一种制备硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线的方法技术

技术编号:16992735 阅读:30 留言:0更新日期:2018-01-10 18:19
本发明专利技术提供了一种硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线,包括:硫化亚锡内核,包覆在硫化亚锡内核表面的硅氧化物外壳。本发明专利技术提供了一种硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线的制备方法,包括:在高温管式炉中心温区放入硫化亚锡粉末,在气流下游放置硅片,对高温管式炉腔体抽真空,然后通入气流使高温管式炉腔体恢复至常压并进行加热,得到硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线。本发明专利技术提供的方法制备得到的硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线内部为硫化亚锡,外部为硅氧化物。本发明专利技术提供的方法在常压下无需催化剂和模板即可制备得到硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线,这种方法工艺简单对环境污染小,易于推广和操作,具有良好的应用前景。

A method for preparing nanowires of Sn / Si oxide core and shell structure

The present invention provides a tin sulfide / silicon oxide core shell structural nanowire, including: Stannous sulfide core, coated silicon oxide shell on the surface of stannous sulfide core. The invention provides a tin sulfide / silicon oxide core-shell nanowires preparation method, including: in the high temperature tube furnace temperature zone in the center of tin sulfide powder, placed in the downstream flow of silicon, high temperature tube furnace vacuum chamber, and then pass into the air to make the high temperature tube furnace cavity recovery to atmospheric pressure and heating by stannous sulfide / silicon oxide nanoparticles with core-shell structure line. The nanowires of Sn / Si oxide nuclear shell structure prepared by the method are stannous sulfide and silicon oxide in the outside. The method provided by this invention can produce stannic sulfide / silicon oxide core shell nanowires without catalyst or template at normal pressure. This process is simple, with little environmental pollution, easy popularization and operation, and has good application prospects.

