触控装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种触控装置，其包括基底、第一绝缘层、导电图案层、第二绝缘层以及油墨层。第一绝缘层位于基底上。导电图案层形成在第一绝缘层上。第二绝缘层形成在导电图案层上。油墨层形成在第二绝缘层上，其中第二绝缘层具有第一开口及/或导电图案层具有第二开口。

【技术实现步骤摘要】
触控装置
本专利技术涉及一种触控装置，且特别是涉及一种具有油墨层的触控装置。
技术介绍
在一些电子产品中，厂商会在特定的位置上利用图案化制作工艺形成特定的图案。这些图案例如是厂商自己独有的标记，以让使用者能知道产品是由哪间厂商所生产。这些图案也可以是为了方便使用者理解如何操作产品的标记，例如是可以在产品上具有不同功能的按键上形成不同的图案。然而，在现有的电子产品中，这些图案很容易损坏及剥落。因此，目前亟需一种可以改善前述问题的方法。
技术实现思路
本专利技术的至少一实施例提供一种触控装置，可以改善油墨层容易剥落的问题。本专利技术的至少一实施例的触控装置包括基底、第一绝缘层、导电图案层、第二绝缘层以及油墨层。第一绝缘层位于基底上。导电图案层形成在第一绝缘层上。第二绝缘层形成在导电图案层上。油墨层形成在第二绝缘层上，其中第二绝缘层具有第一开口及/或导电图案层具有一第二开口。本专利技术的目的之一为改善第二绝缘层上的油墨层容易剥离的问题。本专利技术的目的之一为改善位于导电图案层上的第二绝缘层容易剥离的问题。为让本专利技术的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附的附图作详细说明如下。附图说明图1是本专利技术的一实施例的一种触控装置的上视示意图；图2是本专利技术的一实施例的一种触控装置的局部放大示意图；图3A是本专利技术的一实施例的一种触控装置的局部放大上视示意图；图3B是沿着图3A剖线AA’的剖面示意图；图4是本专利技术的一实施例的一种触控装置的局部放大上视示意图；图5A是本专利技术的一实施例的一种触控装置的局部放大上视示意图；图5B是沿着图5A剖线BB’的剖面示意图；图6是本专利技术的一实施例的一种触控装置的局部放大上视示意图；图7是本专利技术的一实施例的一种触控装置的局部剖面示意图；图8是本专利技术的一实施例的一种触控装置的局部剖面示意图；图9是本专利技术的一实施例的一种遮光层的上视示意图。符号说明10：触控装置100：基底110：第一缓冲层120：遮光层130：第二缓冲层140：第一绝缘层150：导电图案层150A：第一触控电极150B：第二触控电极160：第二绝缘层170：油墨层AA：主要触控区BA：周边区C1、C2：接触结构DR：驱动电路H：透光孔ICN：触控件L：导线m、n：宽度O1：第一开口O2：第二开口PA：触控电极阵列R1、R2：区域具体实施方式图1是依照本专利技术的一实施例的一种触控装置的上视示意图。请参考图1，触控装置10包括基底100、驱动电路DR、导线L、触控电极阵列PA以及触控件ICN。基底100具有主要触控区AA以及位于主要触控区AA至少一侧的周边区BA。基底100的材质可为玻璃、石英、有机聚合物或其他可适用的材料。在本实施例中，基底100例如为异形基板，但本专利技术不以此为限。基底100的形状还可以包括三角形、矩形、椭圆形或其他几何形状或多种几何形状的组合。触控电极阵列PA位于基底100的主要触控区AA上。触控电极阵列PA举例包括多条彼此相交的横向触控电极串以及纵向触控电极串。驱动电路DR位于基底100的周边区BA上。基底100的周边区BA上具有多个触控件ICN，导线L电连接驱动电路DR以及触控件ICN之间。图2是依照本专利技术的一实施例的一种触控装置的局部放大上视示意图，例如是图1的区域R1的部分的上视示意图。在此必须说明的是，为了使图2能清楚的显示触控件ICN中的导电图案层150，图2省略绘示了其他构件。图3A是依照本专利技术的一实施例的一种触控装置的局部放大上视示意图，例如是对应图2中的区域R2的部分的上视示意图。图3B是沿着图3A剖线AA’的剖面示意图。在此必须说明的是，为了使图3A能清楚的显示触控件ICN中的第二绝缘层160以及油墨层170，图3A省略绘示了其他构件。请同时参考图2、图3A以及图3B，触控装置10包括基底100、第一缓冲层110、遮光层120、第二缓冲层130、第一绝缘层140、导电图案层150、第二绝缘层160、油墨层170、发光元件210以及对向基板200。第一缓冲层110形成于基底100上。第一缓冲层110的材料例如包括硅的氮氧化物、有机材料或其他适合的材料或前述材料的组合。在一些实施例中，第一缓冲层110具有调整色差的功能。遮光层120形成于第一缓冲层110上。遮光层120具有透光孔H，透光孔H的形状对应一图案。在一些实施例中，透光孔H对应的图案例如包括文字、数字或其他标记。