一种线性宽幅等离子清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种线性宽幅等离子清洗装置，包括底座，所述底座的一端固定连接有真空炉壳体，所述真空炉壳体的一端嵌设有气压控制阀，所述气压控制阀的一侧设有第二转轴，所述第二转轴的一端穿过真空炉壳体的一端设有第一电机，所述第一电机的一端固定连接在真空炉壳体上，所述第二转轴的另一端设有固定装置，所述第二转轴的另一端通过固定装置连接有弹簧杆，所述弹簧杆的另一端连接有第三转轴，所述第三转轴上穿插有齿轮，本实用新型专利技术通过离子枪以及蜗杆等结构相互作用，减小了接触角，增加了玻璃的亲水性，同时避免了清洗死角提高了清洗效率。

A linear wide width plasma cleaning device

The utility model discloses a linear wide width plasma cleaning device, including a base. One end of the base is fixedly connected with a vacuum furnace shell. One end of the shell of the vacuum furnace is provided with a pressure control valve. One side of the pressure control valve is provided with a second rotating shaft, one end of the second rotating shaft passes through a vacuum furnace shell. One end of the first motor is fixed on the housing of the vacuum furnace. The other end of the second shaft is provided with a fixed device. The other end of the second shaft is connected with a spring bar through a fixed device. The other end of the spring rod is connected with a third shaft, and the third rotating shaft is interspersed with a gear. Through the interaction of the structure of ion gun and worm, the utility model reduces the contact angle, increases the hydrophilicity of the glass, and avoids the cleaning dead angle and improves the cleaning efficiency.

【技术实现步骤摘要】
一种线性宽幅等离子清洗装置
本技术涉及智能装备控制技术，特别涉及一种线性宽幅等离子清洗装置。
技术介绍
近年来真空炉的应用不断扩大，尤其在一些机械、化工等领域的应用极为广泛，但是随着真空炉的应用广泛随之而来的问题也无限增多，其中真空炉中的内壁清洗尤为重要，但是传统的清洗装置成本高，而且效率低下，无法实现清洁过后减小接触角以及增加镀膜前玻璃的亲水性问题，无法为后续药液喷镀与玻璃的贴合提供先决条件,而且工作效率和产能低，同时这样的清洗装置不能旋转和移动容易出现清洗死角，为此，我们提出一种线性宽幅等离子清洗装置。
技术实现思路
本技术的主要目的在于提供一种线性宽幅等离子清洗装置，可以有效解决
技术介绍
