一种低本底实验室专用的超高屏蔽门制造技术

本发明专利技术公开了一种低本底实验室专用的超高屏蔽门，包括防辐射门、门框、分别处于门框上下两侧的上导轨和下导轨，门框上具有门口，防辐射门的上下两侧分别连接上导轨和下导轨实现滑动，门口的四周和防辐射门上均设有弯折，防辐射门在关闭时门口的弯折与防辐射门的弯折相互搭接使缝隙变得曲折。在门与门框之间的缝隙处改进，增加了弯折配合，使得防辐射门在关闭时防辐射门与门框之间缝隙的横截面变得弯折，其效果便是辐射难以折射出去或者折射进入。此发明专利技术用于辐射屏蔽领域。

【技术实现步骤摘要】
一种低本底实验室专用的超高屏蔽门
本专利技术涉及辐射屏蔽领域，特别是涉及一种低本底实验室建设中对自然存在的本底辐射的屏蔽系统。
技术介绍
自然界中天然本底辐射是由垂直入射的高能射线宇宙射线、空气中的氡、地球天然γ辐射和建筑材料中核素产生的辐射，这些天然射线一般不会对人体产生危害，但会干扰物理研究中的数据测量精度。在低本底实验室中，需要进行一系列高精度的监测活动，为避免自然本底辐射对数据的干扰，对辐射屏蔽提出了非常高的要求。在门口的位置，传统做法仅仅是采用一块可滑动的平板防辐射板作为遮挡，不同于传统应用中的辐射源或射线装置，自然本底射线除了宇宙射线以外，空气中的氡、地球天然γ辐射和建筑材料中核素产生的辐射和自然本底射线来自于整个实验室的六面空间，即射线从空间的各个角度入射，若门与墙之间的缝隙处不作进一步处理，射线仍然有可能直射、折射进去。高标准的低本底实验室的目标控制值往往在30nGy/h以内，传统做法的平板防辐射板以及平板防辐射门已不能满足屏蔽要求。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种避免射线多次折射后溢出房间的低本底实验室专用的超高屏蔽门。本专利技术所采取的技术方案是：一种低本底实验室专用的超高屏蔽门，包括防辐射门、门框、分别处于门框上下两侧的上导轨和下导轨，门框上具有门口，防辐射门的上下两侧分别连接上导轨和下导轨实现滑动，门口的四周和防辐射门上均设有弯折，防辐射门在关闭时门口的弯折与防辐射门的弯折相互搭接使防辐射门与门框之间的缝隙变得曲折。作为上述方案的改进，门口在防辐射门运动方向上的首尾两侧分别设有第一凹槽和第二弯折，门口上下两侧分别设有第三凹槽和第四凹槽。作为上述方案的改进，第一凹槽、第三凹槽和第四凹槽的横截面均为U形，第二弯折的横截面为L形。作为上述方案的改进，第一凹槽和第二弯折的开口方向相同，第三凹槽和第四凹槽的开口方向均朝向外侧。作为上述方案的改进，防辐射门的上下两侧分别具有第五弯折和第六弯折，第五弯折与第三凹槽搭接，第六弯折与第四凹槽搭接。作为上述方案的改进，第五弯折和第六弯折的横截面均为L形。作为上述方案的改进，防辐射门在运动方向的尾侧设有横截面为L形的第七弯折，第七弯折与第二弯折搭接。作为上述方案的改进，防辐射门与上导轨之间以及与下导轨之间均设有滚轮。作为上述方案的改进，门框在门口上方的位置设有盖板。本专利技术的有益效果：此低本底实验室专用的超高屏蔽门在门与门框之间的缝隙处改进，增加了弯折配合，使得防辐射门在关闭时缝隙的横截面变得弯折，其效果便是辐射难以折射出去或者折射进入；就算射线能泄露出去，在缝隙中多次折射也会减损其威力，其最终的辐射量可以忽略不计。附图说明下面结合附图对本专利技术作进一步说明：图1是门框的示意图；图2是防辐射门的示意图；图3是防辐射门展开后的示意图；图4是超高屏蔽门的侧视剖面的原理图；图5是超高屏蔽门的俯视剖面的原理图。具体实施方式参照图1～图5，本专利技术为一种低本底实验室专用的超高屏蔽门，包括防辐射门1、门框2、分别处于门框2上下两侧的上导轨3和下导轨4，门框2上具有门口，防辐射门1的上下两侧分别连接上导轨3和下导轨4实现滑动，防辐射门1与上导轨3之间以及与下导轨4之间均设有滚轮；上导轨3由门框2上的沟槽形成，下导轨4由地面上的沟槽形成。门口的四周和防辐射门1的边缘均设有弯折，防辐射门1在关闭时门口的弯折与防辐射门1的弯折相互搭接使防辐射门与门框之间缝隙变得曲折。在门与门框2之间的缝隙处改进，增加了弯折配合，使得防辐射门1在关闭时缝隙的横截面变得弯折，其效果便是辐射难以折射出去或者折射进入；就算射线能泄露出去，在缝隙中多次折射也会大幅度减损其威力，其最终的辐射量可以忽略不计。参照图1，以左侧为运动方向的首侧，以右侧为运动方向的尾侧。具体地，门口在防辐射门1运动方向上的首尾两侧分别设有第一凹槽21和第二弯折22，门口上下两侧分别设有第三凹槽23和第四凹槽24。第一凹槽21和第二弯折22的开口方向相同；第三凹槽23和第四凹槽24的开口方向分别朝向门口正对的外侧。与此同时，防辐射门1的上下两侧分别具有第五弯折11和第六弯折12，第五弯折11和第六弯折12的开口方向彼此正对，如此设计的好处便是防辐射门1的上下两侧可以形成较宽的平面，以便为之后安装滚轮；第五弯折11插入第三凹槽23，第六弯折12插入第四凹槽24。防辐射门1在运动方向的尾侧设有第七弯折13，第七弯折13与第二弯折22搭接。第一凹槽21、第三凹槽23和第四凹槽24的横截面均为U形，第二弯折22、第五弯折11、第六弯折12和第七弯折13的横截面均为L形，同时上述弯折和凹槽也均由防辐射材料制作。在制作过程中，最为简便的方法是把防辐射门1制作成图3的外形然后再进行冲压整形。对于第一凹槽21、第二弯折22、第三凹槽23和第四凹槽24，则是分别地加工，后安装到门框2上。作为优选的实施方式，门框2在门口上方的位置设有盖板5，可以遮蔽上导轨3和第三凹槽23，使得整个门框2显得整齐美观，同时盖板5上可以增加文字标识。盖板5的横截面为弧形。当然，本设计创造并不局限于上述实施方式，上述各实施例不同特征的组合，也可以达到良好的效果。熟悉本领域的技术人员在不违背本专利技术精神的前提下还可作出等同变形或替换，这些等同的变型或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低本底实验室专用的超高屏蔽门，其特征在于：包括防辐射门(1)、门框(2)、分别处于门框(2)上下两侧的上导轨(3)和下导轨(4)，所述门框(2)上具有门口，所述防辐射门(1)的上下两侧分别连接上导轨(3)和下导轨(4)实现滑动，所述门口的四周和防辐射门(1)上均设有弯折，所述防辐射门(1)在关闭时门口的弯折与防辐射门(1)的弯折相互搭接使防辐射门(1)与门框(2)之间的缝隙变得曲折。

