一种阵列基板及其制作方法、显示面板技术

本发明专利技术公开了一种阵列基板及其制作方法、显示面板，用以通过反射的方式将外界环境光进行反射，使得阵列基板通过半反射半透射的方式进行显示，从而改善了户外环境下阵列基板的显示效果。所述阵列基板，包括显示区域，所述显示区域包括开口区域，所述阵列基板包括：衬底基板，设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管；以及设置在所述衬底基板上且位于所述显示区域的金属反光层，所述金属反光层包括对光线具有反射作用的反光区域以及对光线具有透射作用的镂空区域；其中，所述金属反光层与所述薄膜晶体管中的任一膜层同层设置且相互绝缘。

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板及其制作方法、显示面板
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、显示面板。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显示器(thinfilmtransistor-liquidcrystaldisplay，TFT-LCD)包括具有光线透射作用的透射型显示产品，尤其针对便携式设备，在户外光照强烈的情况下其画面显示存在一定局限性。常常因为外界环境光较强，户外的光照强度远远高于室内，导致显示的内容难以分辨。通常情况下，为了改善此时的显示效果，显示器需提升背光的亮度以维持正常的内容显示，但这样不仅会加速电池电量的消耗，缩短显示器的待机时长，而且会对眼睛造成额外的伤害。因此，现有技术中的透射型的显示器，在外界环境光的作用下影响了显示面板的显示效果。
技术实现思路
本专利技术提供了一种阵列基板及其制作方法、显示面板，用以通过反射的方式将外界环境光进行反射，使得阵列基板通过半反射半透射的方式进行显示，从而改善了户外环境下阵列基板的显示效果。本专利技术实施例提供的一种阵列基板，包括显示区域，所述显示区域包括开口区域，所述阵列基板包括：衬底基板，设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管；以及设置在所述衬底基板上且位于所述开口区域的金属反光层，所述金属反光层包括对光线具有反射作用的反光区域以及对光线具有透射作用的镂空区域；其中，所述金属反光层与所述薄膜晶体管中的任一膜层同层设置且相互绝缘。在一种可能的实施方式中，本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，所述金属反光层远离所述衬底基板的表面具有凹凸不平的结构。在一种可能的实施方式中，本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，所述金属反光层的材料为银。在一种可能的实施方式中，本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，所述金属反光层与所述薄膜晶体管的有源层同层设置且相互绝缘。基于同一专利技术思想，本专利技术实施例还提供了一种显示面板，包括本专利技术实施例提供的上述任一种的阵列基板。基于同一专利技术思想，本专利技术实施例还提供了一种阵列基板的制作方法，该方法包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板上形成薄膜晶体管的图形的同时，采用构图工艺在衬底基板上形成金属反光层的图形，所述金属反光层的图形包括对光线具有反射作用的反光区域以及对光线具有透射作用的镂空区域；其中，所述金属反光层的图形在所述衬底基板上的垂直投影位于阵列基板的开口区域。在一种可能的实施方式中，本专利技术实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，在所述衬底基板上形成薄膜晶体管的图形的同时，采用构图工艺在衬底基板上形成金属反光层的图形，包括：在所述衬底基板上形成薄膜晶体管的有源层的图形之后，采用构图工艺在具有有源层的衬底基板上形成金属反光层的图形，且所述金属反光层远离所述衬底基板的表面具有凹凸不平的结构。在一种可能的实施方式中，本专利技术实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，采用构图工艺在具有有源层的衬底基板上形成金属反光层的图形，包括：在具有有源层的图形的衬底基板之上形成金属反光层；对所述金属反光层进行预处理，使所述金属反光层的表面具有凹凸不平的结构；在所述金属反光层之上形成第一光刻胶层，并对所述第一光刻胶层曝光、显影后形成第一光刻胶完全保留区域和第一光刻胶完全去除区域，其中，所述第一光刻胶完全保留区域对应所述金属反光层的反光区域；刻蚀所述第一光刻胶完全去除区域所对应的金属反光层，形成金属反光层的镂空区域；或者，在具有所述有源层的图形的衬底基板之上形成金属反光层；在所述金属反光层之上形成第一光刻胶层，并对所述第一光刻胶层曝光、显影后形成第一光刻胶完全保留区域和第一光刻胶完全去除区域，其中，所述第一光刻胶完全保留区域对应所述金属反光层的反光区域；刻蚀所述第一光刻胶完全去除区域所对应的金属反光层，形成金属反光层的镂空区域；剥离所述第一光刻胶完全保留区域所对应的第一光刻胶层，并仅对所述金属反光层的图形进行预处理，使所述金属反光层的表面具有凹凸不平的结构。在一种可能的实施方式中，本专利技术实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，仅对所述金属反光层的图形进行预处理，包括：在形成所述金属反光层的图形且剥离所述第一光刻胶完全保留区域所对应的第一光刻胶层之后，仅在所述有源层的图形之上形成第二光刻胶层，并对所述金属反光层的图形进行预处理。在一种可能的实施方式中，本专利技术实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，所述预处理包括采用惰性气体对所述金属反光层进行物理轰击。本专利技术有益效果如下：本专利技术实施例提供的阵列基板及其制作方法、显示面板中，所述阵列基板包括显示区域，所述显示区域包括开口区域，所述阵列基板包括：衬底基板，设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管；以及设置在所述衬底基板上且位于所述开口区域的金属反光层，所述金属反光层包括对光线具有反射作用的反光区域以及对光线具有透射作用的镂空区域；其中，所述金属反光层与所述薄膜晶体管中的任一膜层同层设置且相互绝缘。因此，本专利技术实施例提供的阵列基板中，当处于户外环境下具有外界光照时，通过金属反光层中的镂空区域将显示面板中的背光源的光线进行透射，且利用金属反光层中的反光区域将外界环境光反射出阵列基板，从而有效利用了外界环境光对阵列基板进行显示，避免全部采用背光源中的光线进行显示造成显示面板耗电、寿命短以及损伤用户眼睛的问题。另外，本专利技术中的金属反光层与薄膜晶体管中的任一膜层同层设置且相互绝缘，使得金属反光层的设置并没有影响显示区域中其他电极的正常工作，如像素电极和公共电极等。可见，本专利技术提供的阵列基板，通过反射的方式将外界环境光进行反射，使得阵列基板通过半反射半透射的方式进行显示，从而改善了户外环境下的显示效果。附图说明图1a-图1d分别为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图；图3a和图3b分别为本专利技术实施例提供的又一种金属反光层的结构示意图；图4为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的制作方法的流程示意图；图5a-图5f分别为本专利技术实施例提供的阵列基板的制作方法在执行每步骤之后对应的结构示意图；图6a-图6e分别为本专利技术实施例提供的阵列基板的制作方法在执行每步骤之后对应的又一种的结构示意图；图7为本专利技术实施例提供的一种显示装置的结构示意图。具体实施方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面将结合附图和实施例对本专利技术做进一步说明。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本专利技术更全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略对它们的重复描述。本专利技术中所描述的表达位置与方向的词，均是以附图为例进行的说明，但根据需要也可以做出改变，所做改变均包含在本专利技术保护范围内。本专利技术的附图仅用于示意相对位置关系，某些部位的层厚采用了夸示的绘图方式以便于理解，附图中的层厚并不代表实际层厚的比例关系。需要说明的是，在以下描述中阐述了具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以多种不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似推广。因此本专利技术不受下面公开的具体实施方式的限制。如在说明书及权利要求当中使用了某些词汇来指称特定组件。本领域技术人员应可理解，硬件制造商本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，包括显示区域，所述显示区域包括开口区域，其特征在于，所述阵列基板包括：衬底基板，设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管；以及设置在所述衬底基板上且位于所述开口区域的金属反光层，所述金属反光层包括对光线具有反射作用的反光区域以及对光线具有透射作用的镂空区域；其中，所述金属反光层与所述薄膜晶体管中的任一膜层同层设置且相互绝缘。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括显示区域，所述显示区域包括开口区域，其特征在于，所述阵列基板包括：衬底基板，设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管；以及设置在所述衬底基板上且位于所述开口区域的金属反光层，所述金属反光层包括对光线具有反射作用的反光区域以及对光线具有透射作用的镂空区域；其中，所述金属反光层与所述薄膜晶体管中的任一膜层同层设置且相互绝缘。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述金属反光层远离所述衬底基板的表面具有凹凸不平的结构。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述金属反光层的材料为银。4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述金属反光层与所述薄膜晶体管的有源层同层设置且相互绝缘。5.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-4任一权项所述的阵列基板。6.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，该方法包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板上形成薄膜晶体管的图形的同时，采用构图工艺在衬底基板上形成金属反光层的图形，所述金属反光层的图形包括对光线具有反射作用的反光区域以及对光线具有透射作用的镂空区域；其中，所述金属反光层的图形在所述衬底基板上的垂直投影位于阵列基板的开口区域。7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，在所述衬底基板上形成薄膜晶体管的图形的同时，采用构图工艺在衬底基板上形成金属反光层的图形，包括：在所述衬底基板上形成薄膜晶体管的有源层的图形之后，采用构图工艺在具有有源层的衬底基板上形成金属反光层的图形，且所述金属反光层远离所述衬底基板的表面具...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚磊，史大为，王文涛，杨璐，徐海峰，闫雷，王金锋，司晓文，闫芳，薛进进，候林，郭志轩，李元博，李晓芳，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京,11