一种等离子割炬电极座及应用其的等离子割炬制造技术

本实用新型专利技术公开了一种等离子割炬电极座及应用其的等离子割炬，属于等离子切割技术领域。本实用新型专利技术的一种等离子割炬电极座，包括主体，主体内设有内腔，主体上设有连通内腔和主体外周的第一气孔和第二气孔，且主体外周上设有位于第一气孔和第二气孔之间的密封隔离结构，第二气孔靠近主体的电极安装端，且主体的电极安装端外周设有与第二气孔相通的螺旋槽。本实用新型专利技术使冷却保护气和离子气相互之间不产生干涉，便于两路气体的精确控制，并且利用电极座主体上的螺旋槽形成旋转气流，使离子气加压加速形成高速集中的等离子弧，提高了切割质量和效率；同时利用环套使螺旋槽形成精度更高的螺旋气流通道，保证了离子气的稳定集中。

A plasma torch electrode base and application of the plasma torch

The utility model discloses a plasma torch electrode base and application of plasma torch which belongs to the technical field of plasma cutting. The utility model relates to a plasma torch electrode holder, which comprises a main body, the main body is provided with an inner cavity is arranged on the main body, and the periphery of the body cavity communicated with the first hole and the second hole, and the body is arranged on the peripheral seal is located between the first isolation structure hole and a second hole, second hole near the main body of the electrode mounting terminal, and electrode the main body of the installation end are arranged around the periphery of the spiral groove is communicated with the second holes. The utility model makes the cooling protection gas and ion gas are not due to the interference of precise control for two gases, and the spiral groove is formed on the electrode holder body rotation of the air, the ion gas pressure to accelerate the formation of plasma arc high concentrated, improves the cutting quality and efficiency; while using the ring sleeve to form a helical spiral groove flow channel with higher precision, to ensure the stability of gas ion concentration.

【技术实现步骤摘要】
一种等离子割炬电极座及应用其的等离子割炬
本技术涉及一种等离子割炬及其组件，更具体地说，涉及一种等离子割炬电极座及应用其的等离子割炬。
技术介绍
等离子切割具有加工效率高、质量好、成本低等优点，在热切割中应用越来越广泛，等离子切割主要依靠高温高速的等离子弧及其焰流，将被切割工件熔化及蒸发，并吹离基体。等离子割炬是等离子切割系统中的关键部件，其主要由割炬绝缘体、绝缘套、电极和喷嘴等关键部件组成，电极与喷嘴通过绝缘套绝缘，在电极与喷嘴内腔间形成放电腔，当电极端部的铪丝通电后，使气体在放电腔内电离产生高温等离子体，高温等离子体从喷嘴的喷口喷出对金属材料进行切割。电极与喷嘴是等离子割炬中的易损件，因此电极与喷嘴常采用可拆更换结构，电极采用电极座安装，喷嘴采用喷嘴座安装，便于电极和喷嘴更换。另外，对电极和喷嘴进行有效冷却也是提高其使用寿命的有效手段。中国专利号ZL201620746026.5，授权公告日为2016年12月28日，技术名称为：一种气体等离子割炬，该申请案涉及一种等离子割炬，其电极安装在电极导电座(电极座)上，喷嘴安装在喷嘴固定座(喷嘴座)上，电极导电座的内腔与进气管相连通，且电极导电座上设有连通电极导电座内腔和放电腔的气孔，绝缘套上设有连通气孔的第一通孔，喷嘴固定座上设有连通喷嘴外周的第二通孔，绝缘套与喷嘴固定座之间设有分别连通第一通孔和第二通孔的第一螺旋气流通道。该申请案将进入割炬内的气体分为离子气和冷却保护气两部分，并利用螺旋气流通道增加了气体在割炬内的换热面积，大幅提高了割炬的冷却效率，使割炬本体不发烫，电极和喷嘴等易损件更加耐用，提高了割炬的使用寿命。但是，在该申请案中，进入割炬内的气体在电极座外侧分为两路气体，两路气体的气量大小较难得到有效控制，使得割炬切割质量和效率也很难控制在最佳水平。并且，该申请案中的电极导电座外侧的螺旋槽与绝缘套配合形成螺旋气流通道，而绝缘套的内孔加工精度较差，导致螺旋气流通道的气流不够均匀稳定，而不稳定集中的气流直接导致割炬的切割精度和效率下降。
技术实现思路
1.技术要解决的技术问题本技术的目的在于克服现有气冷式等离子割炬存在离子气和冷却保护气难以准确控制、气流稳定性较差等不足，提供一种等离子割炬电极座及应用其的等离子割炬，采用本技术的技术方案，在电极座主体上设置两组通过密封隔离结构隔开的第一气孔和第二气孔分别输送冷却保护气和离子气，使冷却保护气和离子气相互之间不产生干涉，从而便于两路气体的精确控制，并且利用电极座主体上的螺旋槽形成旋转气流，使离子气加压加速形成高速集中的等离子弧，提高了切割质量和效率；同时利用环套使螺旋槽形成精度更高的螺旋气流通道，保证了离子气的稳定集中。2.技术方案为达到上述目的，本技术提供的技术方案为：本技术的一种等离子割炬电极座，包括主体，所述的主体内设有内腔，所述的主体上设有连通内腔和主体外周的第一气孔和第二气孔，且主体外周上设有位于第一气孔和第二气孔之间的密封隔离结构，所述的第二气孔靠近主体的电极安装端，且主体的电极安装端外周设有与第二气孔相通的螺旋槽。更进一步地，还包括环套，所述的环套套设于主体的电极安装端外周，并罩住第二气孔和螺旋槽，所述的螺旋槽与环套之间形成螺旋气流通道，所述的第二气孔与环套之间形成连通第二气孔与螺旋气流通道的第二环形腔。更进一步地，所述的主体的外周上还设有位于第一气孔出气口处的第一环形腔。更进一步地，所述的密封隔离结构包括设于主体外周上的密封圈安装槽和设于密封圈安装槽内的密封圈。更进一步地，所述的第二气孔在主体上均匀设有两个以上。更进一步地，所述的螺旋槽在主体外周上均匀设有两条以上。更进一步地，所述的第二气孔的数量与螺旋槽的数量相等。更进一步地，所述的第二气孔和螺旋槽均设有4或6或8个。本技术的一种具有上述的等离子割炬电极座的等离子割炬。3.