光学装置制造方法及图纸

技术编号:16967772 阅读:116 留言:0更新日期:2018-01-07 05:29
公开了一种包括反射器的片材,反射器具有第一表面、与第一表面相反的第二表面、和第三表面;在反射器的第一表面外部的第一选择性光调制器层;以及在反射器的第二表面外部的第二选择性光调制器层;其中,反射器的第三表面是敞开的。还公开了一种制造片材的方法。

Optical device

Is disclosed which includes a reflector sheet, the reflector has a first surface and the second surface and the third surface opposite the first surface; the first layer of the first surface light modulator selective external reflector; and on the second surface of the external reflector second selective light modulator layer; the third surface of the reflector is open. A method of making sheets is also disclosed.

【技术实现步骤摘要】
光学装置
本公开总体涉及一种物品,诸如形成为箔片、片材、和/或薄片的形式的光学装置。光学装置可包括至少一个反射器(诸如金属反射器层)和选择性光调制器层(“SLML”)(诸如沉积在该至少一个反射器上的介电层或彩色层)。还公开了形成该光学装置的方法。
技术介绍
多种光学装置(包括薄片)被用作具有增强的光学特性的消费者应用的特征。在一些消费者应用中,期望的是具有较低甚至没有色移的金属效应和光学变化效应。不幸的是,当前的制造方法会导致光学装置不能足够的易染色和/或不能提供足够强的金属翻面(metallicflop)。其他方法需要多层涂料系统,其增加制造成本并且不能在工业标准制造设备中工作。
技术实现思路
在一个方面,公开了一种片材,其包括反射器,该反射器具有第一表面、与第一表面相反的第二表面、和第三表面;在所述反射器的第一表面外部的第一选择性光调制器层;以及在所述反射器的第二表面外部的第二选择性光调制器层;其中所述反射器的第三表面是敞开的。在另一方面,公开了一种制造片材的方法,包括:在基底上沉积第一选择性光调制器层;在所述第一选择性光调制器层上沉积至少一个反射器;以及在所述至少一个反射器上沉积第二光调制器层;其中第一选择性光调制器层和第二选择性光调制器层中的至少一个通过液体涂覆工艺沉积。多个实施例的其他特征和优势将在下面的描述中部分地阐述,并且部分地将从该描述而变得显而易见,或者可以通过多个实施例的实践而习得。将通过在这里的说明中特别指出的元素和组合而实现和获得多个实施例的目的和其他的优势。附图说明本公开的多个方面和实施例中能够从细节的描述和附图而更多地理解,其中:图1是根据本公开的示例的薄片形式的物品截面图;图2是根据本公开的示例的、在从具有释放层的基底上释放之前的物品的截面图;图3是根据本公开的示例的、示出了沉积介电层的步骤的液体涂覆工艺的截面图。在整个说明书和附图中,类似的附图标记指代相同的元件。具体实施方式应当理解,前述的概要描述和后续的详细描述都是示例性的,并且仅意在提供对如权利要求所述的技术的解释。在其更宽泛和变化的实施例中,文中公开了诸如光学装置的物品,例如,形成为箔片、片材和薄片的形式;以及公开了制造该物品的方法。在一个示例中,该物品可以是包括反射器和至少一个选择性光调制器层(SLML)的片材。在一些示例中,物品10可以呈现光的干涉。替代地,在一些示例中,物品10可以不呈现光的干涉。在一个方面,物品10可利用干涉而产生颜色。在另一个方面,物品10不能利用干涉而产生颜色。例如,如在下文中进一步描述的,可以通过在SLML中包括选择性光调制器系统(SLMS),例如,添加物、选择性光调制器颗粒(SLMP)或选择性光调制器分子(SLMM)来产生颜色外观。在一个方面,如图1所示,物品10可以为片材的形式,其可用于物体或基底20上。在另一方面,物品10可以为箔片或薄片的形式。在一个方面,光学装置可包括片材的一部分。在另一方面,物品10可包括光学装置和液体介质。在另一方面,物品10可以是薄片形式的光学装置,例如,具有100nm到100μm的厚度和100nm到1mm的尺寸。物品10可以是色移着色剂,或可用作货币(currency)的安全特征。物品10的使用的一些属性可以包括高色度(或强色),相对于视角的颜色变化(也称为色差(goniochromaticity)或虹彩)和翻面(flop)(随着视角变化,亮度、色相或色度变化的镜面和金属外观)。此外,物品10可以是金属颜色,并且不能利用干涉来产生颜色。图1和2示出了一种片材,其包括反射器16,该反射器具有第一表面、与第一表面相反的第二表面;和第三表面;在所述反射器的第一表面外部的第一选择性光调制器层14;以及在所述反射器的第二表面外部的第二选择性光调制器层14’;其中所述反射器的第三表面(反射器16的左侧和/或右侧)是敞开的。虽然图1和2示出了物品10,诸如形成为片材的光学装置,但是根据本公开的多个示例,物品10,诸如光学装置,也可以形成为薄片和/或箔片的形式。虽然,图1和2示出了呈特定顺序的特定层,但是本领域的普通技术人员可以理解的是,物品10可包括呈任意顺序的任意数量的层。此外,任何特定层的组分可以与任何其它层的组分相同或不同。物品10,诸如形成为片材、薄片或箔片的光学装置,可包括至少一个介电层,诸如第一SLML14,第二SLML14’,第三SLML14”,第四SLML14”’等。如果在光学装置中存在不止一个SLML14、14’,则每个SLML可在其相应的组分和物理特性上独立。例如,第一SLML14可具有有着第一折射率的组分,但是在同一光学装置中的第二SLML14’可具有有着不同的折射率的不同的组分。又例如,第一SLML14可具有有着第一厚度的组分,但是第二SLML14’可具有有着不同于第一厚度的第二厚度的相同的组分。另外地或替代地,形成为箔片、片材或薄片的物品10还可包括在SLML14和/或SLML14’的表面上的硬涂层或保护层。在一些示例中,这些层(硬涂层或保护层)无需光学质量(qualities)。如图1和2所示,示出了反射器16的至少两个表面/侧,例如右表面/侧和左表面/侧,其可以没有SLML14、14’。在一个方面,如果物品10形成为箔片或薄片,则反射器16可包括不止在图1和2中例示出的四个表面。在这些情况下,例如反射器16的一个、两个、三个、四个或五个表面可以没有SLML14。在一些示例中,反射器16的一个、两个、三个、四个或五个表面,以及从而物品10可以敞开至空气。在示例中,反射器的不包含外部SLML的表面,即敞开侧,可具有用于翻面的优势。反射器16可以是宽带反射器,例如,光谱和朗伯反射器(例如,白色TiO2)。反射器16可以是金属、非金属或金属合金。在一个示例中,用于该至少一个反射器16的材料可以包括在期望的光谱范围内具有反射特性的任意材料。例如,在期望的光谱范围内具有5%到100%的反射率的任意材料。反射材料的一个示例可以是铝,其具有良好的反射特性,其是廉价的,并且其容易形成为或沉积为薄层。也可使用其他的反射材料来代替铝。例如,铜、银、金、铂、钯、镍、钴、铌、铬、锡、以及这些或其它金属的组合或合金可用作反射材料。在一个方面,用于所述至少一个反射器16的材料可以是白色或浅色金属。在其他示例中,反射器16可包括但不限于,过渡金属和镧系金属及其组合;以及金属碳化物,金属氧化物,金属氮化物,金属硫化物,其组合,或金属和这些材料中的一种或多种的混合物。至少一个反射器16的厚度可在约5nm到约5000nm的范围内,虽然该范围并非限制性的。例如,厚度的下限可选择为使得,反射器16提供最大0.8的透射率。另外地或替代地,对于包括铝的反射器16,光学密度(OD)在约550nm的波长可以在约0.1到约4的范围内。为了获得足够的光学密度和/或实现期望的效果,取决于反射器16的组分,可需要更高或更低的最小厚度。在一些示例中,上限可以是约5000nm,约4000nm,约3000nm,约1500nm,约200nm,和/或约100nm。在一个方面,至少一个反射器16的厚度可在约10nm到约5000nm的范围内,例如,从约15nm到约4000nm,从约20nm到约3本文档来自技高网...
光学装置