中的问题。为实现上述目的，本技术采取的技术方案为：一种线性宽幅等离子清洗装置，包括底座，所述底座的一端固定连接有真空炉壳体，所述真空炉壳体的一端嵌设有气压控制阀，所述气压控制阀的一侧设有第二转轴，所述第二转轴的一端穿过真空炉壳体的一端设有第一电机，所述第一电机的一端固定连接在真空炉壳体上，所述第二转轴的另一端设有固定装置，所述第二转轴的另一端通过固定装置连接有弹簧杆，所述弹簧杆的另一端连接有第三转轴，所述第三转轴上穿插有齿轮，所述齿轮设有多个离子枪，每个所述离子枪的枪口朝向真空炉壳体侧壁，所述齿轮的一侧设有移动板，所述移动板的另一侧卡接有蜗杆，所述蜗杆的一侧啮合连接有蜗轮，所述蜗轮的中心处穿插有第一转轴，所述第一转轴上穿插有限位板，所述限位板卡接在真空炉壳体的侧壁上，所述第一转轴的一端穿过限位板并连接有第二电机，所述第二电机固定连接在真空炉壳体一端的内壁上，所述蜗杆的一端穿过限位板并连接在真空炉壳体上。进一步地，所述真空炉壳体的一侧壁上设有第一安装槽，所述第一安装槽内卡接有温度计，所述真空炉壳体的另一侧壁设有有第二安装槽，所述第二安装槽上卡接有控制面板。进一步地，所述固定装置包括固定块以及螺栓，所述固定块的一侧连接在第二转轴的一端，所述固定块的另一端设有凹槽，所述凹槽内连接有弹簧杆的一端，所述螺栓的一端穿过固定块并夹紧弹簧杆的一端。进一步地，所述齿轮设有多个第三安装槽，每个所述离子枪均卡接在第三安装槽内。进一步地，所述蜗杆的一端通过套丝设有外螺纹，所述限位板上通过攻丝设有内螺纹，所述蜗杆的一端与限位板之间螺纹连接。进一步地，所述底座的两端固定连接有圆柱套，所述圆柱套内穿插有固定螺钉。与现有技术相比，本技术具有如下有益效果：本技术的底座的两端固定连接有圆柱套，而且圆柱套内穿插有固定螺钉，这样可以固定设备在工作台上提高设备的稳定性，真空炉壳体的两侧壁上分别设有温度计和控制面板，通过观察温度的温度聊了解真空炉内的温度，可以避免温度过高造成机器损伤，可以利用控制面板来控制真空炉壳体内的设备，通过第二电机转动带动第一转轴和蜗轮转动，从而带动蜗杆转动，因为蜗杆和限位板螺纹连接，所述在转动的过程中可以让蜗杆向上运动，这样可以带动移动向上运动，同时打开第一电机让第二转轴旋转，弹簧杆医用螺栓和固定块卡接在第二转轴上方便拆卸和安装，这样可以带动第三转轴转动，让离子枪随着旋转，这样可以实现离子枪既能旋转的同时又能向上旋转，可以不断重复清洗真空炉内壁，且没有清洗死角，而且等离子清洗，通过创造活性官能基团增加清洗效果及提升基板粘性。附图说明图1为本技术一种线性宽幅等离子清洗装置的整体结构示意图；图2为本技术一种线性宽幅等离子清洗装置的移动板局部结构示意图。图中：1底座、2第一转轴、3蜗轮、4移动板、5离子枪、6温度计、7真空炉壳体、8气压控制阀、9第二转轴、10弹簧杆、11控制面板、12齿轮、13限位板、14蜗杆、15第三转轴。具体实施方式为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本技术。如图1-2所示，一种线性宽幅等离子清洗装置，包括底座1，其特征在于：所述底座1的一端固定连接有真空炉壳体7，所述真空炉壳体7的一端嵌设有气压控制阀8，所述气压控制阀8的一侧设有第二转轴9，所述第二转轴9的一端穿过真空炉壳体7的一端设有第一电机，所述第一电机的一端固定连接在真空炉壳体7上，所述第二转轴9的另一端设有固定装置，所述第二转轴9的另一端通过固定装置连接有弹簧杆10，所述弹簧杆10的另一端连接有第三转轴15，所述第三转轴15上穿插有齿轮12，所述齿轮12设有多个离子枪5，每个所述离子枪5的枪口朝向真空炉壳体7侧壁，所述齿轮12的一侧设有移动板4，所述移动板4的另一侧卡接有蜗杆14，所述蜗杆14的一侧啮合连接有蜗轮3，所述蜗轮3的中心处穿插有第一转轴2，所述第一转轴2上穿插有限位板13，所述限位板13卡接在真空炉壳体7的侧壁上，所述第一转轴2的一端穿过限位板13并连接有第二电机，所述第二电机固定连接在真空炉壳体7一端的内壁上，所述蜗杆14的一端穿过限位板13并连接在真空炉壳体7上。其中，所述真空炉壳体7的一侧壁上设有第一安装槽，所述第一安装槽内卡接有温度计6，所述真空炉壳体7的另一侧壁设有有第二安装槽，所述第二安装槽上卡接有控制面板11。其中，所述固定装置包括固定块以及螺栓，所述固定块的一侧连接在第二转轴9的一端，所述固定块的另一端设有凹槽，所述凹槽内连接有弹簧杆10的一端，所述螺栓的一端穿过固定块并夹紧弹簧杆10的一端。其中，所述齿轮12设有多个第三安装槽，每个所述离子枪5均卡接在第三安装槽内。