线栅偏光器以及使用此线栅偏光器的显示面板制造技术

本发明专利技术提供一种线栅偏光器以及使用此线栅偏光器的显示面板。线栅偏光器包含基材、多个线栅、多个图案化吸光层、以及表面覆盖层。多个线栅设置于基材上，其中该些线栅两两间具有多个间隙。多个图案化吸光层与该些线栅对应设置且重迭，其中，该些图案化吸光层两两间具有该些间隙。表面覆盖层设置于该些图案化吸光层上，且与该些图案化吸光层直接接触。

【技术实现步骤摘要】
线栅偏光器以及使用此线栅偏光器的显示面板
本专利技术关于一种线栅偏光器以及使用此线栅偏光器的显示面板。
技术介绍
偏光膜是一种仅允许特定偏振方向通过的光学膜，能将自然光转换为直线偏光，其作用原理是仅让直交入射光线中的水平方向光线通过，而吸收垂直方向光线或利用反射和散射等方式加以遮蔽。偏光膜目前已被广泛的应用于各种物品。以液晶显示器而言，其主要利用两片偏光膜(PolarizingFilm)所产生的线偏光达到显示效果。其主要光源由背光模块提供，背光产生光线经过第一片偏光板后产生线偏光；随着液晶分子的排列扭转，达到第二片偏光板后产生亮暗变化，再到观看者眼内达到显示效果。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种线栅偏光器，可使线栅较不易损坏或被污染，并改善消光比下降的程度。本专利技术的主要目的在于提供一种显示面板，可使当中的线栅较不易损坏或被污染，并改善消光比下降的程度。线栅偏光器包含基材、多个线栅、多个图案化吸光层、以及表面覆盖层。多个线栅设置于基材上，其中该些线栅两两间具有多个间隙。多个图案化吸光层与该些线栅对应设置且重迭，其中，该些图案化吸光层两两间具有该些间隙，该些图案化吸光层比该些线栅较接近外部光的入射方向。表面覆盖层设置于该些图案化吸光层上，且与该些图案化吸光层直接接触。显示面板包含前述的线栅偏光器、另一基材、显示介质、以及像素层。另一基材设置于线栅偏光器的基材上。显示介质设置于基材与另一基材之间。像素层设置于基材或另一基材其中一者上，其中，像素层具有多个子像素，每个子像素具有至少一像素电极，其电性连接于所对应的切换元件。附图说明图1为本专利技术线栅偏光器的对比实施例一示意图；图2为本专利技术线栅偏光器的较佳实施例示意图；图3A、图3B、图3C为本专利技术线栅偏光器的对比实施例二、对比实施例三与对比实施例四示意图；图4、图5、图6、图7为本专利技术线栅偏光器设置于显示面板的下基板的示范例；图8、图9、图10为本专利技术线栅偏光器设置于显示面板的上基板的示范例；图11、图12为本专利技术线栅偏光器设置于显示面板的上基板与下基板的示范例。其中，附图标记：110基材120另一基材200线栅201另一线栅222间隙224间隙300图案化吸光层301另一图案化吸光层400表面覆盖层401另一表面覆盖层410凸起部411第一壁体412第二壁体7010透明平坦层7012遮光层8000线栅偏光器8002另一线栅偏光器9000显示面板9001显示侧H200线栅的高度H300图案化吸光层的高度H301另一图案化吸光层的高度420另一凸起部421第三壁体422第四壁体500显示介质600像素层700波长转换层800偏光膜901、902配向层910外部光的入射方向2030图案化结构3011第一层3012第二层7002、7004、7006转换部H410凸起部的高度H420另一凸起部的高度H3012第二层的高度I人眼P1、P1’第一端P2、P2’第二端W200线栅的宽度具体实施方式在附图中，为了清楚起见，放大了层、膜、面板、区域等的厚度。在整个说明书中，相同的附图标记表示相同的元件。应当理解，当诸如层、膜、区域或基板的元件被称为在另一元件”上”或”连接到”另一元件时，其可以直接在另一元件上或与另一元件连接，或者中间元件可以也存在。相反，当元件被称为”直接在另一元件上”或”直接连接到”另一元件时，不存在中间元件。如本文所使用的，”连接”可以指物理及/或电连接。本文使用的”约”、”近似”或、”实质上”包括所述值和在本领域普通技术人员确定的特定值的可接受的偏差范围内的平均值，考虑到所讨论的测量和与测量相关的误差的特定数量(即，测量系统的限制)。例如，”约”可以表示在所述值的一个或多个标准偏差内，或±30％、±20％、±10％、±5％内。再者，本文使用的“约”、”近似”或“实质上”可依光学性质、蚀刻性质或其它性质，来选择较可接受的偏差范围或标准偏差，而可不用一个标准偏差适用全部性质。除非另有定义，本文使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本专利技术所属领域的普通技术人员通常理解的相同的含义。将进一步理解的是，诸如在通常使用的字典中定义的那些术语应当被解释为具有与它们在相关技术和本专利技术的上下文中的含义一致的含义，并且将不被解释为理想化的或过度正式的意义，除非本文中明确地这样定义。此外，诸如”下”或”底部”和”上”或”顶部”的相对术语可在本文中用于描述一个元件与另一元件的关系，如图所示。应当理解，相对术语旨在包括除了图中所示的方位之外的装置的不同方位。例如，如果一个附图中的装置翻转，则被描述为在其他元件的”下”侧的元件将被定向在其他元件的”上”侧。因此，示例性术语”下”可以包括”下”和”上”的取向，取决于附图的特定取向。类似地，如果一个附图中的装置翻转，则被描述为在其它元件”下方”或”下方”的元件将被定向为在其它元件”上方”。因此，示例性术语”下面”或”下面”可以包括上方和下方的取向。请参阅图1，图1为本专利技术线栅偏光器的对比实施例一。线栅偏光器80包含基板10、线栅20、以及保护层40。线栅20设置于基板10上，保护层40覆盖于线栅20上，且保护层40分别包覆线栅20两侧表面S1、S3与连接两侧表面的顶表面S2。然而，线栅20的各表面S1、S2、S3与保护层40直接接触，可能让线栅会被污染或易损坏，也可能会造成线栅偏光器80整体消光比下降，而降低整体显示质量。如图2所示的实施例，本专利技术的线栅偏光器8000，包含基材110、多个线栅200、多个图案化吸光层300、以及表面覆盖层400。多个线栅200设置于基材110上，其中多个线栅200两两间具有多个间隙222，例如:两相邻的该些线栅200之间具有间隙222。多个图案化吸光层300与多个线栅200对应设置且重迭。其中，多个图案化吸光层300两两间也具有多个间隙222，例如:两相邻的该些图案化吸光层300之间具有间隙222。在一实施例中，多个图案化吸光层300较佳为比多个线栅200较接近外部光的入射方向910，然外部光的入射方向910并非用以限制本专利技术。表面覆盖层400设置于多个图案化吸光层300上，且与多个图案化吸光层300直接接触。在一实施例中，基材110举例为玻璃，线栅200举例为铝，图案化吸光层300举例为二氧化硅(SiO2)，表面覆盖层400举例为氧化铟锡(Indiumtinoxide，ITO)。然而在不同实施例中，本领域技术人员可依照实际的需求选择基材110、线栅200、图案化吸光层300的具体材料。基材110可以使用例如石英、聚合物材料(例如:压克力、三醋酸纤维素(TriacetylCellulose，TAC)、环烯烃聚合物(Cycloolefinpolymer，COP)、聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)或聚乙烯对苯二甲酸酯(PolyethyleneTerephthalate，PET))等材料。线栅200材料选自于金属或合金，例如可使用例如铬、银、铜、镍、钴、铝、金等材料。图案化吸光层300可使用一氧化镍(NiO)、硅化铁(FeSi)、氧化钼(MoOx)、氧化钽钼(MoTaOx)、二氧化镁(MgO2)、二氧化铈(CeO2)、二氧化锆(ZrO2)、或氧化锌(ZnO)等材料，约平坦及表面本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种线栅偏光器，其特征在于，包含：一基材；多个线栅，设置于该基材上，其中该些线栅两两间具有多个间隙；多个图案化吸光层，与该些线栅对应设置且重迭，其中，该些图案化吸光层两两间具有该些间隙，该些图案化吸光层比该些线栅较接近外部光的入射方向；以及一表面覆盖层，设置于该些图案化吸光层上，且与该些图案化吸光层直接接触。