【技术保护点】
一种片材,包括:反射器,所述反射器具有第一表面、与所述第一表面相反的第二表面、和第三表面;在所述反射器的第一表面外部的第一选择性光调制器层;以及在所述反射器的第二表面外部的第二选择性光调制器层;其中,所述反射器的第三表面是敞开的。

【技术特征摘要】
2016.06.27 US 62/355,1311.一种片材,包括:反射器,所述反射器具有第一表面、与所述第一表面相反的第二表面、和第三表面;在所述反射器的第一表面外部的第一选择性光调制器层;以及在所述反射器的第二表面外部的第二选择性光调制器层;其中,所述反射器的第三表面是敞开的。2.根据权利要求1所述的片材,其中,所述第一选择性光调制器层和所述第二选择性光调制器层中的至少一个选择性地吸收特定的能量波长。3.根据权利要求1所述的片材,其中,所述第一选择性光调制器层和所述第二选择性光调制器层中的至少一个控制所述片材的折射率。4.根据权利要求1所述的片材,其中,所述第一选择性光调制器层和所述第二选择性光调制器层中的至少一个包括基质材料。...

【专利技术属性】
技术研发人员:J赛德尔M特维斯K梁J齐巴
申请(专利权)人:唯亚威解决方案股份有限公司
类型:发明
国别省市:美国,US

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