电感耦合等离子体处理装置及其控制方法制造方法及图纸

电感耦合等离子体处理装置具备：可变电容器控制装置，包括安装在源线圈上控制源线圈阻抗的可变电容器、使可变电容器自动旋转的电机及检测电机旋转的外部编码器；多个从控制器，对各个可变电容器控制装置分组并按组控制；主计算机，网络连接从控制器以控制从控制器，从控制器从主计算机接收分组后的可变电容器的动作最小值或设定最小值后储存，从主计算机接收起始序列动作命令后，驱动电机使可变电容器以动作最小值或设定最小值动作后达到动作设定值。本发明专利技术的电感耦合等离子体控制装置及其控制方法，通过电机精密控制连接在源线圈上调节阻抗的可变电容器的动作，有效控制多个源线圈阻抗，能够对多个可变电容器进行精密自动控制。

Inductively coupled plasma processing apparatus and control method thereof

Inductively coupled plasma processing device comprises: a variable capacitor control device, including variable capacitors, installation control coil impedance in the source coil of the variable capacitor automatic rotating motor and motor rotation detection external encoder; a plurality of slave controller for each variable capacitor group and control group according to the control device; the main computer and the network connection from the controller to control the action from the controller, the minimum value of the variable capacitor from the controller from the host computer receives the packet after or set the minimum value after storage, receiving the initiation sequence of action commands from the host computer, the drive motor variable capacitor to the minimum value or set the minimum action action action reached the set value. Inductively coupled plasma control device and control method of the invention, the connection of variable capacitors in the source impedance regulation on the coil through the motor precision control action, effective control of multiple source and coil impedance to precision automatic control of multiple variable capacitor.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电感耦合等离子体处理装置及其控制方法，更具体地说，能够自动进行阻抗控制的电感耦合等离子体处理装置及其控制方法。
技术介绍
电感耦合等离子体处理装置是在半导体和显示器制造工艺中用于进行蚀刻工艺或沉积工艺的装置。用于进行蚀刻工艺的电感耦合等离子体处理装置，与反应性离子蚀刻装置或电容耦合等离子体蚀刻装置相比，其蚀刻效果非常好。但是，电感耦合等离子体处理装置难以对大面积基板进行蚀刻。通常，天线设在电感耦合等离子体处理装置的真空腔室上部。为了能够有效地对大面积基板进行蚀刻，天线的配置和阻抗的控制是非常重要的技术要素。此外，无论多么有效地配置天线，由于复杂而长度较长的天线结构，不能有效地进行阻抗控制。进一步，为了对大面积基板进行蚀刻，需要按区域分别设置天线。此外，为了处理更大面积的基板，需要将这些螺旋天线配置在多个彼此不同区域而使用，但是这种天线的结构和用于处理大面积基板的阻抗控制上，存在更大的困难。在先技术文献专利文献韩国公开专利第10-2010-0053253号，“电感耦合等离子体天线”
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种电感耦合等离子体处理装置，其利用电机驱动可变电容器，从而能够同时精密地控制多个可变电容器的阻抗。本专利技术的电感耦合型等离子体处理装置，其包括：腔室；多个源线圈，其设置在所述腔室的上部的电介质窗的外侧；可变电容器控制装置，其包括r>安装在各个所述源线圈上用于控制各个所述源线圈的阻抗的可变电容器、使所述可变电容器自动旋转的电机以及用于检测所述电机的旋转的外部编码器；多个从控制器，其对设置在各个所述源线圈上的各个所述可变电容器控装置进行分组后，按组进行控制；主计算机，其通过网络与所述从控制器连接，以便控制所述多个从控制器，所述从控制器从所述主计算机接收被分组的所述可变电容器的动作最小值或设定最小值并储存，所述从控制器从所述主计算机接收起始序列动作命令时，驱动所述电机使相应的所述可变电容器以动作最小值或设定最小值进行动作后，达到动作设定值。所述设定最小值为，由用户设定的、所述可变电容器的最小电容量与最大电容量之间的值。在所述起始序列动作时，所述从控制器驱动所述电机，使所述可变电容器的电容量依次被设定为，大于所述设定最小值的恢复设定值、所述动作最小值、所述设定最小值、所述动作设定值。所述从控制器具备：中央处理器；存储器，其储存由所述从控制器控制的所述可变电容器的规格信息、即所述动作最小值、所述预设值、所述恢复设定值、所述动作设定值，以及由所述外部编码器传送的所述检测值的信息；运算器，其生成电机驱动值后传送到所述电机，并接收从所述外部编码器传送的检测值。通过比较所述电机驱动值和从外部编码器传送的检测值来判断电机的动作异常。所述电机的动作发生异常时，进行所述起始序列动作。本专利技术涉及一种电感耦合型等离子体处理装置的控制方法，所述电感耦合型等离子体处理装置具备：可变电容器控制装置，其包括安装在各个源线圈上用于控制所述源线圈的阻抗的可变电容器、使所述可变电容器自动旋转的电机以及检测所述电机的旋转的外部编码器；多个从控制器，其对设置在所述各个所述源线圈上的各个所述可变电容器控装置进行分组并按组进行控制；主计算机，其通过网络与所述从控制器连接，以便控制所述多个从控制器，所述方法的特征在于，各个所述从控制器从所述主计算机接收分组后的所述可变电容器的动作最小值或设定最小值后储存，所述从控制器从所述主计算机接收起始序列（Homesequence）动作命令时，驱动电机使相应的可变电容器以动作最小值或设定最小值进行动作后，达到动作设定值。所述设定最小值为由用户设定的所述可变电容器的最小电容量与最大电容量之间的值。在所述起始序列动作时，所述从控制器驱动所述电机使所述可变电容器的电容量依次被设定为，大于所述设定最小值的恢复设定值、所述动作最小值、所述设定最小值、所述动作设定值。所述从控制器具备：中央处理器；存储器，其储存所述从控制器控制的所述可变电容器的规格信息、即所述动作最小值、所述预设值、所述恢复设定值、所述动作设定值，以及由所述外部编码器传送的所述检测值；运算器，其生成所述电机驱动值后传送到所述电机，并接收从所述外部编码器传送的检测值。通过比较所述电机驱动值和从外部编码器传送的检测值来判断所述电机的动作异常。所述电机动作发生异常时，进行所述起始序列动作。本专利技术的电感耦合等离子体处理装置及其控制方法具有以下效果：能够利用电机精密地控制连接在各个源线圈用于调节阻抗的可变电容器的动作，以便能够有效地控制多个源线圈的阻抗，并且能够对多个可变电容器进行精密的自动控制。附图说明：图1是本专利技术实施例的电感耦合等离子体处理装置的图。图2是本专利技术实施例的电感耦合等离子体处理装置的源线圈的立体图。图3是本专利技术实施例的设置在电感耦合等离子体处理装置的一个区域上的可变电容器控制装置的设置状态示意图。图4是本专利技术实施例的电感耦合等离子体处理装置的可变电容器控制装置的图。图5是本专利技术实施例的用于控制电感耦合等离子体处理装置的可变电容器的网络构成图。图6是本专利技术实施例的用于控制电感耦合等离子体处理装置的从控制器的方框图。图7是本专利技术实施例的用于说明电感耦合等离子体处理装置的控制方法的图。附图标记：20、源线圈100、可变电容器控制装置110、电机120、外部编码器140、可变电容器200、设备网210、从控制器220、主计算机具体实施方式下面，参照附图说明本专利技术涉及的电感耦合等离子体处理装置的实施例。但是，本专利技术并不限定于下面公开的实施例，可以以各种形式实现，下面说明的实施例仅用于充分公开本专利技术，以便本领域的技术人员充分了解专利技术的保护范围。图1是示出本专利技术的实施例涉及的电感耦合等离子体处理装置的图。如图1所示，本专利技术涉及的电感耦合等离子体处理装置具备腔室10，该腔室10具备闸门14，并形成有使工艺空间内部被抽成真空所需的排气孔11。在腔室10内部具有用于放置基板（晶片或不同尺寸的透明基板）的工作台12。在工作台12的上部设置有用于卡紧基板的静电卡盘13。腔室10上部设置有电介质窗15，电介质窗15的上部设置有RF天线、即源线圈20。源线圈20设置在划分成单独空间的源线圈设置部16内。源线圈设置部16的上部设有电气组件部17，在该电气组件部17安装有R本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电感耦合型等离子体处理装置，其特征在于，具备：腔室；多个源线圈，其设置在所述腔室的上部的电介质窗外侧；可变电容器控制装置，其包括安装在各个所述源线圈上用于控制所述源线圈的阻抗的可变电容器、使所述可变电容器自动旋转的电机以及检测所述电机的旋转的外部编码器；多个从控制器，其对设置在各个所述源线圈上的各个所述可变电容器控装置进行分组后，按组进行控制；主计算机，其通过网络与所述从控制器连接，以便控制所述多个从控制器，所述从控制器从所述主计算机接收被分组的所述可变电容器的动作最小值或设定最小值并储存，所述从控制器从所述主计算机接收起始序列动作命令时，驱动所述电机使相应的所述可变电容器以动作最小值或设定最小值进行动作后，达到动作设定值。

