曝光机的曝光量自动调节系统及方法技术方案

本发明专利技术公开了一种曝光机的曝光量自动调节系统，包括：获取单元，用于获取系统预设的预设线距；建模单元，用于建立预设线距和与之所对应的曝光后的测量线距之间的函数模型；计算单元，用于将检测到的当前预设线距带入该函数模型，获得当前的测量线距；曝光量调节单元，用于根据当前的测量线距调节曝光机的曝光量。本发明专利技术还公开了一种曝光机的曝光量自动调节方法。本发明专利技术通过采用曝光前后基板图案的线距之间的关系确定出预设线距与测量的实际线距之间的对应关系，通过该对应关系结合实时采集的系统预设线距，确定其曝光后应有的测量线距，然后根据该测量线距调节曝光量，实现了曝光量的自动调节，使得曝光量始终能够实现预期的制程参数。

【技术实现步骤摘要】
曝光机的曝光量自动调节系统及方法
本专利技术涉及光刻
，尤其涉及一种曝光机的曝光量自动调节系统及方法。
技术介绍
目前在液晶面板生产中，曝光机的曝光调节参数只要是通过人为的输入，在实际生产过程中，由于多种外界变量的干扰，彩膜厂的制程所得的光刻胶的OfflineCD(离线尺寸，即与机台分离进行测量)会出现波动，这时就需要人为的去调节曝光机的曝光量，以期望能得到想要的制程参数。为防止由于干扰所产生的波动过大，在实际的操作过程中，需要人为的去监控InlineCD机台的量测结果，以期望得到一个实际的波动趋势，以便及时有效的调节曝光机的曝光量，这样就需要消耗人力在数据监控上，稍有不慎还会出现监控不到位的情况，导致产品出现OfflineCD波动过大的现象，对产品品质造成不良影响。
技术实现思路
鉴于现有技术存在的不足，本专利技术提供了一种曝光机的曝光量自动调节系统及方法，可以实现曝光机的曝光量的自动监控与自动调节，解放了劳动力，并保证了曝光精度。为了实现上述的目的，本专利技术采用了如下的技术方案：一种曝光机的曝光量自动调节系统，包括：获取单元，用于获取系统预设的基板图案的预设线距；建模单元，用于根据多组所述预设线距和与之所对应的曝光后的测量线距数据，建立所述测量线距与所述预设线距的函数模型；计算单元，用于将所述获取单元检测到的当前基板图案的所述预设线距带入所述测量线距与预设线距的函数模型，获得当前基板图案的对应的测量线距；曝光量调节单元，用于根据所述计算单元获得的当前基板图案的所述测量线距调节曝光机的曝光量。作为其中一种实施方式，曝光机的曝光量与所述计算单元获得的当前基板图案的所述测量线距之间的关系满足：y＝kx+b，且k＜0，其中y为曝光机的曝光量，x为所述计算单元获得的当前基板图案的所述测量线距。作为其中一种实施方式，所述的曝光机的曝光量自动调节系统还包括判断单元，所述判断单元用于将所述计算单元获得的当前基板图案的所述测量线距与预设线距范围进行对比，在所述测量线距超出所述预设线距范围时，曝光机暂停工作。作为其中一种实施方式，所述的曝光机的曝光量自动调节系统还包括警示单元，所述警示单元用于在所述测量线距超出所述预设线距范围时，发出提醒信号。作为其中一种实施方式，所述预设线距范围为所述预设线距上下偏移不超过10％。本专利技术的另一目的在于提供一种曝光机的曝光量自动调节方法，包括：根据多组所述预设线距和与之所对应的曝光后的测量线距数据，建立测量线距与预设线距的函数模型；获取系统预设的基板图案的预设线距；将获取到的当前基板图案的所述预设线距带入所述测量线距与预设线距的函数模型，获得当前基板图案的对应的测量线距；根据获得的当前基板图案的所述测量线距调节曝光机的曝光量。作为其中一种实施方式，曝光机的曝光量与获得的当前基板图案的所述测量线距之间的关系满足：y＝kx+b，且k＜0，其中y为曝光机的曝光量，x为获得的当前基板图案的所述测量线距。作为其中一种实施方式，所述的曝光机的曝光量自动调节方法还包括：将获得的当前基板图案的所述测量线距与预设线距范围进行对比，在所述测量线距超出所述预设线距范围时，曝光机暂停工作。作为其中一种实施方式，所述的曝光机的曝光量自动调节方法还包括：在所述测量线距超出所述预设线距范围时，发出提醒信号。作为其中一种实施方式，所述预设线距范围为所述预设线距上下偏移不超过10％。本专利技术通过采用曝光前后基板图案的线距之间的差异关系确定出预设的线距与测量的实际线距之间的对应关系，通过该对应关系结合实时采集的系统预设的基板图案的线距，确定出曝光机所能制作出的实际的基板图案的线距，然后根据该实际线距调节曝光机的曝光量。此种方式实现了曝光量的自动调节，可以保证曝光量始终能够实现预期的制程参数。附图说明图1为本专利技术实施例的曝光量自动调节系统的一种结构框图；图2为本专利技术实施例的曝光量自动调节系统的另一结构框图；图3为本专利技术实施例的曝光量自动调节方法的流程图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。参阅图1，本专利技术实施例的曝光机曝光量的自动调节系统主要包括：获取单元1，用于获取系统预设的基板图案的预设线距L1；建模单元2，用于根据多组预设线距L1和与之所对应的曝光后的测量线距L2数据，建立测量线距与预设线距的函数模型，该多组预设线距和与之所对应的曝光后的测量线距L2数据可以通过对曝光机人为的进行多次反复制程获得，在此过程中，预设线距L1可以实现自动获取，测量线距L2为通过人为读取测量结果后上传，也可以通过机器记录后上传至调节系统；计算单元3，用于将获取单元获取到的当前基板图案的预设线距L1带入测量线距L2与预设线距L1的函数模型，获得当前基板图案的对应的测量线距L2；曝光量调节单元4，用于根据计算单元获得的当前基板图案的测量线距调节曝光机的曝光量。作为其中一种实施方式，该预设线距L1为线上测量尺寸，测量线距L2为基板图案的离线测量尺寸。该预设线距L1始终为固定不变的尺寸，而该测量线距L2与预设线距L1的差值与曝光机的曝光量有关，曝光机的曝光量与计算单元获得的当前基板图案的测量线距L2之间的关系满足：y＝kx+b，且k＜0，其中y为曝光机的曝光量，x为计算单元获得的当前基板图案的测量线距，即曝光机的曝光量需要调节的幅度与实际所测得的测量线距L2的变化情况呈反比。本专利技术通过间接获取理论的测量线距L2，从而能够准确得出曝光机所需要的曝光量，从而实现了曝光量的精确调节，不会由于外界变量的干扰而导致测量线距L2出现波动导致的曝光量调节不准的现象。另外，作为上述实施方式的一种改进，如图2所示，本实施例的曝光量自动调节系统还进一步包括判断单元5，判断单元5用于将计算单元3获得的当前基板图案的测量线距L2与预设线距范围进行对比，在测量线距L2超出预设线距范围时，曝光机暂停工作。更进一步地，曝光量自动调节系统还具有警示单元6，在判断单元5判断测量线距L2超出预设线距范围时，警示单元还可以发出提醒信号，测量线距L2超出预设线距范围，则认为测量线距L2不在该曝光机的制作精度范围内，与此同时，警示单元发出提醒信息，如语音提示或信号灯提示，以提示设备无法实现规定的制程过程，以便人工介入。作为其中一种实施方式，预设线距范围为预设线距L1上下偏移不超过10％，预设线距L1超出该范围，这认为制程无法实现。如图3所示，本专利技术还提供了一种曝光机的曝光量自动调节方法，包括：S01、根据多组预设线距L1、和与之所对应的曝光后的测量线距L2数据，建立测量线距L2与预设线距L1的函数模型，其中预设线距L1为线上测量尺寸，测量线距L2为基板图案的离线测量尺寸；S02、获取系统预设的基板图案的预设线距L1；S03、将获取到的当前基板图案的预设线距L1带入测量线距L2与预设线距L1的函数模型，获得当前基板图案的对应的测量线距L2；S04、根据获得的当前基板图案的测量线距L2调节曝光机的曝光量，曝光机的曝光量y与获得的当前基板图案的测量线距L2之间的关系满足：y＝kx+b，且k＜0，在调节曝光机的曝光量时，曝光机的曝光量需要调节的幅度与实本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光机的曝光量自动调节系统，其特征在于，包括：获取单元，用于获取系统预设的基板图案的预设线距；建模单元，用于根据多组所述预设线距和与之所对应的曝光后的测量线距数据，建立测量线距与预设线距的函数模型；计算单元，用于将所述获取单元获取到的当前基板图案的所述预设线距带入所述测量线距与预设线距的函数模型，获得当前基板图案的对应的测量线距；曝光量调节单元，用于根据所述计算单元获得的当前基板图案的所述测量线距调节曝光机的曝光量。

