The invention discloses a single precision grinding machine with vacuum adsorption type grinding plate under the grinding operation is suitable for thin air solar glass cover, including vacuum adsorption device, grinding disc device, supporting device and a belt wheel, the lower grinding disc device comprises a base plate and a mirror plate, the base plate is embedded in the Jingpan. Based on the surface of the mirror plate, plate surface flush, base on the distribution of more than five Shitong hole hole of the plurality of the cover glass is covered on the mirror plate is provided with a through hole communicated with the airway and base plate, the internal pore vacuum adsorption device and grinding device of gas flow the channel, when the vacuum pump through the gas flow path of adsorption based surface on the plate glass cover plate after grinding operation. The present invention before the operation without the need for glue paste fixed glass, high processing efficiency, after the operation is completed remove the cover glass short time, will not cause damage to the cover glass, after the processing of the glass film thickness uniformity, no indentation, good transparency, suitable for mass production.
【技术实现步骤摘要】
一种单面精密研磨机用真空吸附式下研磨盘
本专利技术涉及一种研磨机用下研磨盘,具体涉及一种单面精密真空吸附式研磨机用下研磨盘。
技术介绍
飞船和卫星等航天器在太空运行中,其能源主要来自于太阳能电池板,太阳能电池板的作用是将光能转化为电能,然而太空中所存在的宇宙射线、电磁波以及太空垃圾不可避免会对太阳能电池板造成危害,加速太阳能电池板损耗。超薄防辐射玻璃盖片是一种可以有效防护宇宙射线,保护太阳能电池板的特种玻璃,具有质量轻、防辐射、可弯曲等特点。在现有加工条件下,对玻璃盖片进行研磨的方式通常是将玻璃盖片用胶水黏贴于研磨盘上,再进行研磨作业。现有的加工方法存在的问题:研磨作业前需要耗费较长的时间将玻璃盖片黏贴在基盘上,生产效率低下;研磨作业结束之后,在取下玻璃的过程中需要去除胶水,会对玻璃盖片造成损坏,降低成品合格率;去除胶水不完全,会使玻璃盖片透光性变差;由于胶水是人工涂抹,所以在研磨作业结束后,容易出现玻璃盖片薄厚不均匀,达不到生产要求。经检索发现公布号为CN105058225A的中国专利申请提供了一种研磨垫固定装置和化学机械研磨装置,其研磨平台的上表面为真空吸附面,真空吸附研磨平台上基板将研磨垫固定在研磨平台上,研磨头利用研磨臂真空吸附工件背面,在研磨垫与研磨头相对运动下实现对工件的研磨。但此专利技术在研磨过程中,工件重力方向与吸附力方向相反,在工件与研磨垫摩擦力作用下,工件易与研磨头之间产生滑动,影响产品加工表面质量,此外受研磨头尺寸限制,单次加工产品数量少,生产效率低,因此无法适用于对玻璃盖片的成批量生产。
技术实现思路
针对上述存在问题,本专利技术旨在提 ...
【技术保护点】
一种单面精密研磨机用真空吸附式下研磨盘,其包括真空吸附装置、下研磨盘装置、支撑装置、带轮,其特征在于:所述支撑装置由轴承座(4)及在轴承座两端对称布置的端盖(6)和一对圆锥滚子轴承组成,轴承座(4)纵向固定安装在机架上,所述真空吸附装置由联轴套(3)、空心轴(5)、旋转接头(8)、双外丝接头Ⅰ(9)、钢管(10)、双外丝接头Ⅱ(11)和真空泵(12)组成,空心轴(5)安装在轴承座(4)上且上下两端伸出,联轴套(3)与空心轴伸出上端螺纹连接,所述下研磨盘装置包括基盘(1)和镜盘(2),基盘(1)嵌装于镜盘(2)内,基盘(1)上表面与镜盘(2)上表面齐平,基盘(1)上设有若干通孔,镜盘(2)上设有气道与基盘(1)上的通孔连通,镜盘(2)下端与联轴套(3)上端以锥面接触,空心轴(5)伸出下端依次同轴安装旋转接头(8)、双外丝接头Ⅰ(9)、钢管(10)和双外丝接头Ⅱ(11),双外丝接头Ⅱ(11)连接真空泵(12),真空泵(12)固定在地面上,带轮(7)安装在空心轴(5)伸出下端轴上,下研磨盘装置与真空吸附装置构成气体流动通路,研磨时可利用真空负压将覆盖在基盘(1)上的多块玻璃盖片吸附在基盘(1 ...
【技术特征摘要】
1.一种单面精密研磨机用真空吸附式下研磨盘,其包括真空吸附装置、下研磨盘装置、支撑装置、带轮,其特征在于:所述支撑装置由轴承座(4)及在轴承座两端对称布置的端盖(6)和一对圆锥滚子轴承组成,轴承座(4)纵向固定安装在机架上,所述真空吸附装置由联轴套(3)、空心轴(5)、旋转接头(8)、双外丝接头Ⅰ(9)、钢管(10)、双外丝接头Ⅱ(11)和真空泵(12)组成,空心轴(5)安装在轴承座(4)上且上下两端伸出,联轴套(3)与空心轴伸出上端螺纹连接,所述下研磨盘装置包括基盘(1)和镜盘(2),基盘(1)嵌装于镜盘(2)内,基盘(1)上表面与镜盘(2)上表面齐平,基盘(1)上设有若干通孔,镜盘(2)上设有气道与基盘(1)上的通孔连通,镜盘(2)下端与联轴套(3)上端以锥面接触,空心轴(5)伸出下端依次同轴安装旋转接头(8)、双外丝接头Ⅰ(9)、钢管(10)和双外丝接头Ⅱ(11),双外丝接头Ⅱ(11)连接真空泵(12),真空泵(12)固定在地面上,带轮(7)安装在空心轴(5)伸出下端轴上,下研磨盘装置与真空吸附装置构成气体流动通路,研磨时可利用真空负压将覆盖在基盘(1)...
【专利技术属性】
技术研发人员:金贺荣,李国辉,卢勇,吴优,
申请(专利权)人:燕山大学,
类型:发明
国别省市:河北,13
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