狭缝喷嘴的喷嘴间隙测量装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术的目的在于公开一种如下的狭缝喷嘴的喷嘴间隙测量装置，在排出口的端部凝结有药液的情况下，也能够确认喷嘴间隙的变化量并调节喷嘴间隙。为此，本实用新型专利技术的狭缝喷嘴的喷嘴间隙测量装置为形成有用于在被处理基板的表面涂覆药液的排出口的狭缝喷嘴的喷嘴间隙测量装置，其中包括：喷嘴间隙调节单元，用于调节所述排出口的喷嘴间隙(gap)；喷嘴间隙测量单元，用于测量被所述喷嘴间隙调节单元调节的所述喷嘴间隙的变化量。

Nozzle clearance measuring device of slit nozzle

The utility model is characterized in that the nozzle clearance measuring device discloses a slit nozzle following the end of the outlet with the condensed liquid case, also can confirm the change amount of nozzle clearance and adjust the nozzle clearance. To this end, the nozzle clearance measurement device of slit nozzle of the utility model is formed with a nozzle gap measuring device, a slit nozzle at the exit surface of the liquid substrate is processed including: nozzle gap adjusting unit for adjusting the clearance of the nozzle outlet (GAP); nozzle clearance measuring unit. To change the nozzle clearance measurement by the nozzle clearance adjusting unit adjusts the amount of.

【技术实现步骤摘要】
狭缝喷嘴的喷嘴间隙测量装置
本技术涉及一种狭缝喷嘴的喷嘴间隙测量装置，尤其涉及一种通过测量在用于将药液涂覆到基板表面的狭缝喷嘴的排出口上形成的喷嘴间隙，从而能够体现均匀的喷嘴间隙的狭缝喷嘴的喷嘴间隙测量装置。
技术介绍
在LCD等平板显示面板的制造工艺中包含着多次的如下工序：薄膜沉积工序；使所述薄膜中的被选择的区域暴露的光刻工序；以及去除所述被选择的区域的薄膜的蚀刻工序。尤其，所述光刻工序由在基板或晶圆上形成感光性物质的光刻胶膜的涂覆工序以及利用形成有预定图案的掩膜而将其图案化的曝光和显像工序组成。在平板基板上以预定的厚度均匀地涂覆作为感光性物质的药液的涂覆装置有辊涂装置、旋涂装置以及狭缝涂覆装置。辊涂装置是一种将光刻胶堆载于圆形辊的外部后，使所述辊在基板上向预定方向滚动而涂覆光刻胶的装置。旋涂装置是一种将基板放置于圆盘的支撑体上，然后在基板的中央滴落光刻胶后，使其旋转并借助于圆心力而将光刻胶涂覆在基板的装置。狭缝涂覆装置是一种通过狭缝形态的喷嘴而将光刻胶排出到基板上，并向预定方向扫描(scan)而涂覆的装置。现有技术中使用了利用旋转的旋涂方式，但是随着显示基板尺寸的大型化，而使用着利用狭缝喷嘴(slitnozzle)的狭缝涂覆装置。狭缝涂覆装置是一种使具有相当于基板的宽度的长度的狭缝喷嘴沿着基板而移送，并通过形成于喷嘴端部的排出口而喷射药液，从而进行涂覆的装置。