【技术实现步骤摘要】
一种单晶硅双腔结构的光学标准具
本技术涉及光学器件
,尤其涉及一种单晶硅双腔结构的光学标准具。
技术介绍
光学标准具是用于光学测量系统中的一种光学器件。光学标准具的光学性能,比如光学标准具的折射率、尺寸精度等对光学测量系统的测量精度有重要的影响,提高光学标准具的精度能够更好的保证光学测量系统的精度。为了保证光学标准具的精度,需要综合考虑光学材料选择与熔炼、冷加工和镀膜处理因素,优化设计出结构可靠、综合加工工艺优越的光学标准具零件,确保加工后的光学标准具精度高、性能稳定。
技术实现思路
为克服现有技术的不足,本技术提供了一种结构可靠、锐度和对比度高、整体性能好的单晶硅双腔结构的光学标准具。本技术为达到上述技术目的所采用的技术方案是:一种单晶硅双腔结构的光学标准具,包括两个相连的第一标准器件和第二标准器件,所述第一标准器件和第二标准器件的厚度相等或不相等,所述第一标准器件和第二标准器件精密粘合在一起,所述第一标准器件的光入射面上设有第一镀膜层,所述第一标准器件和第二标准器件的接触面上分别设有第二镀膜层、第三镀膜层,所述第二镀膜层和第三镀膜层之间设有调节膜腔,所述第二标准器件的光出射面上设有第四镀膜层,所述第一镀膜层、第二镀膜层、第三镀膜层和第四镀膜层的膜层厚度各不相同。所述第一标准器件和第二标准器件的自由光谱范围FSR为400GHz±4GHz,波长为1597nm。所述第一标准器件和第二标准器件的厚度都小于0.15mm。作为优选的,所述第一标准器件和第二标准器件的厚度都为0.13mm,所述第一标准器件和第二标准器件的厚度差小于0.5μm。所述第一镀膜层、第四镀 ...
【技术保护点】
一种单晶硅双腔结构的光学标准具,其特征在于:包括两个相连的第一标准器件和第二标准器件,所述第一标准器件和第二标准器件的厚度相等或不相等,所述第一标准器件和第二标准器件精密粘合在一起,所述第一标准器件的光入射面上设有第一镀膜层,所述第一标准器件和第二标准器件的接触面上分别设有第二镀膜层、第三镀膜层,所述第二镀膜层和第三镀膜层之间设有调节膜腔,所述第二标准器件的光出射面上设有第四镀膜层,所述第一镀膜层、第二镀膜层、第三镀膜层和第四镀膜层的膜层厚度各不相同。
【技术特征摘要】
1.一种单晶硅双腔结构的光学标准具,其特征在于:包括两个相连的第一标准器件和第二标准器件,所述第一标准器件和第二标准器件的厚度相等或不相等,所述第一标准器件和第二标准器件精密粘合在一起,所述第一标准器件的光入射面上设有第一镀膜层,所述第一标准器件和第二标准器件的接触面上分别设有第二镀膜层、第三镀膜层,所述第二镀膜层和第三镀膜层之间设有调节膜腔,所述第二标准器件的光出射面上设有第四镀膜层,所述第一镀膜层、第二镀膜层、第三镀膜层和第四镀膜层的膜层厚度各不相同。2.根据权利要求1所述的一种单晶硅双腔结构的光学标准具,其特征在于:所述第一标准器件和第二标准器件的自由光谱范围FSR为4...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄武达,
申请(专利权)人:福州科思捷光电有限公司,
类型:新型
国别省市:福建,35
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