基板保持装置、成膜装置和基板保持方法制造方法及图纸

技术编号:17310340 阅读:33 留言:0更新日期:2018-02-19 10:23
本发明专利技术提供一种能够确保掩膜与基板之间的紧贴性的基板保持装置。基板保持装置(30)具有掩膜板(311)、中间板(32)、保持板(33)和推压机构(34)。掩膜板(311)由磁性材料构成。中间板(32)构成为,具有与掩膜板(311)相向的第1表面、和与所述第1表面相反一侧的第2表面,所述第1表面能够与配置于掩膜板(311)上的基板(W)接触。保持板(33)以中间板(32)能够在与掩膜板(311)正交的轴向上作相对移动的方式支承该中间板(32),并且具有磁铁(331),该磁铁(331)构成为,能够隔着中间板(32)和基板(W)对掩膜板(311)进行磁吸附。推压机构(34)与所述第2表面相向配置,且其构成为能够沿所述轴向对所述第2表面的至少局部进行推压。

Substrate holding device, film forming device and substrate holding method

The present invention provides a substrate holding device that can ensure the clingy between the mask and the substrate. The substrate holding device (30) has a mask plate (311), a middle plate (32), a retaining plate (33) and a push and press mechanism (34). The mask plate (311) is made up of magnetic material. The intermediate plate (32) is composed of first surfaces which are opposite to the mask plate (311) and the second surface opposite to the first surface, and the first surface can be contacted with the substrate (W) arranged on the mask plate (311). The holding plate (33) supports the middle plate (32) with the intermediate plate (32) and can move relative to the axial direction of the mask plate (311), and has a magnet (331). The magnet (331) is composed of magnetic plates which can be magnetically adsorbed on the mask plate (311) through the middle plate (32) and the substrate (W). The push pressure mechanism (34) is aligned with the second surface, and is formed to push at least part of the second surface along the axis.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板保持装置、成膜装置和基板保持方法
本专利技术涉及一种使用磁铁(magnet)来保持成膜用的掩膜和基板的基板保持装置(substrateholdingdevice)、具有该基板保持装置的成膜装置(filmformingapparatus)和基板保持方法(substrateholdingmethod)。
技术介绍
作为在基板的规定区域形成薄膜的技术,已知一种使用成膜用的掩膜的方法。例如,在专利文献1中记载有一种联机式成膜装置,一边将在成膜面配置有板状掩膜的基板在成膜室内输送,一边使由蒸镀源产生的蒸镀材料的蒸气蒸镀于成膜面。在这种成膜装置中,有时需要确保掩膜与基板之间的紧贴性以阻止蒸镀材料的蒸气从掩膜与基板之间的间隙渗入。因此,已知一种方法,即,将基板和保持基板平坦的基板保持件同时夹持于掩膜与磁吸附该掩膜的磁铁板之间的方法(例如,参照专利文献2)。另一方面,随着近年来基板的大型化,为了取得平面度而使基板保持件增加所需要的厚度,其结果存在如下担忧,即,作用于磁铁板的掩膜的磁力下降,而使得基板与掩膜之间的紧贴性下降。为了消除该问题,在专利文献2中记载有:通过在掩膜的蒸发源侧设置将掩膜向基板推压的掩膜推压机构,来使掩膜与基板紧贴。现有技术文献专利文献专利文献1:日本专利技术专利公开公报特开2010-118157号专利文献2:日本专利技术专利公开公报特开2013-247040号
