多柱装置和多柱式带电粒子束曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供多柱装置和多柱式带电粒子束曝光装置，其中，每个柱的带电粒子束的特性的差异较小。在具有多个产生带电粒子束的柱部(122)的多柱式带电粒子束曝光装置中，柱部(122)具有：磁轭(53)，其由磁性体构成，绕柱的光轴产生规定的强度分布的磁场；和线圈部(52)，其卷绕于该磁轭(53)。该线圈部(52)由分割出的多个绕组(52a、52b)构成，且分别被不同的电源(A1～A3)驱动。

Multi column device and multi column charged particle beam exposure device

The invention provides a multi column device and a multi column charged particle beam exposure device, wherein the characteristics of the charged particle beam of each column are less different. There is a plurality of generated column charged particle beam (122) multi column charged particle beam exposure apparatus, column (122) has a yoke (53), which is composed of magnetic body, cylinders axis to produce a specific intensity distribution of the magnetic field; and a coil portion (52), the winding the magnetic yoke (53). The coil part (52) is composed of a plurality of windings (52A, 52b) separated and driven by different power supplies (A1 to A3) respectively.

【技术实现步骤摘要】
多柱装置和多柱式带电粒子束曝光装置
本专利技术涉及具有多个产生带电粒子束的柱(column)部的多柱式带电粒子束曝光装置。
技术介绍
一直以来，已知利用电子束等带电粒子束来加工微细的图案的带电粒子束曝光技术(例如，参照专利文献1)。作为这样的带电粒子束曝光技术的一种，还知道这样的多柱式带电粒子束曝光装置：其具有多个产生带电粒子束的柱(例如，参照专利文献2)。根据多柱式带电粒子束曝光装置，能够利用多个柱同时并行地进行图案的描画，因此曝光处理的速度大幅提高。专利文献1：日本特开2013-16744号公报专利文献2：日本特开2015-133400号公报在具有多个柱的多柱式带电粒子束曝光装置中，由于分别驱动各个柱，因此可能导致每个柱的带电粒子束的特性出现差异。
技术实现思路
因此，本专利技术的课题在于提供一种使每个柱的带电粒子束的特性的差异较小的多柱式带电粒子束曝光装置。根据下述公开的一个观点，提供一种多柱装置，其具有多个产生带电粒子束的柱部，其中，所述多柱装置具备：电磁元件，其设置于各个所述柱部；线圈部，其具有分割出的多个绕组，所述绕组对所述电磁元件进行励磁；以及配线，其将不同的电流源电路分别与属于一个所述线圈部的分割出的绕组连接。另外，根据另一个观点，提供一种多柱式带电粒子束曝光装置，其具有多个产生带电粒子束的柱部，其中，所述多柱式带电粒子束曝光装置具备：电磁元件，其设置于各个所述柱部；线圈部，其具有分割出的多个绕组，所述绕组对所述电磁元件进行励磁；配线，其将不同的电流源电路分别与属于一个所述线圈部的分割出的绕组连接；工作台部，其载置试样；柱控制部，其控制所述多柱装置的动作；以及工作台控制部，其控制所述工作台部的动作。根据上述观点的多柱式带电粒子束曝光装置，减小了各个电源的输出特性的偏差的影响，因此每个柱的带电粒子束的特性的差异变小。附图说明图1示出了本实施方式的曝光装置100的结构例。图2示出了本实施方式的曝光装置100使电子束扫描而在试样10的表面的一部分上形成的可照射区域200的一例。图3是示出本实施方式的柱部122的一部分的剖视图，并且是示出对柱部122进行控制的柱控制部140的一部分的图。图4是示出本实施方式的多柱装置120所具备的电磁透镜50的结构例的剖视图。图5示出了在由3个柱部122构成的柱组中的线圈部52的绕组的结构和绕组彼此的连接的例子。图6是关于构成本实施方式的多柱装置120的88个柱部122示出柱组124的第1结构例的图。图7示出了在由5个柱部122构成的柱组124中的线圈部的绕组的结构和绕组彼此的连接的例子。图8是关于构成本实施方式的多柱装置120的88个柱部122示出柱组124的第2结构例的图。图9示出了在由6个柱部122构成的柱组124中的线圈部的绕组的结构和绕组彼此的连接的例子。图10是关于构成本实施方式的多柱装置120的88个柱部122示出柱组124的第3结构例的图。图11是示出多柱装置120所具备的电磁透镜50的以往例的剖视图。图12的(a)是示出电磁校正器40的结构例的图，图12的(b)是示出被线圈部42激励的电磁校正器40的磁场的方向的俯视图。图13是示出由3个柱部122构成的柱组中的电磁校正器40的线圈部42的连接的图。标号说明10：试样；20：电子源；22：真空容器；24：真空间隔壁；26：外壁部；30：电磁偏转器；40：电磁校正器；42：线圈部；42a、42b、42c、42d：分割出的绕组；43：磁性体环；43a、43b、43c、43d：伸出部；50：电磁透镜；52：线圈部；52a、52b、52c、52d、52e：分割出的绕组；52aa、52ab：绕组的部分；52z：不对透镜进行励磁的绕组；53：磁性体部；54：间隙部；55：线缆；56：连接部；100：曝光装置；110：工作台部；120：多柱装置；122：柱部；124：柱组；130：CPU；132：总线；134：存储电路；140：柱控制部；142：驱动部；144：偏转器控制部；146：校正器控制部；148：透镜控制部；150：工作台控制部；200：可照射区域；210：照射位置；220：区域；232：第1框；234：第2框；236：第3框。具体实施方式以下，通过专利技术的实施方式对本专利技术进行说明，但以下的实施方式并不限定权利要求的范围。另外，在实施方式中说明的特征的所有组合不一定是专利技术的解决手段所必须的。图1示出了本实施方式的曝光装置100的结构例。曝光装置100将带电粒子束照射到试样上，进行各种图案的曝光。并不特别限定，例如，对于基于预先设定的格栅所形成的试样上的线图案，可以照射具有与该格栅对应的照射位置和照射范围的带电粒子束，来形成断路图案或通路图案。这样的曝光装置100具备：一个工作台部110；具有多个柱部122的多柱装置120；一个CPU130；分别单独地控制多个柱部122的多个柱控制部140；以及一个工作台控制部150。工作台部110载置试样10，在图1所示的XY平面内使试样10移动。在此，作为一例，试样10是在由硅等形成的半导体晶片的表面上以金属等导电体形成有线图案的基板。本实施方式的曝光装置100例如为了将该线图案切断来实施微细的加工(电极、配线和/或通孔等的形成)而使涂敷在线图案上的抗蚀剂曝光。具有多个柱部122的多柱装置120产生具有电子或离子等的带电粒子束，并照射载置在工作台部110上的试样10。在本实施方式中，对多柱装置120产生电子束EB的例子进行说明。作为一例，多柱装置120所具有的柱部122的数量为88。88个柱部122在XY平面内以大致30mm的间距配置。载置于工作台部110上的直径为大致300mm的半导体晶片、即试样10的整个表面在工作台部110的可动范围内被从至少一个柱部122产生的电子束EB照射。柱部122分别生成由在预先设定的一维方向上排列的多个电子束EB构成的阵列束。阵列束整体的束宽度fw例如为60um。阵列束所包含的电子束EB的数量例如为4098。曝光装置100一边使工作台部110移动，一边对该阵列束所包含的多个电子束EB分别单独地切换为是(ON状态)否(OFF状态)照射至试样10，从而在试样10上使图案曝光。CPU130控制曝光装置100的整体的动作。CPU130可以是具有能够输入来自用户的操作指示的输入终端功能的、计算机或工作站等。CPU130通过总线132与控制多柱装置120的多个柱控制部140和控制工作台部110的工作台控制部150连接。多个柱控制部140分别对应于从CPU130接收的控制信号等，单独地控制对应的柱部122。另外，柱控制部140通过总线132与外部存储部134连接，交换存储在外部存储部134中的曝光图案的数据等。工作台控制部150控制工作台部110，使试样10在形成于试样10的表面上的线图案的长度方向上移动。图2示出了本实施方式的曝光装置100使电子束EB扫描而在试样10的表面的一部分上形成的可照射区域200的一例。示出了工作台控制部150使工作台部110朝作为线图案的长度方向的-X方向移动的例子。一个柱部122所产生的阵列束的照射位置210在试样10的表面上朝+X方向移动。由此，阵列束使带状的区域220成为电子束EB的可照射区域。工作台控制部15本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多柱装置，所述多柱装置具有多个产生带电粒子束的柱部，其特征在于，所述多柱装置具备：电磁元件，其设置于各个所述柱部；线圈部，其具有分割出的多个绕组，所述绕组对所述电磁元件进行励磁；以及配线，其将不同的电流源电路分别与属于一个所述线圈部的分割出的绕组连接。

