激光退火设备制造技术

本公开提供一种激光退火设备，涉及激光退火技术领域。本公开的激光退火设备包括承载台、激光源和驱动装置。承载台具有固定面，用于固定待退火的基板。激光源用于向基板发出激光束，激光束的照射区域覆盖基板的中心并向边缘延伸，且在照射区域的延伸方向上，照射区域的长度不小于基板的中心到边缘的最大距离。驱动装置用于驱动承载台在水平面内绕基板的中心转动。

Laser annealing equipment

The present disclosure provides a laser annealing device, which relates to the field of laser annealing. The laser annealing equipment in the public includes a loader, a laser source and a driving device. The bearing table has a fixed surface for fixing the substrate to be annealed. The laser source is used to send laser beams to the substrate. The area of the laser beam covers the center of the substrate and extends to the edge, and the length of the irradiation area is not less than the maximum distance from the center to the edge of the substrate. The driving device is used to drive the bearing table to rotate around the center of the base plate in the horizontal plane.

【技术实现步骤摘要】
激光退火设备
本公开涉及激光退火
，具体而言，涉及一种激光退火设备。
技术介绍
目前，低温多晶硅技术(LowTemperaturePoly-silicon，LTPS)已经广泛的应用于显示面板的制造。现有低温多晶硅技术主要采用准分子激光退火(ExcimerLaserAnnealing，ELA)工艺，利用准分子激光束照射非晶硅结构的基板，使之在高温下转变成为多晶硅结构的基板，由于多晶硅结构的晶粒的排列更为规则，载流子迁移率高更高，从而有利于提高显示面板的反应速度和驱动电流等。现有的准分子激光退火设备一般包括激光源和承载台等，可将待退火的基板置于承载台上，用激光源向基板发射激光束，通过控制承载台直线移动，使激光束对基板的各个区域进行扫描。此外，对于同一基板，可重复移动该承载台，从而对该基板的同一区域重复照射多次，以进一步优化晶粒的大小。但是，由于激光束的照射范围有限，难以通过一次直线移动完成对整个基板的扫描，因此，可控制承载台先纵向移动，对基板的部分区域进行扫描，随后可横向移动，将另一区域对应于激光束，再沿纵向移动，以对另一区域进行扫描。承载台在横向移动时，基板不处于激光束的照射范围，无法进行扫描，因此，横向移动的该段时间属无效时间，使产品的生产时间增加，特别是对基板重复扫描时，多次横向移动将会使生产时间大大增加。需要说明的是，在上述
技术介绍
部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
本公开的目的在于提供一种激光退火设备，进而至少在一定程度上克服由于相关技术的限制和缺陷而导致的一个或者多个问题。根据本公开的一个方面，提供一种激光退火设备，包括：承载台，具有固定面，用于固定待退火的基板；激光源，用于向所述基板发出激光束，所述激光束的照射区域覆盖所述基板的中心并向所述基板的边缘延伸，且在所述照射区域的延伸方向上，所述照射区域的长度不小于所述基板的中心到所述基板的边缘的最大距离；驱动装置，用于驱动所述承载台在水平面内绕所述基板的中心转动。在本公开的一种示例性实施例中，所述基板的形状为矩形，在所述延伸方向上，所述照射区域的长度等于所述基板的对角线长度的一半。在本公开的一种示例性实施例中，所述照射区域为等腰三角形区域，所述等腰三角形区域的顶点与所述基板的中心重合；或者，所述照射区域为矩形区域，所述矩形区域的短边中点与所述基板的中心重合。在本公开的一种示例性实施例中，所述照射区域还沿所述延伸方向的反向从所述基板的中心向边缘延伸，在所述照射区域的延伸方向及其反向上，所述照射区域的长度均等于所述最大距离。在本公开的一种示例性实施例中，所述基板的形状为矩形，在所述延伸方向及其反向上，所述照射区域的长度均等于所述基板的对角线长度的一半。在本公开的一种示例性实施例中，所述照射区域包括对顶且对称设置的两个等腰三角形区域，两个所述等腰三角形区域的顶点与所述基板的中心重合；或者，所述照射区域为矩形区域，所述矩形区域的中心与所述基板的中心重合。在本公开的一种示例性实施例中，所述基板的形状为矩形，所述固定面的形状为圆形，且所述固定面的直径不小于所述基板的对角线长度。在本公开的一种示例性实施例中，所述驱动装置驱动所述承载台转动一周的时间为40～50秒。在本公开的一种示例性实施例中，所述驱动装置能驱动所述承载台同向转动至少六周。在本公开的一种示例性实施例中，所述驱动装置能驱动所述承载台同向转动至少三周。在本公开的一种示例性实施例中，所述激光源为准分子激光器。本公开的激光退火设备，可将基板固定于承载台的固定面，激光源发出的激光束可照射在该基板上，通过驱动装置控制承载台带动基板在水平面内绕基板的中心转动，从而对基板进行扫描，使激光束可照射基板的不同区域。同时，由于激光束的照射区域覆盖基板的中心并向边缘延伸，且在照射区域的延伸方向上，照射区域的长度不小于基板的中心到边缘的最大距离，使得在承载台最多转动一周后，激光束即可完全扫描基板一次。若要多次扫描，只需使承载台转动多周即可。由此，可通过使基板转动来实现对基板的连续扫描，避免因改变激光的照射区域而横向移动基板，省去了横向移动的无效时间，从而有利于降低生产时间，提高生产效率。应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。附图说明此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本公开示例实施方式的激光退火装置的示意图。图2为图1中承载台和基板的俯视图。图3为图1中激光源在基板上的照射区域的第一种形式的示意图。图4为图1中激光源在基板上的照射区域的第二种形式的示意图。图5为图1中激光源在基板上的照射区域的第三种形式的示意图。图6为图1中激光源在基板上的照射区域的第四种形式的示意图。图7为图1中驱动装置驱动承与载台的原理示意图。图中：1、承载台；11、固定面；2、激光源；3、驱动装置；31、外壳；32、电机；33、减速器；34、第一锥齿轮；35、第二锥齿轮；4、基板。具体实施方式现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本专利技术将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。虽然本说明书中使用相对性的用语，例如“上”“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系，但是这些术语用于本说明书中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是，如果将图标的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。当某结构在其它结构“上”时，有可能是指某结构一体形成于其它结构上，或指某结构“直接”设置在其它结构上，或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。用语“一个”、“一”、“该”和“所述”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包含”、“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等。用语“第一”、“第二”、“第三”和“第四”等仅作为标记使用，不是对其对象的数量限制。本公开示例实施方式提供一种激光退火设备，如图1～图6所示，用于对一待退火的基板4进行退火，该基板4可以是玻璃材质，基板4的形状可以是矩形等，基板4的中心可为其几何中心，具体可视其具体形状而定，例如，基板4的形状为矩形时，其中心为对角线的中点，基板4的形状为圆形时，其中心为圆心。通过激光退火可使基板4转变成为晶粒的排列更规则的多晶硅结构，以使载流子迁移率高更高，提高显示面板的反应速度和驱动电流等。本示例实施方式的激光退火设备可以包括承载台1、激光源2和驱动装置3。承载台1可具有固定面11，基板4可固定于固定面11上；激光源2用于向基板4发出激光束，所述激光束的照射区域覆盖所述基板的中心并向边缘延伸，且在所述照射区域的延伸方向上，所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种激光退火设备，其特征在于，包括：承载台，具有固定面，用于固定待退火的基板；激光源，用于向所述基板发出激光束，所述激光束的照射区域覆盖所述基板的中心并向所述基板的边缘延伸，且在所述照射区域的延伸方向上，所述照射区域的长度不小于所述基板的中心到所述基板的边缘的最大距离；驱动装置，用于驱动所述承载台在水平面内绕所述基板的中心转动。