【技术特征摘要】
2012.11.23 KR 10-2012-01337591.一种电感耦合型等离子体处理装置，其特征在于，具备：
腔室；
多个源线圈，其设置在所述腔室的上部的电介质窗外侧；
可变电容器控制装置，其包括安装在各个所述源线圈上用于控制所述源
线圈的阻抗的可变电容器、使所述可变电容器自动旋转的电机以及检测所述
电机的旋转的外部编码器；
多个从控制器，其对设置在各个所述源线圈上的各个所述可变电容器控
装置进行分组后，按组进行控制；
主计算机，其通过网络与所述从控制器连接，以便控制所述多个从控制
器，
所述从控制器从所述主计算机接收被分组的所述可变电容器的动作最小
值或设定最小值并储存，
所述从控制器从所述主计算机接收起始序列动作命令时，驱动所述电机
使相应的所述可变电容器以动作最小值或设定最小值进行动作后，达到动作
设定值。
2.根据权利要求1所述的电感耦合型等离子体处理装置，其特征在于，
所述设定最小值为，由用户设定的、所述可变电容器的最小电容量与最
大电容量之间的值。
3.根据权利要求1所述的电感耦合型等离子体处理装置，其特征在于，
在所述起始序列动作时，所述从控制器驱动所述电机以使所述可变电容
器的电容量依次被设定为，大于所述设定最小值的恢复设定值、所述动作最
小值、所述设定最小值、所述动作设定值。
4.根据权利要求1所述的电感耦合型等离子体处理装置，其特征在于，
所述从控制器具备：
中央处理器；
存储器，其储存由所述从控制器控制的所述可变电容器的规格信息、即
所述动作最小值、所述预设值、所述恢复设定值、所述动作设定值，以及由
所述外部编码器传送的所述检测值；
运算器，其生成所述电机驱动值并传送到所述电机，且接收从所述外部
编码器传送的检测值。
5.根据权利要求4所述的电感耦合型等离子体控制装置，其特征在于，
通过比较所述电机驱动值和从所述外部编码器传送的检测值来判断所述
电机的动作异常，而所述电机的动...

【专利技术属性】
技术研发人员：林正焕，
申请(专利权)人：丽佳达普株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR