载板及使用该载板的太阳能电池生产设备制造技术

本实用新型专利技术涉及太阳能电池加工装置技术领域，尤其是涉及一种载板及使用该载板的太阳能电池生产设备。载板，包括板体，板体的上板面设置有两个陪片放置区和多个按行列排布的硅片放置区；硅片放置区设置有通气凹槽；相邻两个硅片放置区的边缘之间设置有硅片定位凸起，用于将硅片限定于硅片放置区中；两个陪片放置区分别位于板体的两个短边侧；陪片放置区的边缘与硅片放置区的边缘之间设置有硅片定位凸起。太阳能电池生产设备，包括载板传输装置和载板，载板传输装置用于传输载板。本实用新型专利技术能够避免损坏绒面和碰碎硅片的现象，提高成品良品率。

Carrier plate and solar cell production equipment using the same

The utility model relates to the technical field of a solar cell processing device, in particular to a carrier plate and a solar cell production device using the carrier plate. The carrier plate comprises a plate body, on the surface of the plate body is provided with two tablets with placing area and a plurality of wafers are placed in the ranks of the area; the silicon wafer is provided with a ventilation groove; a wafer positioning projection is provided between the two adjacent area of the edge of the silicon wafer, for silicon is limited to silicon wafer placement area in two; two short edges with slice placed areas were located in the plate body side; silicon wafer is arranged between the positioning projections with edge piece placed region and the edge of the silicon wafer. The solar cell production equipment comprises a carrier plate, a transmission device and a carrier plate, and the carrier plate transmission device is used for transmitting the carrier plate. The utility model can avoid damage and break the phenomenon of silicon suede, improve product yield.

【技术实现步骤摘要】
载板及使用该载板的太阳能电池生产设备
本技术涉及太阳能电池加工装置
，尤其是涉及一种载板及使用该载板的太阳能电池生产设备。
技术介绍
晶硅太阳能电池具有工艺简单、太阳能转化效率较高等优点而被大规模应用，在晶硅电池的生产中，RIE干法制绒重要的真空工艺技术。RIE干法制绒是在真空化学气氛下经等离子激发形成低反射率的粗糙表面。RIE干法制绒的通常工艺流程为：将硅片在大气中放置在载板上，载板通过载板传输装置传输到装载腔中，在装载腔抽真空抽到10Pa左右，然后再传输到工艺腔接受RIE刻蚀。工艺完成后，载板进入卸载腔(放气腔)，并通过硅片吸取装置将处理后的硅片从载板上取下。使用现有的载板完成上述工艺后，当硅片吸取装置吸取硅片时，容易使绒面受损，甚至导致碰碎硅片的现象发生。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种载板，以解决使用现有的载板存在的吸取硅片时使绒面受损或碎片现象严重的技术问题。本技术的目的还在于提供一种太阳能电池生产设备，以解决现有的太阳能电池生产设备因使用现有的载板导致的吸取硅片时易产生绒面受损或碎片现象严重的技术问题。基于上述第一目的，本技术提供了一种载板，包括板体，所述板体的上板面设置有两个陪片放置区和多个按行列排布的硅片放置区；所述硅片放置区设置有通气凹槽；相邻两个所述硅片放置区的边缘之间设置有硅片定位凸起，用于将所述硅片限定于所述硅片放置区中；两个所述陪片放置区分别位于所述板体的两个短边侧；所述陪片放置区的边缘与所述硅片放置区的边缘之间设置有所述硅片定位凸起。进一步的，所述通气凹槽包括第一子槽和第二子槽，所述第一子槽和所述第二子槽交叉设置。进一步的，所述第一子槽的长度方向与所述第二子槽的长度方向的夹角的角平分线与所述板体的短边相垂直。进一步的，所述第一子槽的长度方向与所述第二子槽的长度方向相垂直。进一步的，所述通气凹槽还包括第三子槽，所述第三子槽的长度方向与所述第一子槽的长度方向相平行。进一步的，所述第一子槽的深度为0.5～1.5mm，所述第一子槽的槽宽为0.5～1.5mm。进一步的，所述硅片定位凸起的高度为0.1～1mm。进一步的，所述板体的下板面设置有多个按行列排布的凹陷部，多个所述凹陷部与多个所述硅片放置区的位置一一对应。进一步的，所述板体和所述硅片定位凸起的材质均为铝合金。基于上述第二目的，本技术还提供了一种太阳能电池生产设备，包括载板传输装置和所述的载板，所述载板传输装置用于传输所述载板。本技术提供的载板，在使用时，将硅片放置在硅片放置区中，硅片定位凸起可将硅片的位置限定在相应的硅片放置区中。放置有硅片的载板通过载板传输装置传输到装载腔中，在装载腔抽真空，然后再传输到工艺腔接受RIE刻蚀。工艺完成后，载板进入卸载腔(放气腔)，并通过硅片吸取装置将处理后的硅片从载板上取下。本技术通过在硅片放置区设置通气凹槽，能够消除硅片与板体之间的负压，便于硅片吸取装置吸取硅片，从而有效地避免了损坏绒面和碰碎硅片的现象发生，提高了成品的良品率。本技术提供的太阳能电池生产设备，通过使用本技术提供的载板，在吸取硅片时，能够有效地避免损坏绒面和碰碎硅片的现象发生，提高了成品的良品率。附图说明为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术实施例一提供的载板的上板面的结构示意图；图2为图1中A处的局部放大图；图3为本技术实施例一提供的载板的下板面的结构示意图；图4为本技术实施例一提供的载板的上板面的一种变形例的结构示意图；图5为图4中B处的局部放大图。图标：101-陪片放置区；102-硅片放置区；103-第一子槽；104-硅片定位凸起；106-凹陷部；107-第二子槽；108-第三子槽。具体实施方式下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。实施例一图1为本技术实施例一提供的载板的上板面的结构示意图；图2为图1中A处的局部放大图；图3为本技术实施例一提供的载板的下板面的结构示意图；图4为本技术实施例一提供的载板的上板面的一种变形例的结构示意图；图5为图4中B处的局部放大图。参见图1至图5所示，本实施例提供了一种载板，包括板体，板体的上板面设置有两个陪片放置区101和多个按行列排布的硅片放置区102；为清楚显示，图1和图4中的实线框表示一个陪片放置区101，虚线框表示一个硅片放置区102。硅片放置区102设置有通气凹槽；相邻两个硅片放置区102的边缘之间设置有硅片定位凸起104，用于将硅片限定于硅片放置区102中；作为优选，相邻两个硅片放置区102的边缘之间设置有两个硅片定位凸起104；本实施例提供的板体呈矩形，两个陪片放置区101分别位于板体的两个短边侧，其中，两个短边侧是与载板的传输方向相平行的两侧。陪片放置区101的边缘与硅片放置区102的边缘之间设置有硅片定位凸起104，作为优选，陪片放置区101的边缘与硅片放置区102的边缘之间设置有两个硅片定位凸起104。本实施例的可选方案中，硅片放置区102的边缘与板体的两个长边侧之间设置有硅片定位凸起104，作为优选，硅片放置区102的边缘与板体的两个长边侧之间设置有两个硅片定位凸起104，其中，长边侧与短边侧相垂直。本技术提供的载板，在使用时，将硅片放置在硅片放置区102中，硅片定位凸起104可将硅片的位置限定在相应的硅片放置区102中。放置有硅片的载板通过载板传输装置传输到装载腔中，在装载腔抽真空，然后再传输到工艺腔接受RIE刻蚀。工艺完成后，载板进入卸载腔(放气腔)，并通过硅片吸取装置将处理后的硅片从载板上取下。本技术通过在硅片放置区102设置通气凹槽，能够消除硅片与板体之间的负压，便于硅片吸取装置吸取硅片，从而有效地避免了损坏绒面和碰碎硅片的现象发生，提高了成品的良品率。此外，本实施例提供的两个陪本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种载板，其特征在于：包括板体，所述板体的上板面设置有两个陪片放置区和多个按行列排布的硅片放置区；所述硅片放置区设置有通气凹槽；相邻两个所述硅片放置区的边缘之间设置有硅片定位凸起，用于将所述硅片限定于所述硅片放置区中；两个所述陪片放置区分别位于所述板体的两个短边侧；所述陪片放置区的边缘与所述硅片放置区的边缘之间设置有所述硅片定位凸起。

【技术特征摘要】
1.一种载板，其特征在于：包括板体，所述板体的上板面设置有两个陪片放置区和多个按行列排布的硅片放置区；所述硅片放置区设置有通气凹槽；相邻两个所述硅片放置区的边缘之间设置有硅片定位凸起，用于将所述硅片限定于所述硅片放置区中；两个所述陪片放置区分别位于所述板体的两个短边侧；所述陪片放置区的边缘与所述硅片放置区的边缘之间设置有所述硅片定位凸起。2.根据权利要求1所述的载板，其特征在于：所述通气凹槽包括第一子槽和第二子槽，所述第一子槽和所述第二子槽交叉设置。3.根据权利要求2所述的载板，其特征在于：所述第一子槽的长度方向与所述第二子槽的长度方向的夹角的角平分线与所述板体的短边相垂直。4.根据权利要求2所述的载板，其特征在于：所述第一子槽的长度方向与所述第二子槽的长度方向相垂直。5.根据权利要求3所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：闫路，朱海剑，庄正军，上官泉元，
申请(专利权)人：江西比太科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江西,36