【技术特征摘要】
1.一种激光退火设备，其特征在于，包括：承载台，具有固定面，用于固定待退火的基板；激光源，用于向所述基板发出激光束，所述激光束的照射区域覆盖所述基板的中心并向所述基板的边缘延伸，且在所述照射区域的延伸方向上，所述照射区域的长度不小于所述基板的中心到所述基板的边缘的最大距离；驱动装置，用于驱动所述承载台在水平面内绕所述基板的中心转动。2.根据权利要求1所述的激光退火设备，其特征在于，所述基板的形状为矩形，在所述延伸方向上，所述照射区域的长度等于所述基板的对角线长度的一半。3.根据权利要求2所述的激光退火设备，其特征在于，所述照射区域为等腰三角形区域，所述等腰三角形区域的顶点与所述基板的中心重合；或者，所述照射区域为矩形区域，所述矩形区域的短边中点与所述基板的中心重合。4.根据权利要求1所述的激光退火设备，其特征在于，所述照射区域还沿所述延伸方向的反向从所述基板的中心向边缘延伸，在所述照射区域的延伸方向及其反向上，所述照射区域的长度均等于所述最大...

【专利技术属性】
技术研发人员：王景帅，李喆镐，郝永志，韩晓强，张展鹏，张桂梅，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京,11