气体阻隔性层叠体制造技术

本发明专利技术的气体阻隔性层叠体(100)具备：基材层(101)；和气体阻隔性聚合物层(103)，所述气体阻隔性聚合物层(103)设置于基材层(101)的至少一面上，并且通过对包含多元羧酸及多胺化合物的混合物进行加热而形成，厚度为0.01μm以上0.45μm以下。

Gas barrier laminated body

Gas barrier laminate of the invention (100) includes a base layer (101); and a gas barrier polymer layer (103), the gas barrier polymer layer (103) arranged on the substrate layer (101) on at least one surface and formed by heating the mixture containing polycarboxylic acid and the amine compound, thickness of 0.01 m above 0.45 M.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】气体阻隔性层叠体
本专利技术涉及气体阻隔性层叠体。
技术介绍
一般而言，作为气体阻隔性材料，在基材层上设置有作为气体阻隔层的无机物层的层叠体已在被使用。然而，该无机物层对摩擦等的耐受性差，这样的气体阻隔性层叠体在后续加工的印刷时、层压时或内容物的填充时，存在因摩擦、拉伸而在无机物层中产生裂纹、气体阻隔性降低的情况。因此，作为气体阻隔性材料，也在使用将有机物层用作气体阻隔层的层叠体。作为将有机物层用作气体阻隔层的气体阻隔性材料，已知有具有由包含多元羧酸(polycarboxylicacid)及多胺化合物的混合物形成的气体阻隔层的层叠体。作为与这样的气体阻隔性层叠体相关的技术，例如，可举出专利文献1(日本特开2005-225940号公报)及专利文献2(日本特开2014-184678号公报)中记载的技术。专利文献1中公开了一种气体阻隔膜，其具有由多元羧酸与多胺及/或多元醇进行制膜而成的气体阻隔层，其中，多元羧酸的交联度为40％以上。专利文献2中公开了一种气体阻隔膜，其是在由塑料膜形成的基材的至少一面由下述混合物进行制膜而成的，所述混合物是以多胺/多元羧酸成为12.5/87.5～27.5/72.5、且(多胺+多元羧酸)/薄片状无机物成为100/(5～50)的方式进行混合而成的。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2005-225940号公报专利文献2：日本特开2014-184678号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题根据本申请专利技术人的研究可知，对于专利文献1、2所记载的这样的层叠膜而言，虽然具有由多胺化合物与多元羧酸形成的酰胺交联结构所带来的优异气体阻隔性，但对外部变形的追随性并不充分。因此，为了发挥气体阻隔性这样的性能，有时也必须限定用途。本专利技术是鉴于上述情况而做出的，提供一种气体阻隔性能优异、且基材层与具有酰胺交联结构的气体阻隔性聚合物层的层间粘接性也优异的气体阻隔性层叠体。用于解决课题的手段根据本专利技术，提供如下所示的气体阻隔性层叠体。[1]气体阻隔性层叠体，其具有：基材层；和气体阻隔性聚合物层，上述气体阻隔性聚合物层设置于上述基材层的至少一面上，并且通过对包含多元羧酸及多胺化合物的混合物进行加热而形成，厚度为0.01μm以上0.45μm以下。[2]如上述[1]所述的气体阻隔性层叠体，其在上述基材层与上述气体阻隔性聚合物层之间还具有底涂层，上述底涂层由选自聚氨酯系树脂、聚酯系树脂、噁唑啉系树脂、丙烯酸系树脂中的一种或两种以上构成。[3]如上述[1]或[2]所述的气体阻隔性层叠体，其在上述基材层与上述气体阻隔性聚合物层之间还具有无机物层。[4]如上述[3]所述的气体阻隔性层叠体，其中，上述无机物层由选自由氧化硅、氧化铝、铝组成的组中的一种或两种以上的无机物构成。[5]如上述[4]所述的气体阻隔性层叠体，其中，上述无机物层是由氧化铝构成的氧化铝层。[6]如上述[5]所述的气体阻隔性层叠体，其中，将对上述氧化铝层进行荧光X射线分析而得到的、铝的Kα射线强度设为A，并且将对由铝形成且除了未导入氧以外在与上述氧化铝层相同的制造条件下得到的铝层进行荧光X射线分析而得到的、上述铝的Kα射线强度设为B时，A/B为0.50以上0.75以下。[7]如上述[1]至[6]中任一项所述的气体阻隔性层叠体，其中，(上述混合物中的上述多元羧酸中包含的-COO-基的摩尔数)/(上述混合物中的上述多胺化合物中包含的氨基的摩尔数)＝100/(超过22)、100/(99以下)。[8]如上述[1]至[7]中任一项所述的气体阻隔性层叠体，其中，上述多元羧酸为选自聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、丙烯酸与甲基丙烯酸的共聚物中的一种或两种以上的聚合物。[9]如上述[1]至[8]中任一项所述的气体阻隔性层叠体，其中，在上述气体阻隔性聚合物层的红外线吸收光谱中，将1493cm-1以上1780cm-1以下的吸收带范围内的总峰面积设为A、将1598cm-1以上1690cm-1以下的吸收带范围内的总峰面积设为B时，以B/A表示的酰胺键的面积比率为0.370以上。[10]如上述[9]所述的气体阻隔性层叠体，其中，在上述红外线吸收光谱中，将1690cm-1以上1780cm-1以下的吸收带范围内的总峰面积设为C时，以C/A表示的羧酸的面积比率为0.500以下。[11]如上述[9]或[10]所述的气体阻隔性层叠体，其中，在上述红外线吸收光谱中，将1493cm-1以上1598cm-1以下的吸收带范围内的总峰面积设为D时，以D/A表示的羧酸盐的面积比率为0.450以下。专利技术效果根据本专利技术，能够提供一种气体阻隔性能优异、且基材层与具有酰胺交联结构的气体阻隔性聚合物层的层间粘接性也优异的气体阻隔性层叠体。附图说明通过下文所述的优选实施方式及其附带的下述附图，将更为明确上述目的及其他目的、特征及优点。[图1]是示意性地示出本专利技术涉及的实施方式的气体阻隔性层叠体的结构的一个例子的剖面图。[图2]是示意性地示出本专利技术涉及的实施方式的气体阻隔性层叠体的结构的一个例子的剖面图。具体实施方式以下，使用附图对本专利技术的实施方式进行说明。需要说明的是附图为示意图，与实际的尺寸比率不一致。需要说明的是，除非另有特别说明，否则位于文中的数字之间的“～”表示以上至以下。<气体阻隔性层叠体>图1及2为示意性地示出本专利技术涉及的实施方式的气体阻隔性层叠体100的结构的一个例子的剖面图。气体阻隔性层叠体100具有基材层101和气体阻隔性聚合物层103，所述气体阻隔性聚合物层103设置于基材层101的至少一面上，并且是通过对包含多元羧酸及多胺化合物的混合物(以下也称为气体阻隔用涂布材料)进行加热而形成的，所述气体阻隔性聚合物层103的厚度为0.01μm以上0.45μm以下。在此，所谓通过对包含多元羧酸及多胺化合物的混合物进行加热而形成的层，是指由包含多元羧酸及多胺化合物的混合物的酰胺交联体构成的层。以下，对构成气体阻隔性层叠体100的各层进行说明。[气体阻隔性聚合物层]本实施方式涉及的气体阻隔性聚合物层103为通过对包含多元羧酸及多胺化合物的混合物进行加热并固化而形成的层。从气体阻隔性及与基材层101的稳定的粘接的观点考虑，气体阻隔性聚合物层103的厚度为0.01μm以上0.45μm以下。若气体阻隔性聚合物层103的厚度低于0.01μm，则有时气体阻隔性变得不充分，若大于0.45μm，则有时对外部变形力的追随性变得不充分、得不到稳定的与基材层的粘接性。即，通过使气体阻隔性聚合物层103的厚度为上述范围内，能够对气体阻隔性聚合物层103赋予追随性，结果即使对气体阻隔性层叠体100施加外部变形，在气体阻隔性聚合物层103与基材层101的层间也不易发生剥离。另外，本实施方式涉及的气体阻隔性聚合物层103的红外线吸收光谱中，将1493cm-1以上1780cm-1以下的吸收带范围内的总峰面积设为A、将1598cm-1以上1690cm-1以下的吸收带范围内的总峰面积设为B时，从气体阻隔性的观点考虑，以B/A表示的酰胺键的面积比率优选为0.370以上，更优选为0.400以上，进一步优选为0.420以上，特别优选为0.430以上。另外，从进一步提高外观、尺寸稳定性、生产率的均衡性的观点考虑，本文档来自技高网...