【技术实现步骤摘要】
一种制备硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线的方法
本专利技术涉及核壳结构纳米线
,尤其涉及一种硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线及其制备方法。
技术介绍
硫化亚锡(SnS)是IV-VI族层状结构的化合物半导体材料,室温为正交晶系。硫化亚锡的结构每一Sn-S双原子层中Sn原子和S原子由较强的共价键结合,层与层之间通过范德华力结合。硫化亚锡的光学直接带隙和间接带隙宽度分别为1.2~1.5eV和1.0~1.1eV,与太阳辐射有很好的光谱匹配,且具有很大的光吸收系数(α>104cm-1),在理论上其能量转换效率最高可达25%,其组成元素在地球上含量丰富,具有良好的环境兼容性。现有技术中硫化亚锡纳米结构材料大多采用复杂的方法合成,如液相法和气相法。液相法通常采用溶剂热方法,如2013年清华大学李亚栋院士课题组采用溶剂热方法合成了硫化亚锡纳米带(参阅NanoResearch第6卷第55页);气相法采用热蒸发技术,使用Au作为催化剂合成了硫化亚锡纳米线,如2014年,SuryawanshiS.R.采用热蒸发技术,使用Au作为催化剂合成了硫化亚锡纳米线(参阅ACSAppl.Mater.Interfaces第6卷第2018页)。以上技术制备硫化亚锡纳米线的方法工艺复杂,不利于大规模生产。硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线还未见报道。而利用化学气相沉积法,无催化剂辅助,在常压下合成硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线也还未见相关报道。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术的目的在于提供一种硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线及其制备方法,本专利技术提供的制备方法工艺简单。本专利技术提供了一种硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线,包括:硫化亚锡内核;包覆在硫化亚锡内核表面的硅氧化物外壳。优选的,所述硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线的直径为100~700nm。本专利技术提供了一种硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线的制备方法,包括:在高温管式炉中心温区放入硫化亚锡粉末,在硫化亚锡粉末气流下游放置硅片,对高温管式炉腔体抽真空,然后通入气流使高温管式炉腔体恢复至常压并进行加热,得到硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线。优选的,所述方法不使用任何催化剂。优选的,所述常压为一个大气压。优选的,所述气流的气体为保护性气体。优选的,所述气流的流量为30~70sccm。优选的,所述硅片的放置位置距离高温管式炉中心温区5~25cm。优选的,所述加热的温度为700~1000℃。优选的,所述加热的时间为0.5~5小时。优选的,所述硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线的制备方法具体为:先将硅片处理干净,在高温管式炉中心温区放入商业购买的硫化亚锡粉末,在气流下游放置硅衬底(硅片),对高温管式炉腔体抽真空,通入Ar气流使高温管式炉腔体恢复至常压,升温至700~1000℃进行0.5~5小时的反应,反应结束后自然降温,得到硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线。与现有技术相比,本专利技术提供的方法制备得到的硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线内部为硫化亚锡,外部为硅氧化物,表面光滑,直径可达100~700nm。本专利技术提供的方法在高温常压下无需催化剂和模板即可制备得到硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线,这种方法工艺简单对环境污染小,易于推广和操作,具有良好的应用前景。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据提供的附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例1制备得到的硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线的X射线衍射图;图2为本专利技术实施例1制备得到的硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线的扫描电子显微镜图和透射电子显微镜图;图3为本专利技术实施例1制备得到的硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线头部的透射电子显微镜-能量色散元素分布图;图4为本专利技术实施例1制备得到的硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线的透射电子显微镜-能量色散元素分布图;图5为化学气相沉积法使用的管式炉的模型图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。本专利技术提供了一种硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线,包括:硫化亚锡内核;包覆在硫化亚锡内核表面的硅氧化合物外壳。在本专利技术中,所述硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线的直径优选为100~700nm,更优选为200~600nm,更优选为300~500nm,最优选为400nm。在本专利技术中,所述硫化亚锡内核可以为全部中空的,也可以为部分中空的,还可以为实心的。本专利技术提供了一种硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线的制备方法,包括:在高温管式炉中心温区放入硫化亚锡粉末,在硫化亚锡粉末气流下游放置硅片,对高温管式炉腔体抽真空,然后通入气流使高温管式炉腔体恢复至常压并进行加热,得到硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线。本专利技术对所述硫化亚锡粉末的来源没有特殊的限制,可将商业购买获得的硫化亚锡块体采用本领域技术人员熟知的研磨方法进行研磨,得到硫化亚锡粉体。在本专利技术中,所述硫化亚锡(粉末)的纯度优选为99.0%以上,更优选为99.5%以上,最优选为99.01%、99.1%、99.5%、99.9%、99.99%、99.995%、99.998%、99.999%或99.9999%。在本专利技术中,所述硅片优选预先处理干净。本专利技术对所述硅片的种类和来源没有特殊的限制,采用本领域技术人员熟知的硅片市售商品即可,表面有氧化层。在本专利技术中,所述硅片的厚度优选为375~425微米,更优选为400微米。在本专利技术中,所述加热过程中,气流先经过硫化亚锡粉末,然后经过硅片,本专利技术实施例中气流方向、硫化亚锡粉末和硅片的位置如图5所示,图5为本专利技术化学气相沉积法使用的管式炉的模型图:Ar气流从进气口进入石英管,先经过高温管式炉中心温区的硫化亚锡粉末(原料),然后经过硅片(衬底),石英管外部设置有出气口和机械泵。在本专利技术中,所述加热过程中硫化亚锡粉末优选处于加热中心,所述硅片优选位于硫化亚锡粉末的气流下游,所述硅片和硫化亚锡粉末的距离优选为5~25cm,更优选为15~25cm,最优选为5cm、9cm、10cm、15cm、17cm、19cm、20cm、21cm、25cm、30cm。在本专利技术中,所述加热优选在高温管式炉中进行;所述加热过程中,硫化亚锡粉末优选位于高温管式炉中心温区;所述硅片优选位于气流下游,所述气流下游优选距高温管式炉中心温区5~25cm,更优选为15~25cm,最优选为5cm、9cm、10cm、15cm、17cm、19cm、20cm、21cm、25cm、30cm;所述加热之前,优选对高温管式炉进行抽真空处理,在加热过程中通过气流填充使高温管式炉内恢复至常压;所述常压优选为1个大气压。在本专利技术中,所述硅片的放置位置优选距高温管式炉中心温区5~25cm,更优选为15~25cm,最优选为5cm、9cm、10cm、15cm、17cm、19cm、20cm、本文档来自技高网...
一种制备硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线的方法

【技术保护点】
一种硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线,包括:硫化亚锡内核;包覆在硫化亚锡内核表面的硅氧化物外壳。

【技术特征摘要】
1.一种硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线,包括:硫化亚锡内核;包覆在硫化亚锡内核表面的硅氧化物外壳。2.根据权利要求1所述的硫化亚锡/硅氧化物核壳结构的纳米线,其特征在于,所述硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线的直径为100~700nm。3.一种权利要求1所述的硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线的制备方法,包括:在高温管式炉中心温区放入硫化亚锡粉末,在气流下游放置硅片,对高温管式炉腔体抽真空,然后通入气流使高温管式炉腔体恢复至常压并进行加热,得到硫化亚锡/硅氧化物核壳结构纳米线。4.根据权利要求3所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员:简基康刘骄吴晶杜炳生蔡文阳苏灿锋
申请(专利权)人:广东工业大学
类型:发明
国别省市:广东,44

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