体声波谐振器及其制造方法技术

提供一种体声波谐振器及其制造方法，所述体声波谐振器可包括：空气腔；蚀刻停止层和蚀刻停止部，限定空气腔的下边界表面和侧边界表面；谐振部，形成在通过空气腔的上边界表面和蚀刻停止部的顶表面形成的近似平坦的表面上。蚀刻停止部的顶表面的宽度可比蚀刻停止部的底表面的宽度大。将蚀刻停止部的顶表面和蚀刻停止部的底表面连接的蚀刻停止部的侧表面可以是倾斜的。

【技术实现步骤摘要】
体声波谐振器及其制造方法本申请要求于2016年4月27日在韩国知识产权局提交的第10-2016-0051650号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的全部公开内容出于所有目的通过引用包含于此。
下面的描述涉及一种体声波谐振器及用于制造该体声波谐振器的方法。
技术介绍
近来，根据移动通信装置、化学装置和生物装置的快速发展，对紧凑的并且重量轻的滤波器、振荡器、谐振元件和声学谐振质量传感器的需求也已经增加。体声波谐振器已经发展为用于实现紧凑的并且重量轻的滤波器、振荡器、谐振元件和声学谐振质量传感器的工具。体声波谐振器具有如下优势：它们可以以最低的成本大量生产并且可超小型化。此外，体声波谐振器可具有如下优势：它们可实现作为滤波器的主要性能的高质量的Q因数，并且即使在微频带中也可使用，并且可具体地实现达到在个人通信系统(PCS)和数字无线系统(DCS)中使用的频带的高质量的Q因数。体声波谐振器可具有谐振部通过顺序地堆叠在基板上的下电极、压电层和上电极而形成的结构。当通过向下电极和上电极施加电能而在压电层中感应出电场时，所述电场在压电层中引起压电现象，从而使得谐振部在预定的方向上振动。作为结果，在与谐振部的振动方向相同的方向上产生声波，从而引起谐振。
技术实现思路
提供本
技术实现思路
用于以简化形式介绍在下面的具体实施方式中进一步描述的构思的选择。本
技术实现思路
并不意在确定所要求保护的主题的关键特征或必要技术特征，也不意在用于帮助确定所要求保护的主题的范围。在一个总的方面，一种体声波谐振器包括：空气腔；蚀刻停止层和蚀刻停止部，限定空气腔的下边界表面和侧边界表面；谐振部，形成在通过空气腔的上边界表面和蚀刻停止部的顶表面形成的近似于平坦的表面上。蚀刻停止部的顶表面的宽度比蚀刻停止部的底表面的宽度大。将蚀刻停止部的顶表面和蚀刻停止部的底表面连接的蚀刻停止部的侧表面是倾斜的。蚀刻停止部的底表面的宽度可以为2μm至30μm。通过蚀刻停止部的底表面和蚀刻停止部的侧表面形成的角度可以为110°至160°。所述体声波谐振器还可包括设置在蚀刻停止部的外侧的牺牲层图案。所述体声波谐振器还可包括形成在蚀刻停止部的侧表面和底表面上以及空气腔的上边界表面上的膜。所述膜的厚度可小于空气腔的厚度。所述体声波谐振器还可包括形成在蚀刻停止部的顶表面上以及空气腔的上边界表面上的膜。蚀刻停止层和蚀刻停止部可由相同的材料形成。谐振部可包括顺序地形成的第一电极、压电层和第二电极。压电层可包含稀土金属。所述稀土金属可包含钪(Sc)、铒(Er)、钇(Y)和镧(La)中的任意一种或者任意两种或更多种的任意组合。压电层可包含1at％至20at％的量的稀土金属。在另一总的方面，一种制造体声波谐振器的方法包括：在基板上顺序地形成蚀刻停止层和牺牲层；在牺牲层中形成图案，使得蚀刻停止层的一部分通过图案暴露；在蚀刻停止层的通过图案暴露的部分和牺牲层上形成蚀刻停止材料，以填充图案；使蚀刻停止材料平坦化；在牺牲层和蚀刻停止材料的在平坦化之后残留在图案上的部分上形成谐振部；通过去除牺牲层的设置在蚀刻停止材料的所述残留在图案上的部分的内侧上的部分来形成空气腔。图案的顶表面的宽度可比图案的底表面的宽度大。将图案的顶表面与图案的底表面连接的图案的侧表面可以是倾斜的。图案的底表面的宽度可以为2μm至30μm。通过图案的底表面和图案的侧表面形成的角度可以为110°至160°。蚀刻停止材料的填充在图案中的部分的厚度可比牺牲层的厚度大。所述方法还可包括：在形成蚀刻停止材料之前，在牺牲层以及蚀刻停止层的通过图案向外暴露的部分上形成膜。所述方法还可包括：在牺牲层以及蚀刻停止材料的在所述平坦化之后残留在图案上的部分上形成膜。从下面的具体实施方式、附图说明和权利要求，其他特征和方面将是明显的。附图说明图1是示出体声波谐振器的示例的截面图。图2A和图2B是图1的体声波谐振器的局部放大图。图3是示出根据实施例的体声波谐振器的截面图。图4A至图4E是示出根据实施例的制造图3的体声波谐振器的方法的流程图。图5是示出图4C的A部分的局部放大示图。图6是示出根据另一实施例的体声波谐振器的示图。图7A至图7F是示出根据实施例的制造图6的体声波谐振器的方法的流程图。图8是示出根据另一实施例的体声波谐振器的示图。图9A至图9F是示出根据实施例的制造图8的体声波谐振器的方法流程图。图10和图11是根据实施例的滤波器的示意性电路图。在此描述的特征可以以不同的形式实施，并且不应该被解释为限于在此描述的示例。更确切地说，仅已提供在此描述的示例，以示出在理解本申请的公开内容之后将显而易见的实现在此描述的方法、设备和/或系统的许多可行的方式中的一些。具体实施方式提供以下具体实施方式以帮助读者获得对这里所描述的方法、设备和/或系统的全面理解。然而，在理解本申请的公开内容之后，这里所描述的方法、设备和/或系统的各种变换、修改及等同物将是显而易见的。例如，这里所描述的操作顺序仅仅是示例，并不限于这里所阐述的顺序，而是除了必须以特定顺序发生的操作之外，可作出在理解本申请的公开内容之后将是显而易见的改变。此外，为了提高清楚性和简洁性，可省略本领域中公知的特征的描述。在此描述的特征可按照不同的形式实施，并且将不被解释为局限于在此描述的示例。更确切地说，已经提供了在此描述的示例，仅用于说明在理解本申请的公开内容之后将是显而易见的实现在此描述的方法、设备和/或系统的诸多可能方式中的一些。在整个说明书中，当诸如层、区域或基板的元件被描述为“位于”另一元件“上”、“连接到”另一元件或“结合到”另一元件时，所述元件可以直接“位于”另一元件“上”、直接“连接到”另一元件或直接“结合到”另一元件，或者可存在介于他们之间的一个或更多个其他元件。相比之下，当元件被描述为“直接位于”另一元件“上”、“直接连接到”另一元件或“直接结合到”另一元件时，可不存在介于他们之间的其他元件。如在此使用的，术语“和/或”包括任何两个或更多个相关联的所列项目中的任何一个以及任何组合。虽然可在此使用诸如“第一”、“第二”和“第三”的术语来描述各种构件、组件、区域、层或部分，但是这些构件、组件、区域、层或部分不受这些术语所限制。更确切地说，这些术语仅用于将一个构件、组件、区域、层或部分与另一构件、组件、区域、层或部分区分开。因此，在不脱离示例的教导的情况下，在此描述的示例中所称的第一构件、组件、区域、层或部分也可称作第二构件、组件、区域、层或部分。为了描述的方便，可在此使用与空间相关的术语(诸如，“在……之上”、“上方”、“在……之下”以及“下方”等)，以描述如图中示出的一个元件与另一个元件的关系。除了附图中描绘的方位之外，这样的与空间相关的术语意在包括装置在使用或操作时的不同方位。例如，如果图中的装置被翻转，则描述为相对于另一元件位于“之上”或“上方”的元件之后将相对于另一元件位于“之下”或“下方”。因此，基于装置的特定方位，术语“在……之上”包含“在……之上”和“在……之下”的两种方位。装置也可以以其他方式定位(例如，旋转90度或处于其他方位)，并可对在此使用的与空间相关的术语进行相应地解释。在此使用的术语仅用于描述各个示例，而不用于限制本公开。除非上下文中另外清楚地指本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种体声波谐振器，包括：空气腔；蚀刻停止层和蚀刻停止部，限定空气腔的下边界表面和侧边界表面；谐振部，形成在通过空气腔的上边界表面和蚀刻停止部的顶表面形成的近似平坦的表面上，其中，蚀刻停止部的顶表面的宽度比蚀刻停止部的底表面的宽度大，其中，将蚀刻停止部的顶表面和蚀刻停止部的底表面连接的蚀刻停止部的侧表面是倾斜的。

