包含硅氧烷溶剂的有机功能材料的制剂制造技术

本发明专利技术涉及一种用于制造有机半导体器件的制剂，所述制剂含有至少一种有机功能材料和至少第一溶剂和第二溶剂，其特征在于所述第一溶剂为硅氧烷。优选地，所述硅氧烷是选自八甲基环四硅氧烷，十甲基环五硅氧烷，十二甲基环六硅氧烷，十四甲基环七硅氧烷，六乙基环三硅氧烷，八乙基环四硅氧烷，2,4,6,8,10‑五乙基‑2,4,6,8,10‑五甲基环五硅氧烷和2,4,6‑三乙基‑2,4,6‑三甲基环三硅氧烷的环硅氧烷。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包含硅氧烷溶剂的有机功能材料的制剂
本专利技术涉及含有至少一种有机功能材料和至少第一溶剂和第二溶剂的制剂，其特征在于所述第一溶剂为硅氧烷；以及涉及通过使用这些制剂制备的电致发光器件。
技术介绍
长久以来，有机发光器件(OLED)通过真空沉积工艺制造。近来已充分研究其它技术(如喷墨印刷)，因为其具有如下优势，如节约成本和可扩大规模。多层印刷的主要挑战之一为识别相关参数来在衬底上获得油墨的均匀沉积。为了触发这些参数，如表面张力、粘度或沸点，可以向制剂中添加一些添加剂。例如，添加极少量(添加剂与溶剂的比率：0.0001至0.5％m/v，WO03/019693)的(环)硅氧烷显著有效地促进各种表面的湿润和平整。其还可以用作用于喷墨印刷的无机半导体的溶剂(WO200946148)。本专利技术的技术问题和目的多种溶剂已经被建议用在喷墨印刷用的有机电子器件中。然而，在沉积和干燥工艺期间发挥作用的重要参数的数目使得溶剂的选择极具挑战性。因此，用于通过喷墨印刷沉积的含有有机半导体的制剂仍需要改善。本专利技术的一个目的在于提供一种有机半导体的制剂，其使得能够受控地沉积来形成具有良好层特性和效率性能的有机半导体层。本专利技术的另一个目的在于提供一种有机半导体的制剂，其在用于喷墨印刷方法中时使得能够在衬底上均匀涂覆墨滴，从而提供良好的层特性和效率性能。此外，本专利技术的另一个目的为改善油墨在衬底和下伏层上的湿润特性，从而产生较高的发光均匀性。问题的解决方案本专利技术的上述目的通过提供包含有机功能材料和至少第一溶剂与第二溶剂的混合物的制剂解决，其中所述第一溶剂为硅氧烷，优选环硅氧烷。本专利技术的有利作用本专利技术人惊讶地发现添加作为第一溶剂的硅氧烷使得可以充分控制表面张力并且诱导有效的油墨沉积来形成均匀并且界线分明的功能材料有机层，这些层其具有良好层特性和性能。附图说明图1显示如下器件的典型层结构，其含有衬底、ITO阳极、空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、绿色发光层(G-EML)、蓝色发光层(B-EML)、电子传输层(ETL)和Al阴极。图2显示用于实施例3、实施例4和参比中的器件的层结构。所述器件含有衬底、ITO阳极、空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、绿色发光层(G-EML)、空穴阻挡层(HBL)、电子传输层(ETL)和Al阴极。具体实施方式本专利技术涉及含有至少一种有机功能材料和至少第一溶剂和第二溶剂的制剂，其特征在于所述第一溶剂为硅氧烷。优选实施方式在第一优选实施方式中，第一溶剂为环硅氧烷。