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题然而,在专利文献2记载的结构中,构成掩膜推压机构的机构部设置于掩膜的蒸发源侧,因此,会有在该机构部上成膜和由此引起动作不良的担忧。另外,在掩膜的开口率较大的情况、开口部的间隔较窄的情况等情况下,难以以不遮挡开口部的方式配置上述机构部。有鉴于上述情况,本专利技术的目的在于提供一种无需在掩膜的蒸发源侧设置机构部,就能够确保掩膜与基板之间的紧贴性的基板保持装置、成膜装置和基板保持方法。用于解决技术问题的技术方案为了达到上述目的,本专利技术的一方式所涉及的基板保持装置具有掩膜板(maskplate)、中间板(intermediateplate)、保持板(holdingplate)和推压机构(pressingmechanism)。上述掩膜板由磁性材料构成。上述中间板构成为,具有与上述掩膜板相向的第1表面、和与上述第1表面相反一侧的第2表面,上述第1表面能够与配置于上述掩膜板上的基板接触。上述保持板以上述中间板能够在与上述掩膜板正交的轴向上作相对移动的方式支承该中间板。上述保持板具有磁铁,该磁铁构成为,能够隔着上述中间板和上述基板对上述掩膜板进行磁吸附。上述推压机构与上述第2表面相向配置。上述推压机构构成为,能够沿上述轴向对上述第2表面的至少局部进行推压。在上述基板保持装置中,中间板具有如下功能,即,通过与相向于掩膜板的基板的非成膜面接触,来维持基板的平面状态。另一方面,中间板越大型化,或者中间板的厚度越小,则可能会由于中间板的强度不足、成膜中的热输入所引起的变形,使得中间板自身的平面度越低。因此,上述基板保持装置具有将中间板的至少局部向掩膜板侧进行推压的推压机构。据此,提高了中间板的平面度,其结果是:也维持与中间板接触的基板的平面度,确保基板与掩膜板之间的良好的紧贴性。另外,由于能够薄化中间板,因此,与基板尺寸无关,而能够确保掩膜板与基板之间的稳定的紧贴力。在上述基板保持装置中,推压机构与中间板的第2表面相向配置,因此,无需在掩膜板的蒸发源侧设置任何机构部,就能够实现掩膜板与基板之间的紧贴。因此,能够不依赖于掩膜板的开口率、掩膜开口部的排列形态,而稳定地维持掩膜板与基板之间的紧贴效果。上述轴向典型的是与重力方向平行的轴向。在这种情况下,通过上述推压机构,能够阻止由于基板或者中间板的挠曲变形而导致的平面度的下降,因此,能够稳定地得到所期望的成膜精度。上述推压机构典型的是设置于上述保持板。通过将推压机构设置于保持板,能够使装置结构简单化,并且能够稳定地推压中间板的所期望的位置。上述推压机构也可以包含多个推压单元,该多个推压单元构成为,能够分别对所述第2表面的多个部位进行推压。这样,通过能够推压中间板上的多个位置,而使得中间板的平面度的改善变得容易。中间板的推压位置没有特别的限定,典型的是可列举中间板(第2表面)的中央部和/或周缘部。上述中间板可以构成为,能够在接触位置与保持位置之间沿上述轴向移动。上述接触位置被设为上述第1表面的至少局部与上述基板接触且上述中间板与上述保持板的相对距离为第1距离的位置,上述保持位置被设为,上述中间板与上述保持板的相对距离为比上述第1距离小的第2距离的位置。在这种情况下,在上述中间板从上述接触位置向上述保持位置移动的过程中,上述推压机构沿上述轴向对上述第2表面进行推压。根据上述结构,在中间板的第1表面与基板接触的状态下,磁铁接近中间板的第2表面,并且该第2表面被推压机构推压。因此,不会使基板相对于掩膜板产生位置偏移,而能够使基板以较高的平面度紧贴掩膜板。上述推压单元例如具有推压件和弹性部件。上述推压件与上述第2表面相向配置。上述弹性部件构成为,配置于上述推压件与上述第2表面之间,能够在上述轴向上弹性变形。据此,能够对中间板上的多个位置稳定地施加所期望的推压力,因此,能够维持以中间板和基板为目标的平面度。中间板的构成材料没有特别的限定,可以由磁性材料构成,也可以由非磁性材料构成。在中间板由磁性材料构成的情况下,形成由磁铁产生的磁场穿过的磁路,因此,能够提高对掩膜板的磁吸附力。另一方面,在中间板由非磁性材料构成的情况下,在成膜后解除由磁铁对基板的保持时,能够在使中间板与基板接触的状态下使保持板离开掩膜板。本专利技术的一方式所涉及的成膜装置具有成膜室、成膜源、掩膜板、中间板、保持板和推压机构。上述成膜源配置于上述成膜室。上述掩膜板与上述成膜源相向配置,由磁性材料构成。上述中间板构成为,具有与上述掩膜板相向的第1表面、和与上述第1表面相反一侧的第2表面,上述第1表面能够与配置于上述掩膜板上的基板接触。上述保持板以上述中间板能够在与上述掩膜板正交的轴向上作相对移动的方式支承该中间板。上述保持板具有磁铁,该磁铁构成为,能够隔着上述中间板和上述基板对上述掩膜板进行磁吸附。上述推压机构与上述第2表面相向配置。上述推压机构构成为,能够沿上述轴向对上述第2表面的至少局部进行推压。本专利技术的一方式所涉及的基板保持方法包括在由磁性材料构成的掩膜板上配置基板。使中间板在上述基板之上与上述基板接触。通过推压机构使上述中间板的至少局部向上述掩膜板推压。在上述中间板的上方配置保持板,该保持板具有磁吸附所述掩膜板的磁铁,据此,将上述中间板、上述基板和上述掩膜板一体保持。专利技术效果根据本专利技术,能够确保掩膜与基板之间的紧贴性。附图说明图1是概略地表示本专利技术一实施方式所涉及的成膜装置的剖视图。图2是上述成膜装置中的基板保持装置的概略放大图,表示基板被保持前的状态。图3是上述成膜装置中的基板保持装置的概略放大图,表示基板已被保持的状态。图4是概略地表示上述基板保持装置中,掩膜板、基板、中间板和磁铁(保持板)之间的位置关系的侧视图。图5是概略地说明上述中间板处于变形状态时的基板的保持状态的侧视图。图6是概略地说明上述基板保持装置的作用的侧视图。图7本文档来自技高网...
基板保持装置、成膜装置和基板保持方法

【技术保护点】
一种基板保持装置,其特征在于,具有掩膜板、中间板、保持板和推压机构,其中,所述掩膜板由磁性材料构成;所述中间板被构成为:具有与所述掩膜板相向的第1表面和与所述第1表面相反一侧的第2表面,且所述第1表面能与被配置于所述掩膜板上的基板接触;所述保持板以使所述中间板能在与所述掩膜板正交的轴向上相对移动的方式来支承该中间板,并且所述保持板具有磁铁,该磁铁被构成为能隔着所述中间板和所述基板来对所述掩膜板进行磁吸附;所述推压机构与所述第2表面相向配置,且所述推压机构被构成为能沿着所述轴向对所述第2表面的至少局部进行推压。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.06.12 JP 2015-1190621.一种基板保持装置,其特征在于,具有掩膜板、中间板、保持板和推压机构,其中,所述掩膜板由磁性材料构成;所述中间板被构成为:具有与所述掩膜板相向的第1表面和与所述第1表面相反一侧的第2表面,且所述第1表面能与被配置于所述掩膜板上的基板接触;所述保持板以使所述中间板能在与所述掩膜板正交的轴向上相对移动的方式来支承该中间板,并且所述保持板具有磁铁,该磁铁被构成为能隔着所述中间板和所述基板来对所述掩膜板进行磁吸附;所述推压机构与所述第2表面相向配置,且所述推压机构被构成为能沿着所述轴向对所述第2表面的至少局部进行推压。2.根据权利要求1所述的基板保持装置,其特征在于,所述推压机构被设置于所述保持板。3.根据权利要求2所述的基板保持装置,其特征在于,所述推压机构包含多个推压单元,其中多个推压单元被构成为能分别对所述第2表面的多个部位进行推压。4.根据权利要求2或3所述的基板保持装置,其特征在于,所述中间板被构成为能在接触位置和保持位置之间移动,其中,所述接触位置是指:所述中间板的所述第1表面的至少局部与所述基板接触且所述中间板相对于所述保持板的相对距离为第1距离的位置,所述保持位置是指:所述中间板相对于所述保持板的相对距离为比所述第1距离小的第2距离的位置,在所述中间板从所述接触位置向所述保持位置移动的过程中,所述推压机构沿着所述轴向对所述第2表面进行推压。5.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员:织部爱美萩原宗源梅村博文糟谷宪昭小池润一郎小泉和彦藤野英二
申请(专利权)人:株式会社爱发科
类型:发明
国别省市:日本,JP

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