【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有区分开的P型和N型架构并且包含点状扩散的太阳能电池发射极区的制造
本公开的实施例属于可再生能源领域,并且具体地讲,涉及制造具有区分开的P型和N型架构并且包含点状扩散的太阳能电池发射极区的方法,以及所得太阳能电池。
技术介绍
光伏电池(常被称为太阳能电池)是熟知的用于将太阳辐射直接转换为电能的装置。一般来讲,使用半导体加工技术在基板的表面附近形成p-n结,从而在半导体晶片或基板上制造太阳能电池。照射在基板表面上并进入基板内的太阳辐射在基板块体中形成电子和空穴对。电子和空穴对迁移至基板中的p掺杂区域和n掺杂区域,从而在掺杂区域之间产生电压差。将掺杂区连接至太阳能电池上的导电区,以将电流从电池引导至与其耦接的外部电路。效率是太阳能电池的重要特性,因其直接与太阳能电池发电能力有关。同样,制备太阳能电池的效率直接与此类太阳能电池的成本效益有关。因此,提高太阳能电池效率的技术或提高制造太阳能电池效率的技术是普遍所需的。本公开的一些实施例允许通过提供制造太阳能电池结构的新工艺而提高太阳能电池的制造效率。本公开的一些实施例允许通过提供新型太阳能电池结构来提高太阳能电池效率。附图说明图1至图6示出了根据本公开实施例的太阳能电池制造中的各个阶段的剖视图和平面图,其中:图1示出了太阳能电池制造中的一个阶段的剖视图,其涉及在形成于基板背表面上的第一薄介电层上形成第一导电类型的第一硅层;图2示出了图1的结构的剖视图和对应的平面图,其中所述结构经过图案化绝缘层和第一硅层,以形成其上具有绝缘顶盖的第一导电类型的第一硅区;图3示出了图2的结构的剖视图,其中所述结构经过沟槽表面纹理化, ...
【技术保护点】
一种太阳能电池,包括:基板,所述基板具有光接收表面和背表面;第一导电类型的第一多晶硅发射极区,所述第一导电类型的第一多晶硅发射极区设置在第一薄介电层上,所述第一薄介电层设置在所述基板的所述背表面上;以及第二不同导电类型的第二多晶硅发射极区,所述第二不同导电类型的第二多晶硅发射极区设置在第二薄介电层上,所述第二薄介电层设置在所述基板的所述背表面上的多个非连续沟槽中。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.09.19 US 14/491,0451.一种太阳能电池,包括:基板,所述基板具有光接收表面和背表面;第一导电类型的第一多晶硅发射极区,所述第一导电类型的第一多晶硅发射极区设置在第一薄介电层上,所述第一薄介电层设置在所述基板的所述背表面上;以及第二不同导电类型的第二多晶硅发射极区,所述第二不同导电类型的第二多晶硅发射极区设置在第二薄介电层上,所述第二薄介电层设置在所述基板的所述背表面上的多个非连续沟槽中。2.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中所述多个非连续沟槽中的每个沟槽具有约30微米至60微米范围内的宽度,并且其中所述多个非连续沟槽中的依次排列的沟槽以大约在50微米至300微米范围内的距离隔开。3.根据权利要求2所述的太阳能电池,其中所述多个非连续沟槽中的每个沟槽具有从所述背表面进入所述基板中的大约在0.5微米至10微米范围内的深度。4.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中所述非连续沟槽中的每一个具有近似圆形的形状。5.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中所述非连续沟槽中的每一个具有纹理化的表面。6.根据权利要求1所述的太阳能电池,还包括:第三薄介电层,所述第三薄介电层直接侧向设置在所述第一多晶硅发射极区和所述第二多晶硅发射极区之间。7.根据权利要求1所述的太阳能电池,还包括:电连接至所述第一多晶硅发射极区域的第一导电触点结构;以及电连接至所述第二多晶硅发射极区域的第二导电触点结构。8.根据权利要求1所述的太阳能电池,还包括:绝缘层,所述绝缘层设置在所述第一多晶硅发射极区上,其中所述第一导电触点结构被设置为穿过所述绝缘层,并且其中所述第二多晶硅发射极区的一部分与所述绝缘层重叠,但与所述第一导电触点结构分开。9.根据权利要求1所述的太阳能电池,还包括:绝缘层,所述绝缘层设置在所述第一多晶硅发射极区上;以及第二导电类型的多晶硅层,所述第二导电类型的多晶硅层设置在所述绝缘层上,其中所述第一导电触点结构被设置为穿过所述第二导电类型的所述多晶硅层以及穿过所述绝缘层。10.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中所述基板是N型单晶硅基板,所述第一导电类型为P型,所述第二导电类型为N型,并且其中所述太阳能电池是背接触太阳能电池。11.一种制造太阳能电池的方法,所述方法包括:在形成于基板的背表面上的第一薄介电层上形成第一导电类型的第一硅层,以提供所述太阳能电池的第一发射极区,所述基板具有光接收表面和所述背表面;在所述第...
【专利技术属性】
技术研发人员:斯塔凡·韦斯特贝格,加布里埃尔·哈利,
申请(专利权)人:太阳能公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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