参照图1至图3，狭缝涂覆装置100在基板G固定于基板卡盘102的状态下，利用移送单元120而将长度相当于基板G的宽度的狭缝喷嘴110沿着基板G移送，从而涂覆药液。将相当于大约一次的用于涂覆工序的量的药液借助于药液供应部112而供应至狭缝喷嘴110，然后通过狭缝喷嘴110而将药液喷射到基板G。当涂覆装置100在基板G上涂覆药液时，基板G被移送至干燥工序而被干燥。基板卡盘102上的基板G和狭缝喷嘴110的排出口114之间为了进行涂覆而相隔预定的涂覆间隙(CoatingGap)，并在涂覆工艺中被维持。所述狭缝喷嘴110由以彼此相向的方式配备的第一块部111和第二块部112构成。在所述第一块部111和第二块部112之间形成有用于供应药液的流路，通过所述流路而被供应的药液通过形成于狭缝喷嘴110的下端的排出口114而被排出到基板G上。涂覆到所述基板G上的药液可能根据形成于所述排出口114的喷嘴间隙(gap)而产生偏差。即，如图3所示，狭缝喷嘴110沿着基板的宽度方向而具有预定的长度，且跨过整个基板的宽度方向而形成的喷嘴间隙需要在整个长度方向维持预定宽度，这样才能够实现药液的均匀的涂覆。但是随着基板G的大型化，狭缝喷嘴110的长度变长，随着狭缝喷嘴110的长度110变长，沿着狭缝喷嘴110的长度方向而产生狭缝间隙的偏差，如果产生狭缝喷嘴的偏差，则产生药液无法均匀地涂覆的问题。为了解决上述的狭缝间隙的偏差问题，目前使用着利用调节螺栓140而调节喷嘴间隙的方法。在所述第一块部111的下部配备有一体地连接到第一块111的第三块113。所述第三块113和第二块112之间的间距形成所述喷嘴间隙。在所述第一块部111和第三块部113之间沿着所述第一块部111、第三块部113的长度方向而形成有调节间隙115。在调节螺栓140的下端部形成有螺纹，所述下端部贯通第一块部111的贯通孔116而螺纹结合到第三块部113的紧固槽117。如图3所示，所述贯通孔116沿着第一块部111的长度方向而形成有多个，所述调节螺栓140的数量对应于所述贯通孔116的个数，并插入结合到所述贯通孔116。在利用上述涂覆装置而在基板G涂覆药液之前，预先利用光学显微镜而测量喷嘴间隙，并确认喷嘴间隙是否均匀地形成。并且，在利用所述涂覆装置而实际上涂覆药液之后，可以利用光谱仪而确认涂覆的均匀性。当确认结果为存在狭缝间隙的不均匀的部分时，可以使调节螺栓140旋转而调节第三块部113的位置，从而调节喷嘴间隙。但是，这种方式的喷嘴间隙调节方法需要过多的时间。并且，如果在排出口114完成药液的排出，则药液凝结在排出口114的端部，因此无法测量喷嘴间隙。作为用于调节喷嘴间隙的现有技术，公开的有韩国授权专利第10-1282606号的“狭缝涂覆器喷嘴”以及韩国授权专利第10-934834号的“涂覆液涂覆装置以及利用此的液晶显示装置的制造方法”。在上述现有技术中存在对于调节喷嘴间隙的装置的记载，但是存在着没有能够确认调节后的喷嘴间隙的手段的问题。
技术实现思路
本技术为了解决上述诸多问题而提出，其目的在于提供如下的狭缝喷嘴的喷嘴间隙测量装置，在排出口的端部凝结有药液的情况下，也能够确认喷嘴间隙的变化量，并调节喷嘴间隙。本技术的另一目的在于提供如下的狭缝喷嘴的喷嘴间隙测量装置，在调节狭缝喷嘴的间隙的情况下，可以通过测量喷嘴间隙的变化量而使药液均匀地涂覆在基板。本技术的又一目的在于提供如下的狭缝喷嘴的喷嘴间隙测量装置，能够使用户在通过数值确认喷嘴间隙的变化量的同时，调节喷嘴间隙，从而能够减少喷嘴间隙的调节所需时间。用于实现上述目的的本技术的狭缝喷嘴的喷嘴间隙测量装置是一种形成有用于在被处理基板的表面涂覆药液的排出口的狭缝喷嘴的喷嘴间隙测量装置，其包括：喷嘴间隙调节单元，用于调节所述排出口的喷嘴间隙；喷嘴间隙测量单元，用于测量被所述喷嘴间隙调节单元调节的所述喷嘴间隙的变化量。所述狭缝喷嘴可以通过形成于彼此相向的第一块部和第二块部之间的流路而供应所述药液，所述排出口的喷嘴间隙由以彼此相向的方式设置的第二块部和第三块部之间的缝隙构成，所述喷嘴间隙调节单元用于调节所述第三块部的位移。