请参考图3B，在本实施例中，透光孔H中可填入填充材料(未标示)，但本专利技术不以此为限，在变化例中，形成于遮光层120上的第二缓冲层130可填入透光孔H中，亦即第二缓冲层130位于遮光层120的上表面上且填入透光孔H并与第一缓冲层110接触，但本专利技术不以此为限。触控装置10选择性的可以包括第二缓冲层130。第二缓冲层130形成于遮光层120上。在一些实施例中，第二缓冲层130的材料例如包括硅的氮氧化物、硅的氧化物、有机材料或其他适合的材料或前述材料的组合。第一绝缘层140，第一绝缘层140位于基底100上，且形成于第二缓冲层130上。在一些实施例中，第一绝缘层140的材料例如包括硅的氮氧化物、硅的氧化物、有机材料或其他适合的材料或前述材料的组合。导电图案层150形成在第一绝缘层140上，导电图案层150例如为透明导电材料。在一些实施例中，导电图案层150的材料例如包括铟锡氧化物、铜、银或其他适合的材料或前述材料的组合。导电图案层150包括彼此不接触的第一触控电极150A与第二触控电极150B。在本实施例中，第一触控电极150A为工字形，且第二触控电极150B实质上包围第一触控电极150A，但本专利技术不以此为限。在其他实施例中，第一触控电极150A与第二触控电极150B也可以是其他不同的几何形状。在一些实施例中，第一触控电极150A具有接触结构C1，接触结构C1与位于其他膜层的导线电连接，例如是与导线L(绘于图1)电连接。在一些实施例中，第二触控电极150B具有接触结构C2，接触结构C2与位于其他膜层的导线电连接，例如是与另一导线L(绘于图1)电连接。在一些实施例中，导线L例如位于第一绝缘层140以及第二缓冲层130之间，但不以此为限。第一触控电极150A与第二触控电极150B分别电连接至不同的导线L，且第一触控电极150A与第二触控电极150B传递不同的信号。虽然在本实施例是以导电图案层150包括自容式触控电极为例，但本专利技术不以此为限。在其他实施例中，导电图案层150也可以包括互容式触控电极。第二绝缘层160形成在导电图案层150上。在本实施例中，第一缓冲层110、遮光层120、第二缓冲层130、第一绝缘层140以及导电图案层150都位于第二绝缘层160下方。在一些实施例中，第二绝缘层160具有抗水气、高硬度以及高粘着性等特性，且触控装置可以通过第二绝缘层160来调整光学性质。第二绝缘层160的材料例如包括硅的氮氧化物、硅的氧化物、有机材料或其他适合的材料或前述材料的组合。在一些实施例中，第二缓冲层130、第一绝缘层140以及第二绝缘层160具有相同的材料。第二绝缘层160具有多个第一开口O1。在本实施例中，第一开口O1的形状为矩形，第一开口O1在不同方向上分别具有宽度m以及宽度n，第一开口O1的开口大小为m×n，其中m举例为大于本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种触控装置，其特征在于，该触控装置包括：基底；第一绝缘层，位于该基底上；导电图案层，形成在该第一绝缘层上；第二绝缘层，形成在该导电图案层上；以及油墨层，形成在该第二绝缘层上，其中该第二绝缘层具有一第一开口及/或该导电图案层具有一第二开口。

【技术特征摘要】
2017.09.29 TW 1061335951.一种触控装置，其特征在于，该触控装置包括：基底；第一绝缘层，位于该基底上；导电图案层，形成在该第一绝缘层上；第二绝缘层，形成在该导电图案层上；以及油墨层，形成在该第二绝缘层上，其中该第二绝缘层具有一第一开口及/或该导电图案层具有一第二开口。2.如权利要求1所述的触控装置，其中该第二绝缘层具有该第一开口，该油墨层通过该第一开口而与该导电图案层接触。3.如权利要求2所述的触控装置，其中该第一开口的开口大小为m×n，其中24μm≤m≤36μm且24μm≤n≤36μm。4.如权利要求2所述的触控装置，其中该第一开口的形状为十字形。5.如权利要求2所述的触控装置，其中该第一开口的面积为大于或等于576μm2且小于或等于1296μm2。6.如权利要求1所述的触控装置，其中该第二绝缘层具有该第一开口，且该导电图案层具有该第二开口，该油墨层通过该第一开口以及该第二开口而与该第一绝缘层接触。7.如权利要求1所述的触控装置，其中该第二绝缘层具有该第一开口，且该导电图案层具有该第二开口，该第一开口与该第二开口错开。8.如权利要求1所述的触控装置，其中该导电图案层具有该第二开口，该第二绝缘层通过该第二开口而与该第一绝缘层接触。9.如权利要求1所述的触控装置，其中该导电图案层包括彼此不接触的一第一触控...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁廖杰，曾繁新，萧良镔，蓝国华，张世承，卢聪林，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71