【技术特征摘要】
2017.09.22 TW 1061326901.一种线栅偏光器，其特征在于，包含：一基材；多个线栅，设置于该基材上，其中该些线栅两两间具有多个间隙；多个图案化吸光层，与该些线栅对应设置且重迭，其中，该些图案化吸光层两两间具有该些间隙，该些图案化吸光层比该些线栅较接近外部光的入射方向；以及一表面覆盖层，设置于该些图案化吸光层上，且与该些图案化吸光层直接接触。2.根据权利要求1所述的线栅偏光器，其特征在于，该些线栅的高度大于该些图案化吸光层的高度。3.根据权利要求1所述的线栅偏光器，其特征在于，该表面覆盖层的表面具有多个凸起部，且该些凸起部往该些线栅延伸，其中，该些凸起部其中至少之一者与该些图案化吸光层其中至少之一者的侧壁直接接触，该些凸起部不填满于该些间隙。4.根据权利要求3所述的线栅偏光器，其特征在于，该些凸起部包括一第一壁体与一第二壁体，且该第一壁体与该第二壁体分别连接两相邻的该些图案化吸光层的侧壁。5.根据权利要求4所述的线栅偏光器，其特征在于，该些凸起部的高度小于该些图案化吸光层的高度。6.根据权利要求1所述的线栅偏光器，其特征在于，该线栅的材料选自于金属或合金，且该表面覆盖层的材料选自于透明导电材料、氧化硅、氧化氮或氧化氮硅。7.一种显示面板，其特征在于，包含：权利要求1到6任一项所述的线栅偏光器；一另一基材，设置于该线栅偏光器的该基材上；一显示介质，设置于该基材与该另一基材之间；以及一像素层，设置于该基材或该另一基材其中一者上，其中，该像素层具有多个子像...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈煌凱，黄胜铭，吕仁贵，陈志强，张晖谷，罗再昇，鍾佳欣，王潍淇，林圣凱，王铭瑞，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71