【技术保护点】
气体阻隔性层叠体，其具有：基材层；和气体阻隔性聚合物层，所述气体阻隔性聚合物层设置于所述基材层的至少一面上，并且通过对包含多元羧酸及多胺化合物的混合物进行加热而形成，厚度为0.01μm以上0.45μm以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.05.18 JP 2015-1013411.气体阻隔性层叠体，其具有：基材层；和气体阻隔性聚合物层，所述气体阻隔性聚合物层设置于所述基材层的至少一面上，并且通过对包含多元羧酸及多胺化合物的混合物进行加热而形成，厚度为0.01μm以上0.45μm以下。2.如权利要求1所述的气体阻隔性层叠体，其在所述基材层与所述气体阻隔性聚合物层之间还具有底涂层，所述底涂层由选自聚氨酯系树脂、聚酯系树脂、噁唑啉系树脂、丙烯酸系树脂中的一种或两种以上构成。3.如权利要求1或2所述的气体阻隔性层叠体，其在所述基材层与所述气体阻隔性聚合物层之间还具有无机物层。4.如权利要求3所述的气体阻隔性层叠体，其中，所述无机物层由选自由氧化硅、氧化铝、铝组成的组中的一种或两种以上的无机物构成。5.如权利要求4所述的气体阻隔性层叠体，其中，所述无机物层是由氧化铝构成的氧化铝层。6.如权利要求5所述的气体阻隔性层叠体，其中，将对所述氧化铝层进行荧光X射线分析而得到的、铝的Kα射线强度设为A，并且将对由铝形成且除了未导入氧以外在与所述氧化铝层相同的制造条件下得到的铝层进行荧光X射线分析而得到的、所述铝的Kα射线强度设为B时，A/B为0.50以上0...

【专利技术属性】
技术研发人员：铃木信悟，的场太辅，城所雅子，野本晃，
申请(专利权)人：三井化学东赛璐株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP