喷淋蚀刻装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供使维护变得容易且容易实现装置的紧凑化、且可执行高品质的喷淋蚀刻处理的喷淋蚀刻装置。喷淋蚀刻装置至少包括蚀刻腔室(16)、送液单元(40)以及驱动单元(50)，这些送液单元(40)、蚀刻腔室(16)以及驱动单元(50)在与玻璃基板(100)的搬运方向正交的宽度方向上排列。蚀刻腔室(16)至少包括构成为对玻璃基板(100)喷淋蚀刻液的可移动的上侧喷淋配管单元(162)以及下侧喷淋配管单元(164)。

Spray etching device

The invention provides a spray etch device that makes maintenance easy and easy to achieve a compact, and can perform high quality spray etching treatment. The spray etching device includes at least an etching chamber (16), a liquid delivery unit (40), and a driving unit (50). The delivery units (40), the etching chambers (16), and the driving units (50) are arranged on the width direction perpendicular to the conveying direction of the glass substrate (100). The etching chamber (16) includes at least a movable upper side spray pipe unit (162) and an underside spray pipe unit (164), which spray the etching solution on the glass substrate (100).

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】喷淋蚀刻装置
本专利技术涉及构成为对玻璃基板等待处理基板进行蚀刻处理的蚀刻装置。
技术介绍
在手机、电脑、液晶电视等所使用的玻璃基板的薄型化加工或切断加工中，运用蚀刻处理的机会逐渐增加。其理由在于，在对玻璃基板施以机械加工的情况下，加工时容易产生伤痕，相对于此，在进行蚀刻处理的情况下，加工时则不会产生伤痕。通过使用蚀刻处理，可提高加工后的玻璃基板的强度。作为对玻璃基板进行的蚀刻处理的代表例，可举出使用氢氟酸等蚀刻液的湿蚀刻处理。该湿蚀刻处理，若要概分，可分成使玻璃基板浸渍于容纳有蚀刻液的浴槽的浸泡方式、以及从喷淋喷嘴将蚀刻液对玻璃基板喷淋的喷淋方式。而且，以往向来是广泛使用构成简单、设备费用相对低廉的浸泡方式的蚀刻处理。不过，近年来，喷淋方式的湿蚀刻处理逐渐变得受欢迎，一般认为其污泥(sludge)等析出物的管理容易，且蚀刻速率的管理也容易进行(例如参考专利文献1)。通过进行这样的喷淋方式的蚀刻处理，一般认为能够良好地进行要求尺寸精度的玻璃基板的加工。现有技术文献专利文献专利文献1：日本再表2013-118867号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题然而，即使在喷淋方式的蚀刻装置中，污泥等析出物的管理仍可能成为问题。例如，在对被水平地载置的玻璃基板从上下方向进行喷淋蚀刻的构成中，在玻璃基板的上侧可能有蚀刻液滞留。蚀刻液的滞留容易影响蚀刻处理的品质，因此希望适当地抑制蚀刻液的滞留。在为了防止这样的玻璃基板的上侧的滞留而采用使蚀刻的喷淋角度可变的驱动机构的情况下，需要对该驱动机构频繁地进行适当的维护。特别是在驱动机构被配置于容易受到蚀刻气氛的影响的位置的情况下，需要密切注意驱动机构的维护。此外，根据驱动机构的配置，蚀刻装置的设计可能会受到限制，或蚀刻装置可能会大型化。本专利技术的目的在于提供使维护变得容易且容易实现装置的紧凑化、且可执行高品质的喷淋蚀刻处理的喷淋蚀刻装置。用于解决课题的技术方案本专利技术的喷淋蚀刻装置构成为对玻璃基板等待处理基板进行喷淋方式的蚀刻处理。该喷淋蚀刻装置具备蚀刻腔室、送液单元以及驱动单元。蚀刻腔室至少包括构成为对在规定的搬运方向上被依序搬运的待处理基板喷淋蚀刻液的可移动的喷淋配管单元。作为喷淋配管单元的构成例，可举出排列多个喷淋配管并通过框体构件或外壳构件使之单元化的构成，其中喷淋配管设有多个喷出蚀刻液的喷淋喷嘴。送液单元构成为对喷淋配管单元供给蚀刻液。作为送液单元的例子，可举出包括连接蚀刻液槽与蚀刻腔室的配管群、以及设于该配管群的泵类或压力计等计量器类在内的送液系统的机构。通过送液单元，蚀刻液槽中容纳的蚀刻液被供给至蚀刻腔室内的喷淋配管单元。此外，根据需要，送液单元构成为对各腔室送出除蚀刻液以外的液体(清洗液、水等)。此外，作为喷淋配管单元的移动方向的代表例，可举出与待处理基板的搬运方向正交的方向，但也可构成为在倾斜方向移动或以描绘圆的方式移动等。驱动单元构成为至少对喷淋配管单元从蚀刻腔室的外侧传递驱动力。作为驱动单元的构成例，可举出将马达等驱动源、以及齿条与齿轮(rackandpinion)机构或曲柄机构等传递机构单元化的构成。例如，若从驱动单元经由轴等对喷淋配管单元施加推压力或拉伸力，则喷淋配管单元会在直线上往复移动。