基板、其制作方法以及显示器件技术

本公开的实施例提出了一种基板、制作该基板的方法以及包括该基板在内的显示器件。该基板包括：支撑衬底；以及光散射层，所述光散射层在所述支撑衬底的投影位于所述支撑衬底的透光形成区，且具有被配置为使得入射光发生散射的光散射结构。

Substrate, its manufacturing method and display device

An embodiment of the present disclosure proposes a substrate, a method of making the substrate, and a display device including the substrate. The substrate comprises a supporting substrate and a light scattering layer, wherein the light scattering layer is projected on the supporting substrate in the light transmitting forming region of the supporting substrate, and has a light scattering structure configured to cause the incident light to scatter.

【技术实现步骤摘要】
基板、其制作方法以及显示器件
本公开涉及显示
，更具体地涉及基板、其制作方法以及包括该基板在内的显示器件。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode或简称为OLED)又称为有机电致发光显示(OrganicElectroluminescentDisplay)器件，其是利用在两个电极之间的响应于电流而发光的有机化合物薄膜的显示器件。其具有自发光、广视角、对比度高、低功耗等优点，因而逐渐成为显示
中受到关注的技术。然而，由于OLED的光源是在其器件内部产生的，因此导致其发出的光线在射出器件的过程中，容易发生全反射现象。进而，光线会在盒内反复反射，并最终转化为热能，这极大地影响了光利用率。
技术实现思路
为了至少部分解决上述问题，提供了根据本公开实施例的基板、制作该基板的方法以及包括该基板在内的显示器件。根据第一方面，本公开的实施例提供了一种基板，包括：支撑衬底；以及光散射层，其在所述支撑衬底的投影位于所述支撑衬底的透光形成区，且具有被配置为使得入射光发生散射的光散射结构。可选地，所述光散射结构包括漫反射面，所述漫反射面位于所述光散射层远离所述支撑衬底的表面。可选地，所述漫反射面包括凹凸结构。可选地，所述凹凸结构至少在局部是不规则的。可选地，所述凹凸结构的峰-峰间距约为0.5微米，以及所述凹凸结构的峰-谷高度差约为100纳米。可选地，所述封装基板是彩膜基板，所述支撑衬底为透明支撑衬底，以及所述光散射层包括彩膜层。可选地，所述彩膜层的光散射结构包括漫反射面，所述漫反射面位于所述彩膜层远离所述透明支撑衬底的表面。可选地，所述漫反射面包括凹凸结构。可选地，所述凹凸结构是通过离子束或电子束轰击来形成的。可选地，所述凹凸结构是通过清洗液清洗所述光散射层中包含的可溶解物质来形成的，所述清洗液至少可部分溶解所述光散射层远离所述支撑衬底的表面。可选地，所述光散射层中掺杂有散射入射光的纳米颗粒。可选地，所述纳米颗粒是聚甲基丙烯酸甲酯PMMA颗粒。可选地，所述基板为封装基板，所述支撑衬底的透光形成区对应于所述封装基板对盒的阵列基板表面的像素发光区域。在另一方面，本公开的实施例提供了一种制作基板的方法，包括：在支撑衬底上形成光散射层，光散射层在所述支撑衬底的投影位于所述支撑衬底的透光形成区；以及使用离子束或电子束轰击所述光散射层的远离所述支撑衬底的表面，或通过清洗液清洗所述光散射层远离所述支撑衬底的表面包含的可溶解物质，以形成包括漫反射面的光散射结构。在还一方面，本公开的实施例提供了一种显示器件，包括上述的基板。附图说明通过下面结合附图说明本公开的优选实施例，将使本公开的上述及其它目的、特征和优点更加清楚，其中：图1是示意性示出了根据相关技术的用于OLED显示器件的剖面图。图2是示意性示出了根据本公开实施例的OLED显示器件的剖面图。图3是示意性示出了根据本公开另一实施例的OLED显示器件的剖面图。图4是示意性示出了根据本公开又一实施例的OLED显示器件的剖面图。图5是示出了根据本公开实施例的用于制造彩膜基板的示例方法的流程图。图6是示出了根据本公开实施例的用于制造基板的示例方法的流程图。具体实施方式下面参照附图对本公开的部分实施例进行详细说明，在描述过程中省略了对于本公开来说是不必要的细节和功能，以防止对本公开的理解造成混淆。在本说明书中，下述用于描述本公开原理的各种实施例只是说明，不应该以任何方式解释为限制公开的范围。参照附图的下述描述用于帮助全面理解由权利要求及其等同物限定的本公开的示例性实施例。下述描述包括多种具体细节来帮助理解，但这些细节应认为仅仅是示例性的。因此，本领域普通技术人员应认识到，在不脱离本公开的范围和精神的情况下，可以对本文中描述的实施例进行多种改变和修改。