具有自适应性的抛光头和具有其的化学机械抛光装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种具有自适应性的抛光头和具有其的化学机械抛光装置，所述抛光头包括：枢轴组件，所述枢轴组件包括轴体和转盘，所述转盘与所述轴体相连且与所述轴体同轴设置，所述转盘的外周壁设有缘板；夹片组件，所述夹片组件上设有适于与所述转盘配合的凹槽，所述转盘配合在所述凹槽内且所述缘板的外周面与所述凹槽的内周壁接触。根据本发明专利技术实施例的具有自适应性的抛光头，在抛光头旋转时，防止枢轴组件发生径向方向的移动，有效降低枢轴组件上的周向摆动，以保证抛光头的定心功能，提高抛光头稳定性和自适应性，提高基片的平行度，进而改善基片的抛光特性。

Polishing head with adaptive property and chemical mechanical polishing device with the same

The invention discloses a polishing head with adaptability and chemical mechanical polishing apparatus having the same, wherein the polishing head includes a pivot assembly, the pivot assembly includes a shaft body and a turntable, the turntable and the shaft body is connected and arranged coaxial with the shaft, the turntable peripheral wall is provided with a flange plate; the clip component, the clip component is provided with a groove for matching with the turntable, the turntable fits into the groove and the flange plate with the outer peripheral surface of the groove contact with the inner peripheral wall. According to an embodiment of the present invention has adaptive polishing head, rotating in the polishing head, to prevent the occurrence of the moving pivot assembly in radial direction, effectively reduce the pivot assembly on the circumferential swing, in order to ensure the centering function of polishing head and polishing head to improve the stability and adaptability, improve the parallelism of the substrate, thereby improving polishing the characteristics of the substrate.

【技术实现步骤摘要】
具有自适应性的抛光头和具有其的化学机械抛光装置
本专利技术涉及化学机械抛光
，尤其涉及具有自适应性的抛光头和具有其的化学机械抛光装置。
技术介绍
抛光头(Carrierhead)是化学机械抛光单元的重要组成部分，相关技术的抛光头相当于一个万向节，枢轴组件只能吸收夹片组件与基座之间的上下方向振动，在旋转驱动机构的带动下，枢轴组件相对于基座做高速旋转运动，使得枢轴组件在会出现一定偏转，会产生周向的摆动，存在定心功能不足、自适应性差的问题。
技术实现思路
本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术提出一种具有自适应性的抛光头，能够有效降低枢轴组件的摆动，使得稳定性和自适应性提高本专利技术还提出了一种具有所述抛光头的化学机械抛光装置。根据本专利技术第一方面实施例的具有自适应性的抛光头，包括：枢轴组件，所述枢轴组件包括轴体和转盘，所述转盘与所述轴体相连且与所述轴体同轴设置，所述转盘的外周壁设有缘板；夹片组件，所述夹片组件上设有适于与所述转盘配合的凹槽，所述转盘配合在所述凹槽内且所述缘板的外周面与所述凹槽的内周壁接触。由此，根据本专利技术实施例的具有自适应性的抛光头，缘板的外周面与凹槽的内周壁接触，这样，在抛光头旋转时，防止枢轴组件发生径向方向的移动，有效降低枢轴组件上的周向摆动，以保证抛光头的定心功能，提高抛光头稳定性和自适应性，提高基片的平行度，进而改善基片的抛光特性。另外，根据本专利技术实施例的具有自适应性的抛光头还可以具有如下附加的技术特征：根据本专利技术的一些实施例，所述缘板的外周面与所述凹槽的内周壁线接触。可选地，所述缘板的外周面在所述转盘过所述中心轴线的横截面上的正投影为外轮廓线a,所述外轮廓线线a为弧形。可选地，所述缘板的外周面在所述转盘过所述中心轴线的横截面上的正投影为外轮廓线a,所述外轮廓线线a包括至少一条弧形段和至少一条直线段。可选地，所述缘板的外周面在所述转盘过所述中心轴线的横截面上的正投影为外轮廓线a,所述外轮廓线线a包括多条直线。根据本专利技术的一些实施例，所述缘板的上方和所述缘板的下方分别设有吸振环。可选地，所述缘板与所述吸振环配合的一侧上设有通孔。根据本专利技术的一些实施例，所述转盘与所述轴体之间限定出内腔，所述内腔内设有若干肋板，所述肋板分别与所述轴体的外周壁和所述内腔的内周壁相连。可选地，所述肋板沿所述内腔的径向延伸，且若干肋板沿所述内腔的周向间隔开设置。根据本专利技术的一些实施例，所述具有自适应性的抛光头还包括：基体，所述基体具有轴孔，所述枢轴组件设在所述基体和所述夹片组件之间且所述轴体配合在所述轴孔内。可选地，所述基体与所述夹片组件之间设有弹性件，所述弹性件、所述基体和所述夹片组件之间限定出密封腔。可选地，所述基体设有通气孔，所述通气孔连通气源和所述密封腔。可选地，所述具有自适应性的抛光头还包括：缓冲件，所述缓冲件设在所述夹片组件上且位于所述基体和所述夹片组件之间。可选地，所述缓冲件为缓冲柱，所述缓冲柱为多个。可选地，多个所述缓冲柱沿所述夹片组件的周向间隔开设置。根据本专利技术的一些实施例，所述具有自适应性的抛光头还包括：盖体，所述盖体固定在所述夹片组件上且与所述夹片组件之间设有盖体密封圈。根据本专利技术的一些实施例，所述具有自适应性的抛光头还包括保持环，所述保持环安装在所述夹片组件的下端，基片位于所述夹片组件的下方且位于所述保持环内。根据本专利技术第二方面实施例的化学机械抛光装置具有上述实施例的具有自适应性抛光头。根据本专利技术第二方面实施例的化学机械抛光装置包括：抛光盘，所述抛光盘上设有抛光垫；抛光头，所述抛光头为根据权利要求1-17中任一项所述的具有自适应性的抛光头，所述抛光头设在所述抛光盘的上方，基片安装在所述抛光头和所述抛光垫之间。由于根据本专利技术上述实施例的具有自适应性的抛光头具有上述技术效果，因此，本专利技术实施例的化学机械抛光装置也具有上述技术效果，即根据本专利技术实施例的化学机械抛光装置，通过设置上述实施例的具有自适应性的抛光头，夹片组件上的基片与抛光垫能够保持一定的平行度，从而可保证化学机械抛光装置良好的抛光特性。本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。附图说明图1是根据本专利技术实施例的具有适应性抛光头的枢轴组件的结构示意图；图2是根据本专利技术一个实施例的具有适应性抛光头的枢轴组件的剖视意图；图3是图2中A的放大图；图4是根据本专利技术另一个实施例的具有适应性抛光头的枢轴组件的缘板部分的结构示意图；图5是根据本专利技术另一个实施例的具有适应性抛光头的枢轴组件的缘板部分的结构示意图；图6是根据本专利技术实施例的具有自适应抛光头的转盘的通孔处的放大图；图7是根据本专利技术实施例的具有适应性抛光头的结构示意图；图8是图7中B部的放大图；图9是根据本专利技术实施例的化学机械抛光装置的结构示意图。附图标记：1000：化学机械抛光装置；100：具有自适应性的抛光头；10：枢轴组件；11：轴体；12：转盘；13：内腔；14：肋板；15：缘板；16：通孔；20：夹片组件，21：凹槽；30：基体，31：轴孔，32：通气孔；40：弹性件,41：密封腔，42：压板，43：压盖；50：缓冲件，51：螺纹紧固件；60：盖体，61：盖体密封圈，62：安装腔；70：保持环，71：上吸振环，72：下吸振环；80：压环；200：抛光盘；210：抛光垫；300：基片。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接或彼此可通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。下面参考附图描述根据本专利技术实施例的具有自适应性的抛光头100。如图1-图8所示，根据本专利技术实施例的具有自适应性的抛光头100可以包括枢轴组件10和夹片组件20。具体地，枢轴组件10包括轴体11和转盘12，转盘12与轴体11相连且与轴体11同轴设置，转盘12的外周壁设有缘板本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有自适应性的抛光头，其特征在于，包括：枢轴组件，所述枢轴组件包括轴体和转盘，所述转盘与所述轴体相连且与所述轴体同轴设置，所述转盘的外周壁设有缘板；夹片组件，所述夹片组件上设有适于与所述转盘配合的凹槽，所述转盘配合在所述凹槽内且所述缘板的外周面与所述凹槽的内周壁接触。

