The present invention provides a substrate holding device that can ensure the clingy between the mask and the substrate. The substrate holding device (30) has a mask plate (311), a middle plate (32), a retaining plate (33) and a push and press mechanism (34). The mask plate (311) is made up of magnetic material. The intermediate plate (32) is composed of first surfaces which are opposite to the mask plate (311) and the second surface opposite to the first surface, and the first surface can be contacted with the substrate (W) arranged on the mask plate (311). The holding plate (33) supports the middle plate (32) with the intermediate plate (32) and can move relative to the axial direction of the mask plate (311), and has a magnet (331). The magnet (331) is composed of magnetic plates which can be magnetically adsorbed on the mask plate (311) through the middle plate (32) and the substrate (W). The push pressure mechanism (34) is aligned with the second surface, and is formed to push at least part of the second surface along the axis.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板保持装置、成膜装置和基板保持方法
本专利技术涉及一种使用磁铁(magnet)来保持成膜用的掩膜和基板的基板保持装置(substrateholdingdevice)、具有该基板保持装置的成膜装置(filmformingapparatus)和基板保持方法(substrateholdingmethod)。
技术介绍
作为在基板的规定区域形成薄膜的技术,已知一种使用成膜用的掩膜的方法。例如,在专利文献1中记载有一种联机式成膜装置,一边将在成膜面配置有板状掩膜的基板在成膜室内输送,一边使由蒸镀源产生的蒸镀材料的蒸气蒸镀于成膜面。在这种成膜装置中,有时需要确保掩膜与基板之间的紧贴性以阻止蒸镀材料的蒸气从掩膜与基板之间的间隙渗入。因此,已知一种方法,即,将基板和保持基板平坦的基板保持件同时夹持于掩膜与磁吸附该掩膜的磁铁板之间的方法(例如,参照专利文献2)。另一方面,随着近年来基板的大型化,为了取得平面度而使基板保持件增加所需要的厚度,其结果存在如下担忧,即,作用于磁铁板的掩膜的磁力下降,而使得基板与掩膜之间的紧贴性下降。为了消除该问题,在专利文献2中记载有:通过在掩膜的蒸发源侧设置将掩膜向基板推压的掩膜推压机构,来使掩膜与基板紧贴。现有技术文献专利文献专利文献1:日本专利技术专利公开公报特开2010-118157号专利文献2:日本专利技术专利公开公报特开2013-247040号
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题然而,在专利文献2记载的结构中,构成掩膜推压机构的机构部设置于掩膜的蒸发源侧,因此,会有在该机构部上成膜和由此引起动作不良的担忧。另外,在掩膜的开口率较大的 ...
【技术保护点】
一种基板保持装置,其特征在于,具有掩膜板、中间板、保持板和推压机构,其中,所述掩膜板由磁性材料构成;所述中间板被构成为:具有与所述掩膜板相向的第1表面和与所述第1表面相反一侧的第2表面,且所述第1表面能与被配置于所述掩膜板上的基板接触;所述保持板以使所述中间板能在与所述掩膜板正交的轴向上相对移动的方式来支承该中间板,并且所述保持板具有磁铁,该磁铁被构成为能隔着所述中间板和所述基板来对所述掩膜板进行磁吸附;所述推压机构与所述第2表面相向配置,且所述推压机构被构成为能沿着所述轴向对所述第2表面的至少局部进行推压。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.06.12 JP 2015-1190621.一种基板保持装置,其特征在于,具有掩膜板、中间板、保持板和推压机构,其中,所述掩膜板由磁性材料构成;所述中间板被构成为:具有与所述掩膜板相向的第1表面和与所述第1表面相反一侧的第2表面,且所述第1表面能与被配置于所述掩膜板上的基板接触;所述保持板以使所述中间板能在与所述掩膜板正交的轴向上相对移动的方式来支承该中间板,并且所述保持板具有磁铁,该磁铁被构成为能隔着所述中间板和所述基板来对所述掩膜板进行磁吸附;所述推压机构与所述第2表面相向配置,且所述推压机构被构成为能沿着所述轴向对所述第2表面的至少局部进行推压。2.根据权利要求1所述的基板保持装置,其特征在于,所述推压机构被设置于所述保持板。3.根据权利要求2所述的基板保持装置,其特征在于,所述推压机构包含多个推压单元,其中多个推压单元被构成为能分别对所述第2表面的多个部位进行推压。4.根据权利要求2或3所述的基板保持装置,其特征在于,所述中间板被构成为能在接触位置和保持位置之间移动,其中,所述接触位置是指:所述中间板的所述第1表面的至少局部与所述基板接触且所述中间板相对于所述保持板的相对距离为第1距离的位置,所述保持位置是指:所述中间板相对于所述保持板的相对距离为比所述第1距离小的第2距离的位置,在所述中间板从所述接触位置向所述保持位置移动的过程中,所述推压机构沿着所述轴向对所述第2表面进行推压。5.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员:织部爱美,萩原宗源,梅村博文,糟谷宪昭,小池润一郎,小泉和彦,藤野英二,
申请(专利权)人:株式会社爱发科,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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