一种用于锂电保护的开关器件及其制作方法技术

技术编号:15765580 阅读:153 留言:0更新日期:2017-07-06 08:48
本发明专利技术提供一种用于锂电保护的开关器件及其制作方法,该开关器件包括:P+型衬底及P‑型外延层;N型阱区;两个P型阱区;两个栅极结构;共用的N‑型漂移区,形成于两个栅极结构之间;N型源区及P+型接触区;介质层,所述介质层中打开有两个源区接触窗口及一体区接触窗口,所述体区接触窗口内的所述P‑型外延层被去除形成直至所述P+型衬底的沟槽;以及填充于所述源区接触窗口、体区接触窗口及所述沟槽内的电极材料。本发明专利技术采用共用漂移区的方式构建MOSFET器件,使得漂移区区域电阻可以大大降低,同时保证耐压不变。将其中一个源区电极通过与体区电极的方式引到芯片背面,封装时可与基底焊接,省掉一个打线电阻,在极低的内阻要求下非常有效。

A switch for lithium protection device and manufacturing method thereof

The present invention provides a method for switching device and its manufacturing method of lithium protection, the switch device includes a P+ substrate and P epitaxial layer; N type trap; two P type trap; two gate structure; drift region shared N, formed between the two grid structure; N type P+ type source region and the contact region; the dielectric layer, the dielectric layer in the two open source region and one contact window contact window, the trenches of P epitaxial layer of the body region within the contact window is removed until the formation of the P+ type substrate and filled in the source; contact window, window and contact zone of the trench electrode material. The invention uses the shared drift area to construct the MOSFET device, so that the resistance of the drift zone region can be greatly reduced, and the voltage resistance can be maintained unchanged. The electrode of one source region is led to the back of the chip by means of the electrode with the body region, and can be welded with the substrate when packaged, and a wire resistance is saved, which is very effective under the requirement of very low internal resistance.

