屏蔽箱及检查物品装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种屏蔽箱及检查物品装置，其能够廉价制造、且免维护并能够小型化，该屏蔽箱包括：箱体，具有开口部并由导体形成；门，能够开闭箱体的开口部地设置并由导体形成；以及扼流圈构造，包围开口部地设置在箱体和门之间并交替重叠由电介质形成的层和由导体形成的层。

Shielding box and inspection device

The invention discloses a shielding box and check device, which can manufacture, cheap and free of maintenance and miniaturization, the shielding box comprises a box body with an opening, and formed by the conductor; the door to open and close an opening of a housing arranged and formed by conductors; and a choke structure, surrounded by an opening is arranged in the box body and the door and the overlapping formed by the dielectric layer and the conductor layer formed by the.

【技术实现步骤摘要】
屏蔽箱及检查物品装置本申请主张申请日为2016年09月08日、申请号为JP2016-175579的日本申请为优先权，并引用上述申请的内容，优先权的内容视为全部记载在本申请中。
本专利技术的实施例涉及一种在开口部的周边具有扼流圈构造的屏蔽箱及检查物品装置。
技术介绍
目前，存在有用扫描仪一件一件扫描附加在物品上的码符号，并基于该物品信息进行检查物品处理的检查物品装置。不过，在现有的检查物品装置的构成中，由于操作者需要用扫描仪一件一件扫描附加在物品上的码符号，因此，操作者必须对应每个物品查找其码符号，并每次都使码符号和扫描仪的读取方向一致(对准)。这样的动作对于不熟练的操作者来说，成为较大的负担。如果进行检查物品处理的物品的数量增加，则操作者的负担随着物品数量的增加也会变得进一步加重，因此，期望有改进。因此，公知有从附加在各物品上的RFID(RadioFrequencyIdentification：射频识别)标签中读取物品信息，并基于该物品信息进行检查物品处理的检查物品装置。在这种的检查物品装置中，例如通过在埋设了平板状天线的柜台的上面中载置收纳了带RFID标签的多个物品的壳体(箱子)，就会从壳体内的所有的物品的RFID标签中总括地读取物品信息。不过，在天线上载置壳体的方法中，当在壳体附近存在有不是读取对象的带RFID标签的物品时，则往往有误读取该物品的RFID标签的情况，并往往有无法进行准确的检查物品处理的情况。因此，公知有在内部具有RFID读写器的天线的金属制的屏蔽箱内插入收纳了多个物品的壳体的类型的检查物品装置。在上述现有的检查物品装置中，在将壳体进行放入拿出的屏蔽箱的开口部可开闭地安装有金属制的门。在门的周围为了防止RFID读写器的电波从开口部的间隙漏泄，而安装有由导体形成的密封垫。不过，密封垫因反复开闭门或者因外壳碰撞或摩擦而劣化。因此，需要更换历时劣化了的密封垫，使维护所涉及的费用变高且费时间。针对于此，在电子微波炉(高频加热装置)中广泛使用的扼流圈构造是不担心劣化且不涉及维护成本的屏蔽构造。不过，该扼流圈构造由于是将金属体复杂地进行弯曲的构造，因此，在其制造中需要昂贵的金属模具。此外，在RFID读写器中使用的电波的频率由于是与在电子微波炉中使用的频率(2.4GHz)相比低的频率(920MHz)，因此，当将与电子微波炉相同构造的扼流圈构造设置在屏蔽箱中时，扼流圈构造超出需要地变大了。这时，针对屏蔽箱的容量，屏蔽箱的外形变大了一圈。
技术实现思路
鉴于上述问题，本专利技术所要解决的技术问题是，提供一种使用了扼流圈构造的屏蔽箱及检查物品装置，其能够廉价制造、且免维护并能够小型化。为解决上述问题，本专利技术的一实施例，提供了一种屏蔽箱，包括：箱体，具有开口部并由导体形成；门，能够开闭箱体的开口部地设置并由导体形成；以及扼流圈构造，包围开口部地设置在箱体和门之间并交替重叠由电介质形成的层和由导体形成的层。根据这样的构成，能够廉价制造、且免维护并能够小型化。对于屏蔽箱，在一种可能的实施方式中，所述扼流圈构造重叠多张衬底而被形成，所述衬底在电介质的基材的表面设置了与该基材相比宽度窄的铜箔。根据这样的构成，能够降低制造成本、并能够实现可靠性高的屏蔽构造。对于屏蔽箱，在一种可能的实施方式中，所述扼流圈构造交替重叠双面衬底和由电介质形成的板状体而被形成，所述双面衬底在电介质的基材的双面上分别设置了与该基材相比宽度窄的铜箔。根据这样的构成，能够实现可靠性高的屏蔽构造。