A food preparation device may include a radio frequency (RF) capacitive heating source; the liquid temperature control module; cooking controller operatively coupled to the RF capacitor heating source and liquid temperature control; basin, which is configured to contain liquid and accept food; and the hinge cover, attached to the basin. Can be configured with the choice of food preparation related procedures. The RF capacitor heating source may include a ground plate and an anode or a high voltage (HV) plate disposed on the opposing surface of the basin.
【技术实现步骤摘要】
多功能RF电容加热式食物制备装置
实例性实施例总的来说涉及食物制备装置,并且更具体地说,涉及多功能射频(RF)电容加热式食物制备装置。
技术介绍
常见的解冻应用依赖于热从表面向内部的热传导来提供解冻。由于新鲜度和产品质量的限制,解冻通常是通过浸渍在水浴中来进行,其中水浴自身仅略高于冰点,或通过浸渍在处于被设定为略高于冰点的冰箱中(例如,35℉到40℉)来进行。解冻时间通常极长,并且导致食品质量和完整性的显著降低。通过在整个体积上均匀地加热(“体积加热”)的电容加热技术,可更迅速地执行解冻。RF电容加热可用于在周围环境下解冻食物。然而,由于在表面层面而不是芯层暴露到环境温度,所以电容RF系统在周围环境中的使用导致食物的表面解冻的速率明显比食品的芯层处的解冻的速率更快。因此,可能需要取得改进的食物制备装置,所述食物制备装置能够从表面到芯层均匀地解冻食品(即,“体积加热”)。此外,当今的常规真空低温过程通常使用盛有液体的非热传导器皿或盆来进行。浸渍循环器通常附接到盆内的壁,所述盆悬浮在液面之下,所述浸渍循环器使液体循环并且调节液体温度以提供均匀加热的环境。通常,食物的真空密封袋浸渍在水中并进行烹饪持续延长的时间段。虽然此方法取得高水平的烹饪均匀性和食物质量,但在一些状况下,此方法可能花费96小时或更多时间才能完成。类似地,炖煮和压力烹饪提供高水平的烹饪均匀性和食物质量,但也可能花费延长的时间段来实现此食物质量。因此,可需要取得改进的食物制备装置,其中所述食物制备装置能够迅速地且均匀地烹饪食品,以使得食品达到突出的食物质量。
技术实现思路
一些实例性实施例可提供一种多 ...
【技术保护点】
一种食物制备装置,包括:射频(RF)电容加热源;液体温度控制组件;烹饪控制器,其操作性地耦接到所述RF电容加热源和所述液体温度控制组件以将功率选择性地分配到所述RF电容加热源和所述液体温度控制组件;盆,被配置成盛装液体并接纳食品;以及盖,铰接地附接到所述盆,所述盖被配置成具有与所选择的食物制备程序相关的功能,其中所述RF电容加热源包括设置在所述盆的相对表面上的接地板和高电压板。
【技术特征摘要】
2015.11.24 US 14/950,7831.一种食物制备装置,包括:射频(RF)电容加热源;液体温度控制组件;烹饪控制器,其操作性地耦接到所述RF电容加热源和所述液体温度控制组件以将功率选择性地分配到所述RF电容加热源和所述液体温度控制组件;盆,被配置成盛装液体并接纳食品;以及盖,铰接地附接到所述盆,所述盖被配置成具有与所选择的食物制备程序相关的功能,其中所述RF电容加热源包括设置在所述盆的相对表面上的接地板和高电压板。2.根据权利要求1所述的食物制备装置,其中所述盖和所述盆中的每一者都被配置成经由RF屏蔽、RF绝缘中的至少一者或其任何组合而包容RF能量。3.根据权利要求1所述的食物制备装置,其中所述接地板和所述高电压板在大致平行于所述盆的侧壁的平行平面内延伸。4.根据权利要求1所述的食物制备装置,其中所述接地板和所述阳极板在大致垂直于所述盆的侧壁的平行平面内延伸,以使得所述接地板或所述高电压板中的一者设置在所述盖内。5.根据权利要求1所述的食物制备装置,其中所述盖包括压力释放阀、压力计、蒸汽释放口中的至少一者或其任何组合。6.根据权利要求1所述的食物制备装置,其中所述烹饪控制器监视湿度、温度、时间、压力、RF能量中的至少一者或其任何组合,并且其中所述烹饪控制器被配置成至少提供第一定时功能和第二定时功能,所述第一定时功能定义所述食品在所述液体中的浸没时间,而所述第二定时功能定义用于将所述RF能量施加到所述食品的RF能量施加时间。7.根据权利要求6所述的食物制备装置,其中所述RF能量施加时间小于所述浸没时间。8.根据权利要求1所述的食物制备装置,其中所述烹饪控制器被配置成根据所述所选择的食物制备程序而提供连续或间断的开/关循环。9.根据权利要求1所述的食物制备装置,其中所述液体温度控制组件控制所述液体的所述温度并使所述液体在所述盆中循环。10.根据权利要求1所述的食物制备装置,其中所述所选择的食物制备程序包括真空低温解冻、真空低温烹饪中的至少一者或其任何组合。11.根据权利要求10所述的食物制备装置,其中所述食品被密封在所述盆(2)中的不渗透的、RF能量可透过的...
【专利技术属性】
技术研发人员:约书亚·M·林顿,乔吉奥·格里马尔迪,
申请(专利权)人:伊利诺斯工具制品有限公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。