, and a barrier strip, in which the heating plate is fixed to the lower surface of the upper cover of the reaction groove and is placed in the reaction slot to heat the substrate and the reaction liquid evenly; the purge gas device is arranged around the heating plate so that the heating is uniform. The barrier strip has multiple and set in the reaction slot. The bar can speed up the local flow velocity and layer the liquid. It has simple structure, easy to use, reliable, fast heating, can improve the efficiency of energy conversion, and make the small power heating the heated material to a high temperature.
【技术实现步骤摘要】
工业化化学水浴法沉积薄膜的反应药液加热装置
本技术涉及的是一种工业化化学水浴法沉积薄膜的反应药液加热装置,尤其涉及化学水域沉积时温度加热的方法,属于化学水域沉积
技术介绍
化学水浴沉积(CBD)应用颇为广泛,尤其是在制备半导体薄膜,但现有用于化学水浴沉积制备半导体薄膜的设备、采用的加热方法比较单一,其中加热速度慢是最大的问题。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术存在的不足,而提供一种结构简单,使用方便、可靠,加热快,能提升能量转换效率,使小功率把被加热物加热到很高温度成为可能的工业化化学水浴法沉积薄膜的反应药液加热装置。本技术的目的是通过如下技术方案来完成的,一种工业化化学水浴法沉积薄膜的反应药液加热装置,它包括一配套用于反应设备的加热系统;所述的反应设备主要由反应槽和置于反应槽上部的反应槽上盖组成,所述的反应槽上盖通过内设于反应槽上部的反应槽托板安置在反应槽上部;所述加热系统包含若干数量的加热板、吹扫气体装置、阻挡条,其中加热板固定在反应槽上盖的下表面并被置于反应槽内,以便均匀加热衬底和反应液;所述的吹扫气体装置设置在加热板周边,以便加热均匀;所述的阻挡条有多条并设置在反应槽内,该阻挡条可加快局部水流速度,同时可以对药液进行分层。作为优选:所述的反应设备还配置有一由反应液混药箱、反应液抽水泵和循环管道构成的药液循环系统;所述的反应液混药箱经反应液抽水泵、通过循环管道连通于反应槽中;所述的加热板由发热装置和安装外壳固定连接而成;所述加热板周边布置的吹扫气体装置由若干均匀布置的、分别连通外接压力气源的喷口构成。作为优选:所述的反应槽入口高度高于 ...
【技术保护点】
工业化化学水浴法沉积薄膜的反应药液加热装置,它包括一配套用于反应设备(1)的加热系统(2);所述的反应设备(1)主要由反应槽(102)和置于反应槽(102)上部的反应槽上盖(101)组成,其特征在于所述的反应槽上盖通过内设于反应槽上部的反应槽托板(103)安置在反应槽(102)上部;所述加热系统包含若干数量的加热板(202)、吹扫气体装置(203)、阻挡条(201),其中加热板(202)固定在反应槽上盖的下表面并被置于反应槽内,所述的吹扫气体装置设置在加热板(202)周边;所述的阻挡条(201)有多条并设置在反应槽内。
【技术特征摘要】
1.工业化化学水浴法沉积薄膜的反应药液加热装置,它包括一配套用于反应设备(1)的加热系统(2);所述的反应设备(1)主要由反应槽(102)和置于反应槽(102)上部的反应槽上盖(101)组成,其特征在于所述的反应槽上盖通过内设于反应槽上部的反应槽托板(103)安置在反应槽(102)上部;所述加热系统包含若干数量的加热板(202)、吹扫气体装置(203)、阻挡条(201),其中加热板(202)固定在反应槽上盖的下表面并被置于反应槽内,所述的吹扫气体装置设置在加热板(202)周边;所述的阻挡条(201)有多条并设置在反应槽内。2.根据权利要求1所述的工业化化学水浴法沉积薄膜的反应药液加热装置,其特征在于所述的反应设备(1)还配置有一由反应液混药箱(301)、反应液抽水泵(302)和循环管道(303)构成的药液循环系统;所述的反应液混药箱(301)经反应液抽水泵(302)、通过循环管道(303)连通于反应...
【专利技术属性】
技术研发人员:张情情,李敏,钱喆瑜,钟华良,朱家宽,刘杰鹏,高锦龙,
申请(专利权)人:旭科新能源股份有限公司,
类型:新型
国别省市:浙江,33
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