The present invention provides a vapor deposition device, including the main chamber and at least one communicating through the chamber and the main valve side chamber; the auxiliary chamber including adsorption plate, adsorption tube and a fixing part, treat the deposition substrate evaporation, adsorption tube through a fixing piece and the adsorption plate will be Taiwan evaporation substrate adsorption to the adsorption on the board, the deposition substrate and mask alignment and by fixing parts to be plated substrate and mask plate. The invention of the steam plating device, by setting a main chamber and the auxiliary chamber is communicated, and in the secondary chamber arranged in the adsorption plate, adsorption tube and a fixing part, treat the deposition substrate evaporation, adsorption tube will be through a fixing piece and the adsorption platen evaporation substrate adsorption adsorption to Taiwan on the board, will be plating substrate and mask alignment and fixing parts through the deposition substrate and the mask, so as to improve the alignment accuracy for steam plating substrate and the mask, avoid color mixing phenomenon, improve the color quality.
【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀装置
本专利技术涉及半导体制程领域,尤其涉及一种蒸镀装置。
技术介绍
有源矩阵有机发光二极管(AMOLED)具有高对比、宽视角、响应速度快等,越来越受到人们的重视。而AMOLED全彩显示器较主流的制备方式是热蒸镀加精密掩膜板法,但该方法有较艰巨的一项挑战就是红、绿、蓝三色用精密掩膜板蒸镀时容易有混色现象。混色现象主要来源于蒸镀装置对位过程中引起的,在蒸镀装置对位过程中,传入的蒸镀基板只有周边30毫米左右的位置有治具承接,这样蒸镀基板由于重力原因会下垂,对位时精密掩膜板与蒸镀基板要不停的接触分离等动作来实现精密对位,在此接触分离对位过程中,容易对蒸镀基板产生缺陷、蒸镀基板自身重力作用对精密掩膜板产生变形而引起的对位偏差等最终结果是混色影响色质。现在主流做法是采用小基板来降低这样的问题。小基板因重量小而下垂量少来克服混色问题,但这样不利于大尺寸基板、高代数来降低成本的使用及良率的提高等。故,有必要提供一种蒸镀装置,以解决现有技术所存在的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种蒸镀装置,提高蒸镀基板与掩膜板的对位精度,以解决蒸镀基板与掩膜板在对位过程中由于对位偏差造成的混色,进而影响色质的技术问题。本专利技术提供一种蒸镀装置,包括主腔室以及至少一个通过阀门与所述主腔室相通的副腔室;其中,所述副腔室包括吸附台板、吸附管以及固定件,所述固定件设于所述吸附台板上方;对待蒸镀基板进行蒸镀时,所述吸附管通过所述固定件以及所述吸附台板将所述待蒸镀基板吸附至所述吸附台板上,将所述待蒸镀基板与掩膜板进行对位,并通过所述固定件固定所述待蒸镀基板与所述掩膜板。在本专利 ...
【技术保护点】
一种蒸镀装置,其特征在于,包括主腔室以及至少一个通过阀门与所述主腔室相通的副腔室;其中,所述副腔室包括吸附台板、吸附管以及固定件,所述固定件设于所述吸附台板上方;对待蒸镀基板进行蒸镀时,所述吸附管通过所述固定件以及所述吸附台板将所述待蒸镀基板吸附至所述吸附台板上,将所述待蒸镀基板与掩膜板进行对位,并通过所述固定件固定所述待蒸镀基板与所述掩膜板。
【技术特征摘要】
1.一种蒸镀装置,其特征在于,包括主腔室以及至少一个通过阀门与所述主腔室相通的副腔室;其中,所述副腔室包括吸附台板、吸附管以及固定件,所述固定件设于所述吸附台板上方;对待蒸镀基板进行蒸镀时,所述吸附管通过所述固定件以及所述吸附台板将所述待蒸镀基板吸附至所述吸附台板上,将所述待蒸镀基板与掩膜板进行对位,并通过所述固定件固定所述待蒸镀基板与所述掩膜板。2.根据权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述吸附台板上设有第一通孔,所述固定件上设有第二通孔,所述第一通孔与所述第二通孔一一对应,以使得所述吸附管通过所述第一通孔与所述第二通孔吸附所述待蒸镀基板。3.根据权利要求2所述的蒸镀装置,其特征在于,所述第一通孔与所述第二通孔均为多个,且均等间距设置...
【专利技术属性】
技术研发人员:夏存军,邹新,
申请(专利权)人:武汉华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北,42
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