对于屏蔽箱，在一种可能的实施方式中，所述扼流圈构造交替重叠由电介质形成的层和由导体形成的层，并在宽度方向上的两端具有导通由所述导体形成的层的导通部分。根据这样的构成，通过导通部分，能够具有作为漏泄电波的反射面的功能，从而能够实现可靠性高且廉价的屏蔽构造。对于屏蔽箱，在一种可能的实施方式中，所述机箱的所述开口部为正方形，所述扼流圈构造具有将沿着所述开口部的四边分别设置的相同形状的四个带状部分连结成环状的构造。根据这样的构成，通过具有这样的构造，能够降低制造成本，并能够容易库存管理。对于屏蔽箱，在一种可能的实施方式中，所述四个带状部分的各个带状部分的纵向的两端以45度的角度向相互不同的方向进行倾斜，而且，以在沿着所述纵向的两个侧面中较短的一侧面朝向内侧的姿势将所述四个带状部分的已倾斜的端部彼此进行接合而连结成环状。根据这样的构成，能够将四个带状部分牢固地连结成环状。对于屏蔽箱，在一种可能的实施方式中，所述扼流圈构造被设置在所述门的一侧上。根据这样的构成，能够更容易通过开口部向箱体内放置物品。对于屏蔽箱，在一种可能的实施方式中，所述门在其周边部上具有用于装配所述扼流圈构造的环状的凹部，所述凹部通过使正方形框状的内侧壁及与所述内侧壁相比大一圈的正方形框状的外侧壁突出设置在所述门的周边部上而形成。根据这样的构成，能够容易装配扼流圈构造。对于屏蔽箱，在一种可能的实施方式中，所述铜箔通过印刷形成在所述电介质的基材面上。根据这样的构成，能够容易且廉价地实现高精度的对位。本专利技术的另一实施例，提供了一种检查物品装置，设置有上述的屏蔽箱。根据这样的构成，能够通过屏蔽箱可靠地防止电波的漏泄。附图说明下面，参照附图对本专利技术所涉及的采用了扼流圈构造的屏蔽箱及物品检查装置进行说明。当结合附图考虑时，通过参照下面的详细描述，能够更完整更好地理解本专利技术以及容易得知其中许多伴随的优点，但此处所说明的附图用来提供对本专利技术的进一步理解，构成本申请的一部分，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定，其中：图1是实施例所涉及的检查物品装置的框图；图2是表示图1的读取装置的第一实施例所涉及的屏蔽箱的外观立体图；图3(a)是从内侧来看图2的屏蔽箱的门的概略图、图3(b)是沿着图3(a)的F3b-F3b线的门的截面图；图4是将图3(b)的区域F4进行了部分地放大的部分放大截面图；图5是图4的扼流圈构造的分解立体图；图6是表示第二实施例所涉及的屏蔽箱的要部的部分放大截面图；图7是图6的扼流圈构造的分解立体图；图8是表示第三实施例所涉及的屏蔽箱的要部的部分放大截面图；图9是图8的扼流圈构造的分解立体图；图10是表示第四实施例所涉及的屏蔽箱的要部的部分放大截面图；以及图11是图10的扼流圈构造的立体图。附图标记说明1检查物品装置2读取装置3显示器5天线6读写器10控制部20屏蔽箱21收纳室22箱体22a开口部24门26凹部26a内侧壁26b外侧壁30、40、50、60扼流圈构造30’构造体31-1、31-2、31-3电介质层32-1、32-2、32-3导体层33-1、33-2、33-3开口部42单面衬底52双面衬底62多层衬底64通孔具体实施方式以下将参考附图详细说明本专利技术的各种示例性实施例、特征和方面。附图中相同的附图标记表示功能相同或相似的元件。尽管在附图中示出了实施例的各种方面，但是除非特别指出，不必按比例绘制附图。在这里专用的词“示例性”意为“用作例子、实施例或说明性”。这里作为“示例性”所说明的任何实施例不必解释为优于或好于其它实施例。另外，为了更好的说明本专利技术，在下文的具体实施方式中给出了众多的具体细节。本领域技术人员应当理解，没有某些具体细节，本专利技术同样可以实施。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种屏蔽箱，包括：箱体，具有开口部，并由导体形成；门，能够开闭所述箱体的所述开口部地设置并由导体形成；以及扼流圈构造，包围所述开口部地设置在所述箱体和所述门之间，并交替重叠由电介质形成的层和由导体形成的层。

【技术特征摘要】
2016.09.08 JP JP2016-1755791.一种屏蔽箱，包括：箱体，具有开口部，并由导体形成；门，能够开闭所述箱体的所述开口部地设置并由导体形成；以及扼流圈构造，包围所述开口部地设置在所述箱体和所述门之间，并交替重叠由电介质形成的层和由导体形成的层。2.根据权利要求1所述的屏蔽箱，其中，所述扼流圈构造重叠多张衬底而被形成，所述衬底在电介质的基材的表面设置了与该基材相比宽度窄的铜箔。3.根据权利要求1所述的屏蔽箱，其中，所述扼流圈构造交替重叠双面衬底和由电介质形成的板状体而被形成，所述双面衬底在电介质的基材的双面上分别设置了与该基材相比宽度窄的铜箔。4.根据权利要求1所述的屏蔽箱，其中，所述扼流圈构造交替重叠由电介质形成的层和由导体形成的层，并在宽度方向上的两端具有导通由所述导体形成的层的导通部分。5.根据权利要求1至4中任一项所述的屏蔽箱...

【专利技术属性】
技术研发人员：大石禎利，槌田直，
申请(专利权)人：东芝泰格有限公司，
类型：发明
国别省市：日本,JP