考虑到喷淋配管单元的维护性，优选使喷淋配管单元构成为能够选择性地解除与驱动单元的连接状态。而且，在上述喷淋蚀刻装置中，送液单元、蚀刻腔室以及驱动单元在与待处理基板的搬运方向正交的宽度方向上排列。通过采用该排列，当沿着玻璃基板的搬运方向排列蚀刻腔室时，送液单元或驱动单元便不会有物理上的干涉。特别地，当连续地排列蚀刻腔室时，由于不需要在各蚀刻腔室间配置送液单元或驱动单元，因此装置的搬运方向的长度不会超出必要长度，不会使装置大型化。此外，由于构成为将喷淋配管单元单元化而对单元全体施加驱动力以使其移动，因此在喷淋配管单元内便不必具有可动部。因此，相较于对各个喷嘴进行驱动的情况或采用对各个配管传递驱动力的构成的情况，不易发生故障。此外，由于通过准备备用的喷淋配管单元等，可从蚀刻装置将喷淋配管单元整体拆卸后进行各喷嘴或配管的维护等，因此维护变得容易进行。通过一边对喷淋配管单元施加驱动力一边进行蚀刻处理，在待处理基板的上侧的蚀刻液的滞留变得不易发生，可防止蚀刻液的滞留所引起的蚀刻不均等的发生。而且，由于防止喷嘴或配管的堵塞或污泥堆积等的发生也变得容易，因此容易实现蚀刻处理的高品质化。在上述喷淋蚀刻装置中，优选的是，喷淋配管单元，其脚部被在宽度方向延伸的直线状的导引构件滑动自如地支撑，驱动单元构成为向喷淋配管单元施加用于使喷淋配管单元沿着导引构件进行往复滑动的力。通过采用这样的构成，由于可使喷淋配管单元在宽度方向适当地往复移动，因此可防止蚀刻液滞留在待处理基板的上侧。此外，由于可通过简单的构成来驱动喷淋配管单元，因此可抑制驱动机构的故障的发生。此外，虽然喷淋配管单元可配置于待处理基板的搬运路径的上侧或下侧的任一方，但优选的是，喷淋配管单元构成为包括配置于待处理基板的搬运路径的上侧的上侧喷淋配管单元、以及配置于待处理基板的搬运路径的下侧的下侧喷淋配管单元。特别地，在此情况下，优选的是，送液单元的下部与上侧喷淋配管单元通过具备挠性的软管进行连接，并且送液单元的上部与下侧喷淋配管单元通过具备挠性的软管进行连接。通过采用这样的构成，软管由于变得足够长，因此容易伴随喷淋配管单元的移动而被适当地挠曲。专利技术效果根据本专利技术，可使维护变得容易且容易实现装置的紧凑化，而且能够执行高品质的喷淋蚀刻处理。附图说明图1是本专利技术的一个实施方式的喷淋蚀刻装置的概略图。图2是表示蚀刻腔室的概略构成的图。图3是表示喷淋配管单元的概略构成的图。图4是说明喷淋配管单元的动作的概略的图。具体实施方式下面，利用附图对本专利技术的喷淋蚀刻装置的一个实施方式进行说明。如图1的(A)以及图1的(B)所示，喷淋蚀刻装置10具备：导入部12、前处理腔室14、5个蚀刻腔室16、洗净腔室18、以及排出部20。在前处理腔室14、蚀刻腔室16、以及洗净腔室18，各自在间隔壁的一部分形成有可供玻璃基板100通过的狭缝状的开口部。在以下实施方式中，以待处理基板为玻璃基板100为例进行说明，但也可在对除玻璃基板100以外的基板(例：陶瓷基板、印刷基板、半导体基板等)的处理中使用喷淋蚀刻装置10。喷淋蚀刻装置10具备从最上游位置的导入部12遍布至最下游位置的排出部20而排列的多个搬运辊30。搬运辊30构成为使被设置(装载)于导入部12的玻璃基板100一边依序通过前处理腔室14、蚀刻腔室16、以及洗净腔室18，一边被搬运至排出部20。前处理腔室14构成为对被导入至蚀刻腔室16前的玻璃基板100进行洗净。在本实施方式中，在前处理腔室14，通过对玻璃基板100从上下方向喷射洗净水而使玻璃基板100被水洗。蚀刻腔室16构成为通过对玻璃基板100喷射蚀刻液而使玻璃基板100薄型化。在本实施方式中，喷淋蚀刻装置10具备5个蚀刻腔室16，但可使蚀刻腔室16的数量适当增减。有关蚀刻腔室16的构成，后面将会描述。洗净腔室18构成为对在蚀刻腔室16被蚀刻处理后的玻璃基板100进行洗净。在洗净腔室18，与在前处理腔室14一样，通过对玻璃基板100从上下方向喷射洗净水本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种喷淋蚀刻装置，构成为对玻璃基板等待处理基板进行喷淋方式的蚀刻处理，其特征在于，所述喷淋蚀刻装置包括：蚀刻腔室，至少包括能移动的喷淋配管单元，所述喷淋配管单元构成为对在规定的搬运方向上被依序搬运的待处理基板喷淋蚀刻液；送液单元，构成为向所述喷淋配管单元供给蚀刻液；以及驱动单元，构成为至少对所述喷淋配管单元从所述蚀刻腔室的外侧传递驱动力；所述送液单元、所述蚀刻腔室以及所述驱动单元在与待处理基板的搬运方向正交的宽度方向上排列。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.06.02 JP 2015-1125301.一种喷淋蚀刻装置，构成为对玻璃基板等待处理基板进行喷淋方式的蚀刻处理，其特征在于，所述喷淋蚀刻装置包括：蚀刻腔室，至少包括能移动的喷淋配管单元，所述喷淋配管单元构成为对在规定的搬运方向上被依序搬运的待处理基板喷淋蚀刻液；送液单元，构成为向所述喷淋配管单元供给蚀刻液；以及驱动单元，构成为至少对所述喷淋配管单元从所述蚀刻腔室的外侧传递驱动力；所述送液单元、所述蚀刻腔室以及所述驱动单元在与待处理基板的搬运方向正交的宽度方向上排列。2.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：竹内一马，水谷龙也，林田哲夫，
申请(专利权)人：株式会社NSC，株式会社京机械，
类型：发明
国别省市：日本,JP