【技术特征摘要】
2016.05.09 JP 2016-0938011.一种多柱装置，所述多柱装置具有多个产生带电粒子束的柱部，其特征在于，所述多柱装置具备：电磁元件，其设置于各个所述柱部；线圈部，其具有分割出的多个绕组，所述绕组对所述电磁元件进行励磁；以及配线，其将不同的电流源电路分别与属于一个所述线圈部的分割出的绕组连接。2.根据权利要求1所述的多柱装置，其特征在于，所述配线包含连接部，所述连接部将所述线圈部的分割出的绕组与属于相邻的其它柱部的线圈部的分割出的绕组连接。3.根据权利要求1或权利要求2所述的多柱装置，其特征在于，在属于不同的柱部的所述绕组之间共用电流源电路。4.根据权利要求1至权利要求3中的任意一项所述的多柱装置，其特征在于，所述线圈部的绕组包含有不对所述电磁元件进行励磁的绕组。5.根据权利要求1至权利要求4中的任意一项所述的多柱装置，其特征在于，在线圈部的绕组夹着所述连接部被连接的2个柱部中，在属于一个柱部的线圈部的绕组的一部分中通过的电流流经属于另一个柱部的线圈部的绕组的一部分。6.根据权利要求2所述的多柱装置，其特征在于，利用3个以上且10个以下的柱部构成柱组，并且，通过所述连接部将属于构成所述柱组的各个柱部的线圈部所具有的所述绕组依次连接，形成连续的电流路径，在所述连续的电流路径的一端设置有输入端子，在所述连续的电流路径的另一端设置有输出端子。7.根据权利要求6所述的多柱装置，其特征在于，构成所述柱组的柱部的数量与形成于所述柱组的所述连续的电流路径的数量相等。8.根据权利要求6所述的多柱装置，其特征在于，属于构成所述柱组的各个柱部的线圈部的所述绕组的数量比构...

【专利技术属性】
技术研发人员：黑川正树，佐藤高雅，小岛信一，山田章夫，
申请(专利权)人：株式会社爱德万测试，
类型：发明
国别省市：日本,JP