【技术特征摘要】
2016.04.27 KR 10-2016-00516501.一种体声波谐振器，包括：空气腔；蚀刻停止层和蚀刻停止部，限定空气腔的下边界表面和侧边界表面；谐振部，形成在通过空气腔的上边界表面和蚀刻停止部的顶表面形成的近似平坦的表面上，其中，蚀刻停止部的顶表面的宽度比蚀刻停止部的底表面的宽度大，其中，将蚀刻停止部的顶表面和蚀刻停止部的底表面连接的蚀刻停止部的侧表面是倾斜的。2.如权利要求1所述的体声波谐振器，其中，蚀刻停止部的底表面的宽度为2μm至30μm。3.如权利要求1所述的体声波谐振器，其中，通过蚀刻停止部的底表面和蚀刻停止部的侧表面形成的角度为110°至160°。4.如权利要求1所述的体声波谐振器，所述体声波谐振器还包括设置在蚀刻停止部的外侧的牺牲层图案。5.如权利要求1所述的体声波谐振器，所述体声波谐振器还包括形成在蚀刻停止部的侧表面和底表面上以及空气腔的上边界表面上的膜。6.如权利要求5所述的体声波谐振器，其中，所述膜的厚度小于空气腔的厚度。7.如权利要求1所述的体声波谐振器，所述体声波谐振器还包括形成在蚀刻停止部的顶表面上以及空气腔的上边界表面上的膜。8.如权利要求1所述的体声波谐振器，其中，蚀刻停止层和蚀刻停止部由相同的材料形成。9.如权利要求1所述的体声波谐振器，其中，谐振部包括顺序地形成的第一电极、压电层和第二电极；压电层包含稀土金属。10.如...

【专利技术属性】
技术研发人员：金泰润，李泰京，李文喆，赵成珉，尹湘基，
申请(专利权)人：三星电机株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国,KR