【技术特征摘要】
1.一种低本底实验室专用的超高屏蔽门，其特征在于：包括防辐射门(1)、门框(2)、分别处于门框(2)上下两侧的上导轨(3)和下导轨(4)，所述门框(2)上具有门口，所述防辐射门(1)的上下两侧分别连接上导轨(3)和下导轨(4)实现滑动，所述门口的四周和防辐射门(1)上均设有弯折，所述防辐射门(1)在关闭时门口的弯折与防辐射门(1)的弯折相互搭接使防辐射门(1)与门框(2)之间的缝隙变得曲折。2.根据权利要求1所述的低本底实验室专用的超高屏蔽门，其特征在于：所述门口在防辐射门(1)运动方向上的首尾两侧分别设有第一凹槽(21)和第二弯折(22)，所述门口上下两侧分别设有第三凹槽(23)和第四凹槽(24)。3.根据权利要求2所述的低本底实验室专用的超高屏蔽门，其特征在于：所述第一凹槽(21)、第三凹槽(23)和第四凹槽(24)的横截面均为U形，所述第二弯折(22)的横截面为L形。4.根据权利要求3所述的低本底实验室专用的超高屏蔽门，其特征在于：所述第一凹槽(21)和第二...

【专利技术属性】
技术研发人员：龙远奎，陈敏婷，陈秋宏，方克生，刘庭立，
申请(专利权)人：广东中科揽胜辐射防护科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44