所述第一块部和第三块部的局部可以彼此连接而一体地构成，在第一块部和第三块部之间形成有相隔预定距离的调节间隙，所述喷嘴间隙调节单元由贯通所述第一块部而螺纹结合到所述第三块部的调节螺丝构成，在使所述调节螺丝旋转时，所述第三块部弹性变形而使所述调节间隙得到调节。所述喷嘴间隙测量单元可以由用于测量所述第三块部的位移的位移传感器构成。被感测物可以一体地结合到所述第三块部，所述位移传感器由通过与所述被感测物的接触而产生电信号的接触式位移传感器构成，用于分析从所述接触式位移传感器接收的信号的分析部基于所述第三块部的位移来判断所述喷嘴间隙的变化量。被感测物可以一体地结合到所述第三块部，所述位移传感器由感测所述被感测物的位移的非接触式位移传感器构成，用于分析从所述非接触式位移传感器接收的信号的分析部基于所述第三块部的位移来判断所述喷嘴间隙的变化量。所述非接触式位移传感器可以是如下的激光位移传感器，包括：发光部，向所述被感测物发射光；受光部，接收来自于所述被感测物的反射光。所述被感测物可以由导体构成，所述非接触式位移传感器为如下的涡电流位移传感器，利用在感测线圈中流动的电流而产生磁场，并借助于在所述被感测物中产生的涡电流而感测与所述被感测物之间的距离变化。所述被感测物可以结合到所述第三块部的倾斜面，所述倾斜面以与所述调节螺丝的长度方向相同的倾斜方向构成。所述位移传感器可以结合到所述第一块部。所述喷嘴间隙调节单元可以沿着所述狭缝喷嘴的长度方向而配备有多个，所述喷嘴间隙测量单元与所述喷嘴间隙调节单元的数量对应地配备有多个。还可以包括：显示部，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种狭缝喷嘴的喷嘴间隙测量装置，形成有用于在被处理基板的表面涂覆药液的排出口，其特征在于，包括：喷嘴间隙调节单元，用于调节所述排出口的喷嘴间隙；喷嘴间隙测量单元，用于测量被所述喷嘴间隙调节单元调节的所述喷嘴间隙的变化量。

【技术特征摘要】
2016.09.06 KR 10-2016-01141761.一种狭缝喷嘴的喷嘴间隙测量装置，形成有用于在被处理基板的表面涂覆药液的排出口，其特征在于，包括：喷嘴间隙调节单元，用于调节所述排出口的喷嘴间隙；喷嘴间隙测量单元，用于测量被所述喷嘴间隙调节单元调节的所述喷嘴间隙的变化量。2.如权利要求1所述的狭缝喷嘴的喷嘴间隙测量装置，其特征在于，所述狭缝喷嘴通过形成于彼此相向的第一块部和第二块部之间的流路而供应所述药液，所述排出口的喷嘴间隙由以彼此相向的方式设置的第二块部和第三块部之间的缝隙构成，所述喷嘴间隙调节单元用于调节所述第三块部的位移。3.如权利要求2所述的狭缝喷嘴的喷嘴间隙测量装置，其特征在于，所述第一块部和第三块部的局部彼此连接而一体地形成，在第一块部和第三块部之间形成有相隔预定距离的调节间隙，所述喷嘴间隙调节单元由贯通所述第一块部而螺纹结合到所述第三块部的调节螺丝构成，在使所述调节螺丝旋转时，所述第三块部弹性变形而使所述调节间隙得到调节。4.如权利要求3所述的狭缝喷嘴的喷嘴间隙测量装置，其特征在于，所述喷嘴间隙测量单元由用于测量所述第三块部的位移的位移传感器构成。5.如权利要求4所述的狭缝喷嘴的喷嘴间隙测量装置，其特征在于，被感测物一体地结合到所述第三块部，所述位移传感器由通过与所述被感测物的接触而产生电信号的接触式位移传感器构成，用于分析从所述接触式位移传感器接收的信号的分析部基于所述第三块部的位移来判断所述喷嘴间隙的...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵康一，
申请(专利权)人：KC科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：韩国,KR