The present disclosure provides a laser annealing device, which relates to the field of laser annealing. The laser annealing equipment in the public includes a loader, a laser source and a driving device. The bearing table has a fixed surface for fixing the substrate to be annealed. The laser source is used to send laser beams to the substrate. The area of the laser beam covers the center of the substrate and extends to the edge, and the length of the irradiation area is not less than the maximum distance from the center to the edge of the substrate. The driving device is used to drive the bearing table to rotate around the center of the base plate in the horizontal plane.
【技术实现步骤摘要】
激光退火设备
本公开涉及激光退火
,具体而言,涉及一种激光退火设备。
技术介绍
目前,低温多晶硅技术(LowTemperaturePoly-silicon,LTPS)已经广泛的应用于显示面板的制造。现有低温多晶硅技术主要采用准分子激光退火(ExcimerLaserAnnealing,ELA)工艺,利用准分子激光束照射非晶硅结构的基板,使之在高温下转变成为多晶硅结构的基板,由于多晶硅结构的晶粒的排列更为规则,载流子迁移率高更高,从而有利于提高显示面板的反应速度和驱动电流等。现有的准分子激光退火设备一般包括激光源和承载台等,可将待退火的基板置于承载台上,用激光源向基板发射激光束,通过控制承载台直线移动,使激光束对基板的各个区域进行扫描。此外,对于同一基板,可重复移动该承载台,从而对该基板的同一区域重复照射多次,以进一步优化晶粒的大小。但是,由于激光束的照射范围有限,难以通过一次直线移动完成对整个基板的扫描,因此,可控制承载台先纵向移动,对基板的部分区域进行扫描,随后可横向移动,将另一区域对应于激光束,再沿纵向移动,以对另一区域进行扫描。承载台在横向移动时,基板不处于激光束的照射范围,无法进行扫描,因此,横向移动的该段时间属无效时间,使产品的生产时间增加,特别是对基板重复扫描时,多次横向移动将会使生产时间大大增加。需要说明的是,在上述
技术介绍
部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解,因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
本公开的目的在于提供一种激光退火设备,进而至少在一定程度上克服由于相关技术的限制和缺陷而导致的一个或 ...
【技术保护点】
一种激光退火设备,其特征在于,包括:承载台,具有固定面,用于固定待退火的基板;激光源,用于向所述基板发出激光束,所述激光束的照射区域覆盖所述基板的中心并向所述基板的边缘延伸,且在所述照射区域的延伸方向上,所述照射区域的长度不小于所述基板的中心到所述基板的边缘的最大距离;驱动装置,用于驱动所述承载台在水平面内绕所述基板的中心转动。
【技术特征摘要】
1.一种激光退火设备,其特征在于,包括:承载台,具有固定面,用于固定待退火的基板;激光源,用于向所述基板发出激光束,所述激光束的照射区域覆盖所述基板的中心并向所述基板的边缘延伸,且在所述照射区域的延伸方向上,所述照射区域的长度不小于所述基板的中心到所述基板的边缘的最大距离;驱动装置,用于驱动所述承载台在水平面内绕所述基板的中心转动。2.根据权利要求1所述的激光退火设备,其特征在于,所述基板的形状为矩形,在所述延伸方向上,所述照射区域的长度等于所述基板的对角线长度的一半。3.根据权利要求2所述的激光退火设备,其特征在于,所述照射区域为等腰三角形区域,所述等腰三角形区域的顶点与所述基板的中心重合;或者,所述照射区域为矩形区域,所述矩形区域的短边中点与所述基板的中心重合。4.根据权利要求1所述的激光退火设备,其特征在于,所述照射区域还沿所述延伸方向的反向从所述基板的中心向边缘延伸,在所述照射区域的延伸方向及其反向上,所述照射区域的长度均等于所述最大...
【专利技术属性】
技术研发人员:王景帅,李喆镐,郝永志,韩晓强,张展鹏,张桂梅,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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