环硅氧烷优选为根据通式(I)的环硅氧烷其中R1和R2在每次出现时相同或不同，并且为H，D，F，Cl，Br，I，NO2，CN，具有1至20个碳原子的直链烷基或烷氧基基团或具有3至20个碳原子的支链或环状烷基或烷氧基基团，其中一个或多个不相邻的CH2基团可以被-O-、-S-、-NR5-、-CONR5-、-CO-O-、-C＝O-、-CH＝CH-或-C≡C-代替，并且其中一个或多个氢原子可以被F代替，或具有4至14个碳原子并且可以被一个或多个非芳族R5基团取代的芳基或杂芳基基团，并且同一个环或两个不同环上的多个取代基R5又可以一起形成单环或多环的脂族或芳族环系；R5在每种情况下相同或不同，并且为具有1至20个碳原子的直链烷基或烷氧基基团或具有3至20个碳原子的支链或环状烷基或烷氧基基团，其中一个或多个不相邻的CH2基团可以被-O-、-S-、-CO-O-、-C＝O-、-CH＝CH-或-C≡C-代替，并且其中一个或多个氢原子可以被F代替，或具有4至14个碳原子并且可以被一个或多个非芳族R5基团取代的芳基或杂芳基基团；并且n在3至9范围内，优选为4、5、6或7并且更优选为5或6。在第二优选实施方式中，所述第一溶剂为根据通式(II)的硅氧烷其中R1、R2、R3和R4在每次出现时相同或不同，并且为H，D，F，Cl，Br，I，NO2，CN，具有1至20个碳原子的直链烷基或烷氧基基团或具有3至20个碳原子的支链或环状烷基或烷氧基基团，其中一个或多个不相邻的CH2基团可以被-O-、-S-、-NR5-、CONR5-、-CO-O-、-C＝O-、-CH＝CH-或-C≡C-代替，并且其中一个或多个氢原子可以被F代替，或具有4至14个碳原子并且可以被一个或多个非芳族R5基团取代的芳基或杂芳基基团，并且同一个环或两个不同环上的多个取代基R5又可以一起形成单环或多环的脂族或芳族环系；R5在每种情况下相同或不同，并且为具有1至20个碳原子的直链烷基或烷氧基基团或具有3至20个碳原子的支链或环状烷基或烷氧基基团，其中一个或多个不相邻的CH2基团可以被-O-、-S-、-CO-O-、-C＝O-、-CH＝CH-或-C≡C-代替，并且其中一个或多个氢原子可以被F代替，或具有4至14个碳原子并且可以被一个或多个非芳族R5基团取代的芳基或杂芳基基团；并且n在3至9范围内，优选为4、5、6或7并且更优选为5或6。表1中显示最优选环硅氧烷的实例和其沸点(BP)。表1：最优选的环硅氧烷和其沸点(BP)优选地，第一溶剂的表面张力≤25mN/m。更优选地，第一溶剂的表面张力为10至25mN/m并且最优选为15至25mN/m。基于制剂中的溶剂的总量计，第一溶剂的含量优选为1至50体积％、更优选为1至25体积％并且最优选为1至10体积％。因此，基于制剂中的溶剂的总量计，第二溶剂的含量为50至99体积％、优选为75至99体积％并且更优选为90至99体积％。优选地，第一溶剂的沸点在为100至400℃，更优选为150至350℃。根据本专利技术的制剂包含至少一种第二溶剂，其不同于第一溶剂。第二溶剂与第一溶剂一起使用。适合的第二溶剂优选为有机溶剂，其特别包括醇、醛、酮、醚、酯、酰胺如二-C1-2烷基甲酰胺、硫化合物、硝基化合物、烃、卤代烃(例如氯化烃)、芳族或杂芳族烃和卤代芳族或杂芳族烃。优选地，第二溶剂可以选自以下组中之一：取代和未取代的芳族或直链酯，如苯甲酸乙酯、苯甲酸丁酯；取代和未取代的芳族或直链醚，如3-苯氧基甲苯或苯甲醚；取代或未取代的芳烃衍生物，如二甲苯；二氢化茚衍生物，如六甲基二氢化茚；取代和未取代的芳族或直链酮；取代和未取代的杂环，如吡咯烷酮、吡啶、吡嗪；其它氟化或氯化芳族烃。特别优选的第二有机溶剂为例如1,2,3,4-四甲基苯、1,2,3,5-四甲基苯、1,2,3-三甲基苯、1,2,4,5-四甲基苯、1,2,4-三氯苯、1,2,4-三甲基苯、1,2-二氢萘、1,2-二甲基萘、1,3-苯并二氧戊环、1,3-二异丙基苯、1,3-二甲基萘、1,4-苯并二烷、1,4-二异丙基苯、1,4-二甲基萘、1,5-二甲基萘满、1-苯并噻吩、硫杂萘(thianaphthalene)、1-溴萘、1-氯甲基萘、1-乙基萘、1-甲氧基萘、1-甲基萘、1-甲基吲哚、2,3-苯并呋喃、2,3-二氢苯并呋喃、2,3-二甲基苯甲醚、2,4-二甲基苯甲醚、2,5-二甲基苯甲醚、2,6-二甲基苯甲醚、2,6-二甲基萘、2-溴-3-溴甲基萘、2-溴甲基萘、2-溴萘、2-乙氧基萘、2-乙基萘、2-异丙基苯甲醚、2-甲基苯甲醚、2-甲基吲哚、3,4-二甲基苯甲醚、3,5-二甲基苯甲醚、3-溴喹啉、3-甲基苯甲醚、4-甲基苯甲醚、5-癸内酯本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制剂，其含有至少一种有机功能材料和至少第一溶剂和第二溶剂，其特征在于所述第一溶剂为硅氧烷。