有益效果采用本技术提供的技术方案，与已有的公知技术相比，具有如下有益效果：(1)本技术的一种等离子割炬电极座，其电极座主体上设有连通内腔和主体外周的第一气孔和第二气孔，且主体外周上设有位于第一气孔和第二气孔之间的密封隔离结构，第二气孔靠近主体的电极安装端，且主体的电极安装端外周设有与第二气孔相通的螺旋槽，通过隔开的第一气孔和第二气孔分别输送冷却保护气和离子气，使冷却保护气和离子气相互之间不产生干涉，从而便于两路气体的精确控制，并且利用电极座主体上的螺旋槽形成旋转气流，使离子气加压加速形成高速集中的等离子弧，提高了切割质量和效率；(2)本技术的一种等离子割炬电极座，其还包括环套，环套套设于主体的电极安装端外周，并罩住第二气孔和螺旋槽，螺旋槽与环套之间形成螺旋气流通道，利用环套使螺旋槽配合形成精度更高的螺旋气流通道，防止螺旋气流通道因加工和装配精度影响而造成螺旋气流紊乱，保证了离子气的稳定集中，进一步保证了割炬的切割精度；(3)本技术的一种等离子割炬电极座，其主体的外周上还设有位于第一气孔出气口处的第一环形腔，第二气孔与环套之间形成连通第二气孔与螺旋气流通道的第二环形腔，使气流分布更加均匀稳定；(4)本技术的一种等离子割炬电极座，其密封隔离结构包括设于主体外周上的密封圈安装槽和设于密封圈安装槽内的密封圈，结构简单，加工制作方便，且便于装配；(5)本技术的一种等离子割炬电极座，其第二气孔在主体上均匀设有两个以上，螺旋槽在主体外周上均匀设有两条以上，第二气孔的数量与螺旋槽的数量相等，使气流更加均匀，保证了气流的稳定集中，进一步提高了切割质量和效率；(6)本技术的一种等离子割炬，具有上述的等离子割炬电极座，使进入割炬内的冷却保护气和离子气能够得到更好地分配控制，保证等离子弧稳定集中，保证了割炬的切割质量和切割效率。附图说明图1为本技术的一种等离子割炬电极座的主视结构示意图；图2为本技术的一种等离子割炬电极座的右视结构示意图；图3为本技术的一种等离子割炬电极座的结构示意图(含环套)。示意图中的标号说明：1、主体；2、内腔；3、第一气孔；4、密封圈；5、密封圈安装槽；6、第二气孔；7、螺旋槽；8、第一环形腔；9、第二环形腔；10、环套。具体实施方式为进一步了解本技术的内容，结合附图和实施例对本技术作详细描述。实施例结合图1和图2所示，本实施例的一种等离子割炬电极座，包括主体1，主体1内设有内腔2，用于接入等离子割炬的进气管，主体1的材质优选铜等导电导热材料。主体1上设有连通内腔2和主体1外周的第一气孔3和第二气孔6，且主体1外周上设有位于第一气孔3和第二气孔6之间的密封隔离结构，在电极座装配到割炬内后，能够将第一气孔3和第二气孔6分隔开来。第一气孔3远离主体1的电极安装端，对应地，第二气孔6靠近主体1的电极安装端，且主体1的电极安装端外周设有与第二气孔6相通的螺旋槽7，在电极座装配到割炬内后，螺旋槽7与割炬内其他部件配合即可形成螺旋气流通道。本实施例的一种等离子割炬电极座，通过隔开的第一气孔3和第二气孔6分别输送冷却保护气和离子气，使冷却保护气和离子气相互之间不产生干涉，从而便于两路气体的精确控制，并且利用电极座主体1上的螺旋槽7形成旋转气流，使离子气加压加速形成高速集中的等离子弧，提高了切割质量本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子割炬电极座，包括主体(1)，所述的主体(1)内设有内腔(2)，其特征在于：所述的主体(1)上设有连通内腔(2)和主体(1)外周的第一气孔(3)和第二气孔(6)，且主体(1)外周上设有位于第一气孔(3)和第二气孔(6)之间的密封隔离结构，所述的第二气孔(6)靠近主体(1)的电极安装端，且主体(1)的电极安装端外周设有与第二气孔(6)相通的螺旋槽(7)。

【技术特征摘要】
1.一种等离子割炬电极座，包括主体(1)，所述的主体(1)内设有内腔(2)，其特征在于：所述的主体(1)上设有连通内腔(2)和主体(1)外周的第一气孔(3)和第二气孔(6)，且主体(1)外周上设有位于第一气孔(3)和第二气孔(6)之间的密封隔离结构，所述的第二气孔(6)靠近主体(1)的电极安装端，且主体(1)的电极安装端外周设有与第二气孔(6)相通的螺旋槽(7)。2.根据权利要求1所述的一种等离子割炬电极座，其特征在于：还包括环套(10)，所述的环套(10)套设于主体(1)的电极安装端外周，并罩住第二气孔(6)和螺旋槽(7)，所述的螺旋槽(7)与环套(10)之间形成螺旋气流通道，所述的第二气孔(6)与环套(10)之间形成连通第二气孔(6)与螺旋气流通道的第二环形腔(9)。3.根据权利要求2所述的一种等离子割炬电极座，其特征在于：所述的主体(...

【专利技术属性】
技术研发人员：周楠，周国清，
申请(专利权)人：周楠，
类型：新型
国别省市：江苏,32