根据本发明专利技术，可以提供一种光学材料用组合物，其包含由下述式(1)表示的环硫化合物和由下述式(2)表示的环硫化合物。通过该光学材料用组合物，能够抑制由脱模不良导致的良品率降低，而且能够得到染色性优异的光学材料。(式(1)中，m、p表示0～4的整数，n、q表示0～2的整数。)(式(2)中，m表示0～4的整数，n表示0～2的整数。)
Novel cyclic sulfur compounds and compositions for optical materials containing them
According to the present invention, a composition for optical materials can be provided, comprising a cyclic sulfur compound represented by the following formula (1) and a cyclic sulfur compound represented by the following formula (2). Through the composition of the optical material, the good yield reduction caused by the bad demoulding can be suppressed, and the optical material with excellent dyeing property can be obtained. In formula (1), m and P represent integers of 0~4, N and Q represent integers of 0~2. In (2), m stands for integers of 0~4, and N represents integers of 0~2. )
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】新型的环硫化合物及包含其的光学材料用组合物
本专利技术涉及新型的环硫化合物及包含其的光学材料用组合物，特别是涉及用于塑料透镜、棱镜、光纤、信息存储基板、过滤器等的光学材料，其中适合用于塑料透镜的新型的环硫化合物及包含其的光学材料用组合物。
技术介绍
塑料透镜轻量且富有韧性，还容易染色。对于塑料透镜特别要求的性能是低比重、高透明性及低黄色度、作为光学性能的高折射率、高阿贝数、高耐热性、高强度等。高折射率能够实现透镜的薄壁化，高阿贝数能够降低透镜的色像差。近些年，报告了很多出于高折射率及高阿贝数的目的而使用了具有硫原子的有机化合物的例子。其中，已知具有硫原子的多环硫化合物的折射率与阿贝数的平衡良好(专利文献1)。另外，多环硫化合物可与各种化合物发生反应，因此为了提高物性而提出了与各种化合物的组合物(专利文献2～5)。然而，由环硫化合物制造的透镜在对于塑料透镜中利用通常使用的方法有时难以染色，有时未充分达到重视外观性的眼镜透镜的要求特性。另外，高度数透镜的情况，还有时由于脱模性差而存在脱模时透镜缺损、或由于脱模性过好而在聚合中从模具剥落而无法得到所需的轮廓微观不平度。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平09-110979号公报专利文献2：日本特开平10-298287号公报专利文献3：日本特开2001-002783号公报专利文献4：日本特开2001-131257号公报专利文献5：日本特开2002-122701号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术的课题是提供可抑制由于脱模不良导致的良品率降低的光学材料用组合物、以及染色性优异的光学材料。用于解决问题的方案本专利技术人等鉴于这样的状况而进行了广泛深入的研究，结果发现通过由下述式(1)表示的环硫化合物、以及包含由下述式(1)表示的环硫化合物及由下述式(2)表示的环硫化合物的光学材料用组合物解决了本课题，从而完成了本专利技术。即、本专利技术如下所述。<1>一种环硫化合物，其由下述式(1)表示，(式中，m、p表示0～4的整数，n、q表示0～2的整数。)。<2>一种光学材料用组合物，其包含：上述<1>所述的由式(1)表示的环硫化合物和由下述式(2)表示的环硫化合物，(式中，m表示0～4的整数，n表示0～2的整数。)。<3>根据上述<2>所述的光学材料用组合物，其中，所述由式(1)表示的环硫化合物的含量为0.001～5.0质量％。<4>根据上述<2>或<3>所述的光学材料用组合物，其中，所述由式(2)表示的环硫化合物的含量为40～99.999质量％。<5>根据上述<2>～<4>中任一项所述的光学材料用组合物，其进一步包含多硫醇。<6>根据上述<2>～<5>中任一项所述的光学材料用组合物，其进一步包含硫。<7>根据上述<5>或<6>所述的光学材料用组合物，其进一步包含多异氰酸酯。<8>一种聚合固化性组合物，其包含：上述<2>～<7>中任一项所述的光学材料用组合物和相对于该光学材料用组合物的总量为0.0001质量％～10质量％的聚合催化剂。