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.03.30 EP 15000920.71.一种制剂，其含有至少一种有机功能材料和至少第一溶剂和第二溶剂，其特征在于所述第一溶剂为硅氧烷。2.根据权利要求1所述的制剂，其特征在于所述第一溶剂为环硅氧烷。3.根据权利要求2所述的制剂，其特征在于所述环硅氧烷为根据通式(I)的环硅氧烷其中R1和R2在每次出现时相同或不同，并且为H，D，F，Cl，Br，I，NO2，CN，具有1至20个碳原子的直链烷基或烷氧基基团或具有3至20个碳原子的支链或环状烷基或烷氧基基团，其中一个或多个不相邻的CH2基团可以被-O-、-S-、-NR5-、-CONR5-、-CO-O-、-C＝O-、-CH＝CH-或-C≡C-代替，并且其中一个或多个氢原子可以被F代替，或具有4至14个碳原子并且可以被一个或多个非芳族R5基团取代的芳基或杂芳基基团，并且同一个环或两个不同环上的多个取代基R5又可以一起形成单环或多环的脂族或芳族环系；R5在每种情况下相同或不同，并且为具有1至20个碳原子的直链烷基或烷氧基基团或具有3至20个碳原子的支链或环状烷基或烷氧基基团，其中一个或多个不相邻的CH2基团可以被-O-、-S-、-CO-O-、-C＝O-、-CH＝CH-或-C≡C-代替，并且其中一个或多个氢原子可以被F代替，或具有4至14个碳原子并且可以被一个或多个非芳族R5基团取代的芳基或杂芳基基团；并且n在3至9范围内，优选为4、5、6或7并且更优选为5或6。4.根据权利要求1所述的制剂，其特征在于所述硅氧烷为根据通式(II)的硅氧烷其中R1、R2、R3和R4在每次出现时相同或不同，并且为H，D，F，Cl，Br，I，NO2，CN，具有1至20个碳原子的直链烷基或烷氧基基团或具有3至20个碳原子的支链或环状烷基或烷氧基基团，其中一个或多个不相邻的CH2基团可以被-O-、-S-、-NR5-、CONR5-、-CO-O-、-C＝O-、-CH＝CH-或-C≡C-代替，并且其中一个或多个氢原子可以被F代替，或具有4至14个碳原子并且可以被一个或多个非芳族R5基团取代的芳基或杂芳基基团，并且同一个环或两个不同环上的多个取代基R5又可以一起形成单环或多环的脂族或芳族环系；R5在每种情况下相同或不同，并且为具有1至20个碳原子的直链烷基或烷氧基基团或具有3至20个碳原子的支链或环状烷基或烷氧基基团，其中一个或多个不相邻的CH2基团可以被-O-、-S-、-CO-O-、-C＝O-、-CH＝CH-或-C≡C-代替，并且其中一个或多个氢原子可以被F代替，或具有4至14个碳原子并且可以被一个或多个非芳族R5基团取代的芳基或杂芳基基团；并且n在3至9范围内，优选为4、5、6或7并且更优选为5或6。5.根据前述权利要求1至4中一项或多项所述的制剂，其特征在于基于所述制剂中的溶剂的总量计，所述第一溶剂的含量为1至50体积％、优选为1至25体积％并且更优选为1至10体积...

【专利技术属性】
技术研发人员：格雷·比雷，克里斯托夫·莱昂哈德，曾信荣，伊里娜·马丁诺娃，奥雷莉·吕德曼，
申请(专利权)人：默克专利有限公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE