A reversible camouflage structure consisting of a base (20) and two side ornamentation is described. In one embodiment, the first side (30) of the ornament includes a first pattern, while the second side (40) includes a second pattern distinct from the first pattern. Turn the first side and the second side to provide concealment in different environments.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】相关申请本申请要求了2011年8月10日提交的、系共同所有并且共同待审的美国临时专利申请第61/521,982号的权益。
技术介绍
用于将物体、人员和设备隐藏于自然地形中的伪装材料通常呈变化形状和尺寸的可披盖片材的形式。伪装材料可染色或印有图案,以模拟采用该伪装的地形的色调或纹路。可采用的典型颜色示例包括黑色、棕色和绿色的各种图案。一般已知伪装网,其中,将叶片状切口材料或者以某种方式被穿孔的材料附连到一般被称为基底的网结构。通常,这些伪装网以如下方式来构造,即,将相当百分比的叶片状切口材料(通常为30%或更大)附连到基底,并且在基底的整个长度和宽度上附连到其各部分。由于将相当百分比的材料附连到基底,所以在使用时对基底层和叶片状切口材料进行翻转较为困难或者是不可能的。已开发了现有技术的伪装网,这些伪装网在一侧提供印刷图案以提供遮蔽或掩饰,但在相对那侧没有附加的图案。此外,还有这样的现有技术的伪装网,这些伪装网在网的两侧提供不同的印刷图案。然而,这些现有构造在许多情况下是不期望的,这是因为它们不能翻转,它们不能容易地反过来,因为它们必须完全从它们所悬挂或张贴之处移除、完全脱下、并且随后迅速翻转过来以使伪装图案反向,并且因为它们因将相当百分比的叶片状切口材料直接附连到基底而容易被勾住,从而加大了被勾住的可能性等。因此,在本领域中需要一种可完全翻转、容易反过来、并且在使用时将被勾住减到最少 ...
【技术保护点】
一种伪装构造,包括:基底层;以及装饰物,所述装饰物包括第一侧和第二侧,其中,所述第一侧包括第一图案,而所述第二侧包括与所述第一图案显然不同的第二图案,其中,在如下构造中,将所述基底层附连到所述装饰物,所述构造适于允许所述基底层相对于所述装饰物翻转,以使所述第一图案和所述第二图案相对于所述基底层的位置交换。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.08.10 US 61/521,982;2012.07.12 US 13/547,7341.一种伪装构造,包括:
基底层;以及
装饰物,所述装饰物包括第一侧和第二侧,其中,所述第一侧包括第
一图案,而所述第二侧包括与所述第一图案显然不同的第二图案,其中,
在如下构造中,将所述基底层附连到所述装饰物,所述构造适于允许所述
基底层相对于所述装饰物翻转,以使所述第一图案和所述第二图案相对于
所述基底层的位置交换。
2.如权利要求1所述的伪装构造,其特征在于,所述基底层包括聚合
物。
3.如权利要求2所述的伪装构造,其特征在于,所述聚合物是聚酯经
编物或尼龙。
4.如权利要求1所述的伪装构造,其特征在于,所述装饰物包括聚合
物材料。
5.如权利要求4所述的伪装构造,其特征在于,所述聚合物材料包括
PTFE。
6.如权利要求4所述的伪装构造,其特征在于,所述聚合物材料是氟
化乙丙烯、过氟烷氧基共聚物树脂、聚丙烯或聚乙烯。
7.如权利要求4所述的伪装构造,其特征在于,所述聚合物材料是微
孔的。
8.如权利要求1所述的伪装构造,其特征在于,在所述基底层内限定
有周界区域。
9.如权利要求8所述的伪装构造,其特征在于,所述周界区域限定多
条周界边。
10.如权利要求9所述的伪装构造,其特征在于,所述周界边由周界附
连装置限定。
11.如权利要求9所述的伪装构造,其特征在于,所述基...
【专利技术属性】
技术研发人员:G·D·库勒,J·G·弗瑞斯,J·M·雷捷斯特,
申请(专利权)人:WL戈尔及同仁股份有限公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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