<9>一种光学材料，其是对上述<2>～<7>中任一项所述的光学材料用组合物或上述<8>所述的聚合固化性组合物进行固化而得到的。<10>一种光学透镜，其包含上述<9>所述的光学材料。<11>一种光学材料的制造方法，其包括如下工序：相对于上述<2>至<7>中任一项所述的光学材料用组合物的总量，添加0.0001质量％～10质量％的聚合催化剂，进行聚合固化。<12>根据上述<11>所述的光学材料的制造方法，其中，预先使由式(2)表示的环硫化合物与硫发生一部分聚合反应后进行聚合固化。专利技术的效果根据本专利技术，能够得到在制造具有高折射率的光学材料时不易发生脱模不良、且染色性优异的光学材料的光学材料用组合物。具体实施方式以下对本专利技术进行详细说明。本专利技术是由前述式(1)表示的环硫化合物和光学材料用组合物，所述光学材料用组合物包含由前述式(1)表示的环硫化合物和聚合性化合物。作为聚合性化合物，可列举出：环硫化合物、乙烯基化合物、甲基丙烯酸化合物、丙烯酸类化合物、烯丙基化合物等，但优选为环硫化合物，更优选为由前述式(2)表示的环硫化合物。本专利技术的光学材料用组合物中的由前述式(1)表示的环硫化合物的比例优选为0.001～5.0质量％、更优选为0.005～3.0质量％、特别优选为0.01～1.0质量％。由式(1)表示的环硫化合物小于0.001质量％时，有时无法得到充分的效果；超过5.0质量％时，有时脱模性恶化。另外，本专利技术的光学材料用组合物中的聚合性化合物的比例优选为95.0～99.999质量％、更优选为97.0～99.995质量％、特别优选为99.0～99.99质量％。使用由前述式(2)表示的环硫化合物作为聚合性化合物时，光学材料用组合物中的由前述式(2)表示的环硫化合物的比例优选为40～99.999质量％、更优选为50～99.995质量％、特别优选为60～99.99质量％。以下，对由前述式(1)表示的环硫化合物及由前述式(2)表示的环硫化合物进行详细说明。本专利技术是由前述式(1)表示的环硫化合物，另外由式(1)表示的环硫化合物用于本专利技术的光学材料用组合物。式(1)中，优选为m及p表示0～2的整数，n及q表示0或1的整数，更优选为m及p为0且n及q为1、或n及q为0的化合物，最优选为n及q为0的化合物。由式(1)表示的环硫化合物可以单独使用，也可混合使用2种以上。以下，对本专利技术的由式(1)表示的环硫化合物的制造方法进行说明，但制造方法没有特别限定。作为本专利技术的由式(1)表示的环硫化合物的制造方法，首先利用硫化氢或多硫醇与表卤代醇化合物的反应而得到由下述式(3)表示的化合物。为了得到n及q为0的化合物、或m及p为0、n及q为1的化合物，接着使得到的由式(3)表示的化合物与硫脲、硫氰酸盐等硫杂化剂反应而得到由式(4)表示的化合物。为了制造n及q为0的化合物，利用由式(4)表示的化合物与表卤代醇化合物的反应而得到下述由式(5)表示的化合物，然后接着使得到的由式(5)表示的化合物与碱反应来进行脱卤化氢反应，从而得到下述由式(6)表示的化合物，然后进一步使得到的由式(6)表示的化合物与硫脲、硫氰酸盐等硫杂化剂反应而得到由式(1)表示的环硫化合物。为了制造m及p为0、n及q为1的化合物，使由式(4)表示的化合物与3-巯基-1,2-硫化丙烯反应而得到由式(1)表示的环硫化合物。作为其它制造方法，还有如下方法：使由式(3)表示的化合物与碱反应来进行脱卤化氢反应而得到由下述式(7)表示的化合物，然后通过与硫化氢的反应而得到由下述式(8)表示的化合物，然后进一步使得到的由式(8)表示的化合物与硫脲、硫氰酸盐等硫杂化剂反应而得到由式(1)表示的环硫化合物。(式中，X表示卤原子，m表示0～4的整数，n表示0～2的整数。)本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种环硫化合物，其由下述式(1)表示，
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.03.31 JP 2015-0726881.一种环硫化合物，其由下述式(1)表示，式(1)中，m、p表示0～4的整数，n、q表示0～2的整数。2.一种光学材料用组合物，其包含：由权利要求1所述的式(1)表示的环硫化合物和由下述式(2)表示的环硫化合物，式(2)中，m表示0～4的整数，n表示0～2的整数。3.根据权利要求2所述的光学材料用组合物，其中，所述由式(1)表示的环硫化合物的含量为0.001～5.0质量％。4.根据权利要求2或3所述的光学材料用组合物，其中，所述由式(2)表示的环硫化合物的含量为40～99.999质量％。5.根据权利要求2～4中任一项所述的光学材料用组合物，其进一步包含多硫醇。6.根据权利要求2～5中任一项所述的光学材料用...
【专利技术属性】
技术研发人员：西森庆彦，嘉村辉雄，堀越裕，
申请(专利权)人：三菱瓦斯化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP
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