【技术特征摘要】
1.一种具有自适应性的抛光头，其特征在于，包括：枢轴组件，所述枢轴组件包括轴体和转盘，所述转盘与所述轴体相连且与所述轴体同轴设置，所述转盘的外周壁设有缘板；夹片组件，所述夹片组件上设有适于与所述转盘配合的凹槽，所述转盘配合在所述凹槽内且所述缘板的外周面与所述凹槽的内周壁接触。2.根据权利要求1所述的具有自适应性的抛光头，其特征在于，所述缘板的外周面与所述凹槽的内周壁线接触。3.根据权利要求2所述的具有自适应性的抛光头，其特征在于，所述缘板的外周面在所述转盘过所述中心轴线的横截面上的正投影为外轮廓线a,所述外轮廓线线a为弧形。4.根据权利要求2所述的具有自适应性的抛光头，其特征在于，所述缘板的外周面在所述转盘过所述中心轴线的横截面上的正投影为外轮廓线a,所述外轮廓线线a包括至少一条弧形段和至少一条直线段。5.根据权利要求2所述的具有自适应性的抛光头，其特征在于，所述缘板的外周面在所述转盘过所述中心轴线的横截面上的正投影为外轮廓线a,所述外轮廓线线a包括多条直线。6.根据权利要求1所述的具有自适应性的抛光头，其特征在于，所述缘板的上方和所述缘板的下方分别设有吸振环。7.根据权利要求6所述的具有自适应性的抛光头，其特征在于，所述缘板与所述吸振环配合的一侧上设有通孔。8.根据权利要求1所述的具有自适应性的抛光头，其特征在于，所述转盘与所述轴体之间限定出内腔，所述内腔内设有若干肋板，所述肋板分别与所述轴体的外周壁和所述内腔的内周壁相连。9.根据权利要求8所述的具有自适应性的抛光头，其特征在于，所述肋板沿所述内腔的径向延伸...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵德文，路新春，陈祥玉，
申请(专利权)人：清华大学，天津华海清科机电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11