其中，所述蜗杆14的一端通过套丝设有外螺纹，所述限位板13上通过攻丝设有内螺纹，所述蜗杆14的一端与限位板13之间螺纹连接。其中，所述底座1的两端固定连接有圆柱套，所述圆柱套内穿插有固定螺钉。需要说明的是，本技术的底座1的两端固定连接有圆柱套，而且圆柱套内穿插有固定螺钉，这样可以固定设备在工作台上提高设备的稳定性，真空炉壳体7的两侧壁上分别设有温度计6和控制面板11，通过观察温度6的温度聊了解真空炉内的温度，可以避免温度过高造成机器损伤，可以利用控制面板11来控制真空炉壳体7内的设备，通过第二电机转动带动第一转轴2和蜗轮3转动，从而带动蜗杆14转动，因为蜗杆14和限位板13螺纹连接，所述在转动的过程中可以让蜗杆14向上运动，这样可以带动移动4向上运动，同时打开第一电机让第二转轴2旋转，弹簧杆10医用螺栓和固定块卡接在第二转轴9上方便拆卸和安装，这样可以带动第三转轴15转动，让离子枪5随着旋转，这样可以实现离子枪5既能旋转的同时又能向上旋转，可以不断重复清洗真空炉内壁，且没有清洗死角，而且等离子清洗，通过创造活性官能基团增加清洗效果及提升基板粘性。以上显示和描述了本技术的基本原理和主要特征和本技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本技术的原理，在不脱离本技术精神和范围的前提下，本技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种线性宽幅等离子清洗装置，包括底座（1），其特征在于：所述底座（1）的一端固定连接有真空炉壳体（7），所述真空炉壳体（7）的一端嵌设有气压控制阀（8），所述气压控制阀（8）的一侧设有第二转轴（9），所述第二转轴（9）的一端穿过真空炉壳体（7）的一端设有第一电机，所述第一电机的一端固定连接在真空炉壳体（7）上，所述第二转轴（9）的另一端设有固定装置，所述第二转轴（9）的另一端通过固定装置连接有弹簧杆（10），所述弹簧杆（10）的另一端连接有第三转轴（15），所述第三转轴（15）上穿插有齿轮（12），所述齿轮（12）设有多个离子枪（5），每个所述离子枪（5）的枪口朝向真空炉壳体（7）侧壁，所述齿轮（12）的一侧设有移动板（4），所述移动板（4）的另一侧卡接有蜗杆（14），所述蜗杆（14）的一侧啮合连接有蜗轮（3），所述蜗轮（3）的中心处穿插有第一转轴（2），所述第一转轴（2）上穿插有限位板（13），所述限位板（13）卡接在真空炉壳体（7）的侧壁上，所述第一转轴（2）的一端穿过限位板（13）并连接有第二电机，所述第二电机固定连接在真空炉壳体（7）一端的内壁上，所述蜗杆（14）的一端穿过限位板（13）并连接在真空炉壳体（7）上。...

【技术特征摘要】
1.一种线性宽幅等离子清洗装置，包括底座（1），其特征在于：所述底座（1）的一端固定连接有真空炉壳体（7），所述真空炉壳体（7）的一端嵌设有气压控制阀（8），所述气压控制阀（8）的一侧设有第二转轴（9），所述第二转轴（9）的一端穿过真空炉壳体（7）的一端设有第一电机，所述第一电机的一端固定连接在真空炉壳体（7）上，所述第二转轴（9）的另一端设有固定装置，所述第二转轴（9）的另一端通过固定装置连接有弹簧杆（10），所述弹簧杆（10）的另一端连接有第三转轴（15），所述第三转轴（15）上穿插有齿轮（12），所述齿轮（12）设有多个离子枪（5），每个所述离子枪（5）的枪口朝向真空炉壳体（7）侧壁，所述齿轮（12）的一侧设有移动板（4），所述移动板（4）的另一侧卡接有蜗杆（14），所述蜗杆（14）的一侧啮合连接有蜗轮（3），所述蜗轮（3）的中心处穿插有第一转轴（2），所述第一转轴（2）上穿插有限位板（13），所述限位板（13）卡接在真空炉壳体（7）的侧壁上，所述第一转轴（2）的一端穿过限位板（13）并连接有第二电机，所述第二电机固定连接在真空炉壳体（7）一端的内壁上，所述蜗杆（14）的一端穿过...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗荣荣，
申请(专利权)人：深圳市一脉科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44