【技术特征摘要】
1.一种曝光机的曝光量自动调节系统，其特征在于，包括：获取单元，用于获取系统预设的基板图案的预设线距；建模单元，用于根据多组所述预设线距和与之所对应的曝光后的测量线距数据，建立测量线距与预设线距的函数模型；计算单元，用于将所述获取单元获取到的当前基板图案的所述预设线距带入所述测量线距与预设线距的函数模型，获得当前基板图案的对应的测量线距；曝光量调节单元，用于根据所述计算单元获得的当前基板图案的所述测量线距调节曝光机的曝光量。2.根据权利要求1所述的曝光机的曝光量自动调节系统，其特征在于，曝光机的曝光量与所述计算单元获得的当前基板图案的所述测量线距之间的关系满足：y＝kx+b，且k＜0，其中y为曝光机的曝光量，x为所述计算单元获得的当前基板图案的所述测量线距。3.根据权利要求1或2所述的曝光机的曝光量自动调节系统，其特征在于，还包括判断单元，所述判断单元用于将所述计算单元获得的当前基板图案的所述测量线距与预设线距范围进行对比，在所述测量线距超出所述预设线距范围时，曝光机暂停工作。4.根据权利要求3所述的曝光机的曝光量自动调节系统，其特征在于，还包括警示单元，所述警示单元用于在所述测量线距超出所述预设线距范围时，发出提醒信号。5.根据权利要求3所述的曝光机的...

【专利技术属性】
技术研发人员：丛晓东，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42