此外，为了清楚和简洁起见，省略了公知功能和结构的描述。此外，贯穿附图，相同的附图标记用于相同或相似的功能、器件和/或操作。此外，在附图中，各部分并不一定按比例来绘制。换言之，附图中的各部分的相对大小、长度等并不一定与实际比例相对应。在本公开中，术语“包括”和“含有”及其派生词意为包括而非限制；术语“或”是包含性的，意为和/或。此外，在本公开的以下描述中，所使用的方位术语，例如“上”、“下”、“左”、“右”等均用于指示相对位置关系，以辅助本领域技术人员理解本公开实施例，且因此本领域技术人员应当理解：在一个方向上的“上”/“下”，在相反方向上可变为“下”/“上”，且在另一方向上，可能变为其他位置关系，例如“左”/“右”等。以下，以本公开应用于OLED器件为例来详细说明。然而本领域技术人员应当理解本公开的应用领域不限于此。事实上，根据本公开实施例的基板及其制造方法等可以应用于其它需要打破光的全反射链的领域。接下来，将首先大体说明在本文中将用到的部分术语。全反射/全内反射：其是在传播波以大于特定临界角度的角度(相对于反射面的法线的角度)击中传播媒介边界时发生的现象。如果该边界的另一侧的折射率低，且入射角度大于临界角度，则波不能通过该边界且被完全反射。这对于光波是特别常见的现象，但是也出现在例如电磁波或声波中。全反射链：在例如上下表面大体平行的传播媒介中，当例如光线在该传播媒介中以大于临界角度的入射角从下方击中传播媒介的上表面时(或从上方击中传播媒介的下表面时)，由于前述全反射现象的存在，导致光线被全反射至下表面(或上表面)。此时，由于上下表面大体平行，因此在另一表面上的入射角大体等于在前一表面上的入射角，从而同样形成全反射。以此类推，导致光线将在该传播媒介的上下表面之间连续全反射，并使得光线无法从传播媒介中逃离。例如，光线在光纤中的传播就采用的是全反射链的原理。漫反射：其与镜面反射相反，指的是一束平行光在入射到传播媒介之间的边界时由于界面的不规则性而导致其出射光是朝向各个方向散射的。电子束加工：其是一种涉及使用高能β射线来处理对象的工艺。典型的电子束加工设备通常可包括：电子枪(包含阴极、栅格和阳极)，其用于生成并加速主电子束；磁光(聚焦和偏转)系统，用于控制电子束撞击待处理材料(以下有时简称为“工件”)的方式。在操作中，电子枪阴极是热发射电子的源，该热发射电子被由栅格和阳极所形成的静电场加速和成形为准直电子束。然后该准直电子束从电子枪射出通过电磁透镜和偏转线圈系统(即，磁光系统)击中工件，并取决于电磁透镜是进行聚焦还是散焦、偏转线圈对电子束的偏转，在工件上形成所需的加工效果。离子束加工：其与电子束加工类似，只是采用的是带有正电荷的离子。然而与电子束加工不同的是，由于离子束加工相当于对工件表面进行离子注入，因此在选择离子时，需要选择恰当离子以避免对工件的化学、物理学性质等产生不需要的影响。以下，将结合图1来详细描述根据相关技术的在OLED显示器件内部出现的全反射链现象。图1是示意性示出了根据相关技术的用于OLED显示器件10的剖面图。在图1所示OLED显示器件10中，其采用了白光发光层加上彩色滤光膜的构造。如图1所示，OLED显示器件10是通过将彩膜基板110和阵列基板120对盒之后形成的。应当注意到的是：在图1所示的OLED显示器件10中，并未示出黑矩阵、薄膜晶体管(TFT)等部分，也并未示出各种走线等，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板，其特征在于，包括：支撑衬底；以及光散射层，所述光散射层在所述支撑衬底的投影位于所述支撑衬底的透光形成区，且具有被配置为使得入射光发生散射的光散射结构。

【技术特征摘要】
1.一种基板，其特征在于，包括：支撑衬底；以及光散射层，所述光散射层在所述支撑衬底的投影位于所述支撑衬底的透光形成区，且具有被配置为使得入射光发生散射的光散射结构。2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述光散射结构包括漫反射面，所述漫反射面位于所述光散射层远离所述支撑衬底的表面。3.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，所述漫反射面包括凹凸结构。4.根据权利要求3所述的基板，其特征在于，所述凹凸结构至少在局部是不规则的。5.根据权利要求3所述的基板，其特征在于，所述凹凸结构的峰-峰间距约为0.5微米，以及所述凹凸结构的峰-谷高度差约为100纳米。6.根据权利要求1所述的基板，其中，所述封装基板是彩膜基板，所述支撑衬底为透明支撑衬底，以及所述光散射层包括彩膜层。7.根据权利要求6所述的基板，其特征在于，所述彩膜层的光散射结构包括漫反射面，所述漫反射面位于所述彩膜层远离所述透明支撑衬底的表面。8.根据权利要求7所述的基板，其特征在于，所述漫反射面包括凹凸结构。9.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：邹祥祥，秦纬，彭宽军，李小龙，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11