A treatment gas supply device (1), including: the first generation of mixed gas (13), the first generation of mixed gas (13) configured to generate the first gas (11) and has a curative effect on the treatment of gas (10) the first mixed gas mixture to each other at a first rate; and second mixed gas generating part (14), the second generation of mixed gas (14) structure to generate second gas (12) and second (10) for gas mixture mixed each other with second ratio, the ratio of second and the first ratio has a constant difference. The treatment gas supply device (1) also comprises a third mixing part (15), and the third mixing part (15) is configured to generate the mixed gas mixed with the first mixed gas and the second mixed gas.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】治疗气体供应装置
本专利技术涉及一种用于供应治疗气体的装置(在下文中,这样的装置称作治疗气体供应装置)。
技术介绍
近来,已经报道了诸如一氧化氮(NO)、硫化氢(H2S)、一氧化碳(CO)、或者氢气(H2)的气体分子具有各种治疗效果(例如,PTL1、NPL1以及NPL2)。通常,这样的气体分子与空气或者氧气混合,随后被吸入人体。气体分子以相对于空气或者氧气的若干PPM至若干%的比率混合。通过以与空气等的恒定比率混合治疗气体(诸如上述一氧化碳)获得待施用至人体的混合气体。混合气体被压缩并储存在例如气罐中。相对于自主呼吸的患者,诸如呼吸器的装置适当地调整气罐的压力,并且随后使得混合气体被吸入受试者体内。在对不能自主呼吸的患者施加治疗的情况下,混合气体供应至人工呼吸机的呼吸机回路。人工呼吸机通过呼吸机回路将混合气体供给到患者体内。可替换地,储存混合气体的气罐可以连接至用于压缩空气(或者压缩氧气)的人工呼吸机的输入口,并且人工呼吸机随后通过供给机构将混合气体供给至患者体内。上述治疗气体(气体分子)可以储存在气罐中,或者通过特定类型的生成装置生成。例如,电解纯水以产生氢气的发生器可以设置在呼吸器等中。例如,PTL2公开了一种其中使用这样的治疗气体(气体分子)的技术。PTL2公开了用于通过使用鼻吸入系统将氢气供应至人体中的吸入方法和装置。[引用列表][专利文献][PTL1]JP-B-5106110[PTL2]JP-A-2005-87257[非专利文献][NPL1]OSAWAIkuro,"MolecularHydrogenMedicine:CurrentStatusan ...
【技术保护点】
一种治疗气体供应装置,包括:第一混合气体生成部,该第一混合气体生成部构造为生成其中第一气体与具有治疗效果的治疗气体以第一比率互相混合的第一混合气体;以及第二混合气体生成部,该第二混合气体生成部构造为生成其中第二气体与所述治疗气体以第二比率互相混合的第二混合气体,所述第二比率与所述第一比率具有恒定差值。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.06.23 JP 2015-1251951.一种治疗气体供应装置,包括:第一混合气体生成部,该第一混合气体生成部构造为生成其中第一气体与具有治疗效果的治疗气体以第一比率互相混合的第一混合气体;以及第二混合气体生成部,该第二混合气体生成部构造为生成其中第二气体与所述治疗气体以第二比率互相混合的第二混合气体,所述第二比率与所述第一比率具有恒定差值。2.根据权利要求1所述的治疗气体供应装置,还包括:混合部,该混合部构造为生成其中所述第一混合气体与所述第二混合气体互相混合的混合气体。3.根据权利要求1所述的治疗气体供应装置,还包括:第一连接口,所述第一混合气体通过该第一连接口供应至人工呼吸机;以及第二连接口,所述第二混合气体通过该第二连接口供应至所述人工呼吸机。4.根据权利要求1到3任一项所述的治疗气体供应装置,其中,所述治疗气体是氢气、一氧化碳、硫化氢以及一氧化氮中的一种或其混合物。5.根据权利要求1到4任一项所述的治疗气体供应装置,其中,所述第一气体是空气、氧气、氮气、二氧化碳、氩气以及...
【专利技术属性】
技术研发人员:山森伸二,高柳良大,兵后充史,
申请(专利权)人:日本光电工业株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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