The invention discloses a method for on-line detection of end point control system and method of chemical mechanical polishing process, the system includes a data acquisition module, data acquisition module is connected with the motor drives the polishing disk, used in the process of chemical mechanical polishing apparatus for polishing wafer, obtaining the motor power signal of motor drive; end point judgment module. To determine whether changes in motor power signal to meet the end point polishing process conditions, and changes in motor power signal to meet the conditions of the polishing process end point when it is judged that the control of chemical mechanical polishing equipment to stop polishing wafer. The embodiment of the control system for a chemical mechanical polishing process to determine the motor power signal based on the end point and end point method, accurately determine the process of chemical mechanical polishing, the wafer polishing process control, avoid polishing or under polishing conditions, to ensure the quality of the polishing process.
【技术实现步骤摘要】
用于化学机械抛光工艺的在线终点检测控制系统及方法
本专利技术涉及化学机械抛光
,尤其涉及一种用于化学机械抛光工艺的在线终点检测控制系统及方法。
技术介绍
化学机械抛光技术(ChemicalMechanicalPolishing,简称CMP)是目前集成电路制造中最有效的晶圆全局平坦化方法,它利用化学与机械的协同作用,实现晶圆表层的超精密抛光。在CMP工艺过程中,如果没有有效的终点检测技术,过抛(晶圆表层材料去除过多)或欠抛(材料去除不足)等情况会很容易发生,进而严重影响质量和生产效率。因此,如何在线判断CMP工艺是否到达期望终点是CMP工艺亟需解决的难点,对于有效解决过抛或者欠抛问题具有重要的意义。
技术实现思路
本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此,本专利技术的一个目的在于提出一种用于化学机械抛光工艺的在线终点检测控制系统,该系统可准确判断化学机械抛光工艺的终点,有效控制抛光工艺过程,避免过抛或者欠抛等情况的发生,保证了抛光工艺效果。本专利技术的第二个目的在于提出一种用于化学机械抛光工艺的在线终点检测控制方法。为了实现上述目的,本专利技术第一方面提出的用于化学机械抛光工艺的在线终点检测控制系统,包括:数据获取模块,所述数据获取模块与抛光盘的电机驱动器相连,用于在化学机械抛光设备抛光晶圆的过程中,获取所述电机驱动器中的电机功率信号;终点判断模块,用于判断所述电机功率信号的变化是否满足抛光工艺终点的条件,并在判断出所述电机功率信号的变化满足抛光工艺终点的条件时,控制所述化学机械抛光设备停止抛光所述晶圆。本专利技术实施例的用于化学机 ...
【技术保护点】
一种用于化学机械抛光工艺的在线终点检测控制系统,其特征在于,所述系统包括:数据获取模块,所述数据获取模块与抛光盘的电机驱动器相连,用于在化学机械抛光设备抛光晶圆的过程中,获取所述电机驱动器中的电机功率信号;终点判断模块,用于判断所述电机功率信号的变化是否满足抛光工艺终点的条件,并在判断出所述电机功率信号的变化满足抛光工艺终点的条件时,控制所述化学机械抛光设备停止抛光所述晶圆。
【技术特征摘要】
1.一种用于化学机械抛光工艺的在线终点检测控制系统,其特征在于,所述系统包括:数据获取模块,所述数据获取模块与抛光盘的电机驱动器相连,用于在化学机械抛光设备抛光晶圆的过程中,获取所述电机驱动器中的电机功率信号;终点判断模块,用于判断所述电机功率信号的变化是否满足抛光工艺终点的条件,并在判断出所述电机功率信号的变化满足抛光工艺终点的条件时,控制所述化学机械抛光设备停止抛光所述晶圆。2.如权利要求1所述的系统,其特征在于,所述终点判断模块,包括:曲线生成子模块,用于生成与所述电机功率信号对应的功率曲线;运动窗口子模块,用于获取预先设置的运动窗口,其中,所述运动窗口包含两项基本参数,分别为窗口宽度和窗口高度,所述窗口宽度和窗口高度是根据所述化学机械抛光设备所抛光的晶圆及工艺条件预先确定的;状态处理子模块,用于根据所述功率曲线和所述运动窗口的相对位置关系确定所述功率曲线的状态,并判断所述功率曲线的状态变化与预定的所述晶圆的功率曲线的状态变化是否匹配,如果判断出所述功率曲线的状态变化与预定的所述晶圆的功率曲线的状态变化匹配,则向所述化学机械抛光设备发送停止抛光工艺的指令,以使所述化学机械抛光设备停止抛光所述晶圆。3.如权利要求2所述的系统,其特征在于,所述数据获取模块,包括:数据处理子模块,用于对所述电机功率信号进行降噪处理。4.如权利要求3所述的系统,其特征在于,所述数据处理子模块,具体用于:根据预设宽度的平滑窗口对所述电机功率信号进行平滑处理;所述曲线生成子模块,还用于生成平滑处理后的电机功率信号的功率曲线。5.如权利要求2所述的系统,其特征在于,所述数据处理子模块,还用于:缓存所述电机功率信号,并在缓存区域中的电机功率信号超过预设容量阈值时,将所述缓存区域中头部的电机功率信号删除,并将需要保存的新电机功率信号保存至所述缓存区域的尾部。...
【专利技术属性】
技术研发人员:李弘恺,路新春,雒建斌,沈攀,
申请(专利权)人:清华大学,天津华海清科机电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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