【技术实现步骤摘要】
用于回旋加速器的梯度校正器专利
本专利技术涉及回旋加速器。具体地,本专利技术涉及等时性扇形聚焦回旋加速器,所述回旋加速器具有对引出的激励带电粒子束的增强聚焦。技术背景回旋加速器是一种圆形粒子加速器,其中带负电粒子或带正电粒子沿螺旋路径从回旋加速器的中心向外加速直到若干MeV的能量。除非另外指明,术语“回旋加速器”在以下内容中用于指等时性回旋加速器。回旋加速器用于各种领域,例如用于核物理、医疗治疗,诸如质子疗法,或用于放射性药物学。具体地,回旋加速器可以用于生产适合于PET成像(正电子发射X线断层摄影术)的短寿命正电子发射同位素、或生产例如用于SPECT成像(单光子发射计算机断层成像术)的伽马发射同位素(例如,Tc99m)。回旋加速器包括若干元件,包括注入系统、用于使带电粒子加速的射频(RF)加速系统、用于沿着精确路径引导加速粒子的磁系统、用于收集如此加速的粒子的引出系统、和用于在回旋加速器中创造并维持真空的真空系统。通过注入系统以相对低的初始速度将带电离子组成的粒子束在回旋加速器中心处或附近引入间隙中。如图3中所展示的,该粒子束通过RF加速系统按顺序并且重复地加速并且通过磁系统产生的磁场沿着所述间隙内的螺旋路径朝外引导。当粒子束达到其目标能量时,通过提供在引出点PE的引出系统从回旋加速器中引出所述粒子束。该引出系统可以包括例如由薄石墨片组成的剥离器。例如,穿过剥离器的H-离子失去两个电子并且变为正的。因此,磁场中的它们的路径的曲率改变其符号,并且因此从回旋加速器朝目标引出粒子束。存在本领域的技术人员众所周知的其他引出系统。磁系统产生磁场,所述磁场沿着螺 ...
【技术保护点】
一种用于回旋加速器(1)的磁极(2),包括至少3个丘扇块(3)和相同数目的包括底表面(4B)的谷扇块(4),所述丘扇块和谷扇块围绕中心轴线Z交替地分布,每个丘扇块包括:(a)由以下各项限定的上表面(3U):‑上外围边缘(3up),所述上外围边缘以第一和第二上远端(3ude)为边界,并且被限定为所述上表面的、位置离所述中心轴线最远的边缘;‑上中心边缘(3uc),所述上中心边缘以第一和第二上近端(3upe)为边界并且被限定为所述上表面的、位置离所述中心轴线最近的边缘;‑第一上侧边缘(3ul),所述第一上侧边缘将所述第一上远端与所述第一上近端相连接;‑第二上侧边缘(3ul),所述第二上侧边缘将所述第二上远端与所述第二上近端相连接;(b)第一和第二侧表面(3L),每个侧表面从所述第一和第二上侧边缘横向地延伸至位于丘扇块的任一侧的对应谷扇块的底表面,从而将所述第一和第二下侧边缘(3ll)限定为使侧表面与相邻底表面相交的边缘,所述第一和第二下侧边缘各自具有位置离所述中心轴线最远的下远端;(c)外围表面(3P),所述外围表面从所述上外围边缘延伸到下外围线(3lp),所述下外围线被限定为以所示第一和第 ...
【技术特征摘要】
2016.05.13 EP 16169494.81.一种用于回旋加速器(1)的磁极(2),包括至少3个丘扇块(3)和相同数目的包括底表面(4B)的谷扇块(4),所述丘扇块和谷扇块围绕中心轴线Z交替地分布,每个丘扇块包括:(a)由以下各项限定的上表面(3U):-上外围边缘(3up),所述上外围边缘以第一和第二上远端(3ude)为边界,并且被限定为所述上表面的、位置离所述中心轴线最远的边缘;-上中心边缘(3uc),所述上中心边缘以第一和第二上近端(3upe)为边界并且被限定为所述上表面的、位置离所述中心轴线最近的边缘;-第一上侧边缘(3ul),所述第一上侧边缘将所述第一上远端与所述第一上近端相连接;-第二上侧边缘(3ul),所述第二上侧边缘将所述第二上远端与所述第二上近端相连接;(b)第一和第二侧表面(3L),每个侧表面从所述第一和第二上侧边缘横向地延伸至位于丘扇块的任一侧的对应谷扇块的底表面,从而将所述第一和第二下侧边缘(3ll)限定为使侧表面与相邻底表面相交的边缘,所述第一和第二下侧边缘各自具有位置离所述中心轴线最远的下远端;(c)外围表面(3P),所述外围表面从所述上外围边缘延伸到下外围线(3lp),所述下外围线被限定为以所示第一和第二下侧边缘的下远端(3lde)为边界的段;其特征在于,至少一个丘扇块的上外围边缘包括相对于所述中心轴线限定凹陷的凹形部分,所述凹陷至少部分地在对应的丘扇块的外围边缘的一部分上延伸。2.根据权利要求1所述的磁极,其中,所述凹陷总体上是楔形的,其中第一和第二会聚线以会聚角θ延伸远离所述上外围边缘,所述会聚角优选地包括在70°与130°之间、更优选地在80°与110°之间、最优选地为90°±5°。3.根据权利要求2所述的磁极,其中,所述凹陷具有远离所述上外围边缘的会聚部分,所述会聚部分具有以下几何形状之一:●形成三角形凹陷的急拐角;●形成梯形凹陷的直边缘;或●形成拱形凹陷的圆化边缘。4.根据以上权利要求中任一项所述的磁极,其中,所述上外围边缘具有方位角长度Ah,并且其中,所述凹形部分在所述上外围边缘的所述方位角长度的3%与30%之间、优选地在5%与20%之间、更优选地在8%与15%之间延伸。5.根据以上权利要求中任一项所述的磁极,包括如权利要求1所述的与所述第一和第二上侧边缘分离开的凹陷。6.根据以上权利要求中任一项所述的磁极,包括如权利要求1所述的与所述第一上侧边缘相邻的凹陷。7.根据以上权利要求中任一项所述的磁极,其中,所...
【专利技术属性】
技术研发人员:W·克里文,S·扎雷姆巴,
申请(专利权)人:离子束应用股份有限公司,
类型:发明
国别省市:比利时,BE
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