【技术实现步骤摘要】
一种用于锂电保护的开关器件及其制作方法
本专利技术涉及一种锂电池保护电路,特别是涉及一种用于锂电保护的开关器件及其制作方法。
技术介绍
随着科技进步与社会发展,如手机、笔记本电脑、MP3播放器、PDA、掌上游戏机、数码摄像机等便携式设备已越来越普及,这类产品中有许多是采用锂离子电池供电,锂电池分为一次电池和二次电池两类,目前在部分耗电量较低的便携式电子产品中主要使用不可充电的一次锂电池,而在笔记本电脑、手机、PDA、数码相机等耗电量较大的电子产品中则使用可充电的二次电池,即锂离子电池。与镍镉和镍氢电池相比,锂离子电池具备以下几个优点:1)电压高,单节锂离子电池的电压可达到3.6V,远高于镍镉和镍氢电池的1.2V电压。2)容量密度大,其容量密度是镍氢电池或镍镉电池的1.5-2.5倍。3)荷电保持能力强(即自放电小),在放置很长时间后其容量损失也很小。4)寿命长,正常使用其循环寿命可达到500次以上。5)没有记忆效应,在充电前不必将剩余电量放空,使用方便。由于锂离子电池的化学特性,在正常使用过程中,其内部进行电能与化学能相互转化的化学正反应,但在某些条件下,如对其过充电、过放电和过电流将会导致电池内部发生化学副反应,该副反应加剧后,会严重影响电池的性能与使用寿命,并可能产生大量气体,使电池内部压力迅速增大后爆炸而导致安全问题,因此所有的锂离子电池都需要一个保护电路,用于对电池的充、放电状态进行有效监测,并在某些条件下关断充、放电回路以防止对电池发生损害。一个典型的锂离子电池保护电路原理图如图1所示,该保护回路由两个MOSFET(V1、V2)和一个控制IC(N1)外加一些阻容元件构成。控制IC负责监测电池电压与回路电流,并控制两个MOSFET的栅极,MOSFET在电路中起开关作用,分别控制着充电回路与放电回路的导通与关断,C3为延时电容,该电路具有过充电保护、过放电保护、过电流保护与短路保护功能,其工作原理分析如下:1)在正常状态下电路中N1的“CO”与“DO”脚都输出高电压,两个MOSFET都处于导通状态,电池可以自由地进行充电和放电,由于MOSFET的导通阻抗很小,通常小于30毫欧,因此其导通电阻对电路的性能影响很小。此状态下保护电路的消耗电流为μA级,通常小于7μA。2)锂离子电池要求的充电方式为恒流/恒压,在充电初期,为恒流充电,随着充电过程,电压会上升到4.2V(根据正极材料不同,有的电池要求恒压值为4.1V),转为恒压充电,直至电流越来越小。电池在被充电过程中,如果充电器电路失去控制,会使电池电压超过4.2V后继续恒流充电,此时电池电压仍会继续上升,当电池电压被充电至超过4.3V时,电池的化学副反应将加剧,会导致电池损坏或出现安全问题。在带有保护电路的电池中,当控制IC检测到电池电压达到4.28V(该值由控制IC决定,不同的IC有不同的值)时,其“CO”脚将由高电压转变为零电压,使V2由导通转为关断,从而切断了充电回路,使充电器无法再对电池进行充电,起到过充电保护作用。而此时由于V2自带的体二极管VD2的存在,电池可以通过该二极管对外部负载进行放电。在控制IC检测到电池电压超过4.28V至发出关断V2信号之间,还有一段延时时间,该延时时间的长短由C3决定,通常设为1秒左右,以避免因干扰而造成误判断。3)电池在对外部负载放电过程中,其电压会随着放电过程逐渐降低,当电池电压降至2.5V时,其容量已被完全放光,此时如果让电池继续对负载放电,将造成电池的永久性损坏。在电池放电过程中,当控制IC检测到电池电压低于2.3V(该值由控制IC决定,不同的IC有不同的值)时,其“DO”脚将由高电压转变为零电压,使V1由导通转为关断,从而切断了放电回路,使电池无法再对负载进行放电,起到过放电保护作用。而此时由于V1自带的体二极管VD1的存在,充电器可以通过该二极管对电池进行充电。由于在过放电保护状态下电池电压不能再降低,因此要求保护电路的消耗电流极小,此时控制IC会进入低功耗状态,整个保护电路耗电会小于0.1μA。在控制IC检测到电池电压低于2.3V至发出关断V1信号之间,也有一段延时时间,该延时时间的长短由C3决定,通常设为100毫秒左右,以避免因干扰而造成误判断。4)由于锂离子电池的化学特性,电池生产厂家规定了其放电电流最大不能超过2C(C=电池容量/小时),当电池超过2C电流放电时,将会导致电池的永久性损坏或出现安全问题。电池在对负载正常放电过程中,放电电流在经过串联的2个MOSFET时,由于MOSFET的导通阻抗,会在其两端产生一个电压,该电压值U=I*RDS*2,RDS为单个MOSFET导通阻抗,控制IC上的“V-”脚对该电压值进行检测,若负载因某种原因导致异常,使回路电流增大,当回路电流大到使U>0.1V(该值由控制IC决定,不同的IC有不同的值)时,其“DO”脚将由高电压转变为零电压,使V1由导通转为关断,从而切断了放电回路,使回路中电流为零,起到过电流保护作用。在控制IC检测到过电流发生至发出关断V1信号之间,也有一段延时时间,该延时时间的长短由C3决定,通常为13毫秒左右,以避免因干扰而造成误判断。在上述控制过程中可知,其过电流检测值大小不仅取决于控制IC的控制值,还取决于MOSFET的导通阻抗,当MOSFET导通阻抗越大时,对同样的控制IC,其过电流保护值越小。5)电池在对负载放电过程中,若回路电流大到使U>0.9V(该值由控制IC决定,不同的IC有不同的值)时,控制IC则判断为负载短路,其“DO”脚将迅速由高电压转变为零电压,使V1由导通转为关断,从而切断放电回路,起到短路保护作用。短路保护的延时时间极短,通常小于7微秒。其工作原理与过电流保护类似,只是判断方法不同,保护延时时间也不一样。除了控制IC外,电路中还有一个重要元件,就是MOSFET,它在电路中起着开关的作用,由于它直接串接在电池与外部负载之间,因此它的导通阻抗对电池的性能有影响,当选用的MOSFET较好时,其导通阻抗很小,电池包的内阻就小,带载能力也强,在放电时其消耗的电能也少。锂电保护的两个MOSFET,目前主流技术都是利用TrenchVDMOS来实现。VDMOS的优点是沟道密度大,可以有效降低沟道电阻。缺点是用来承受耐压的漂移区(drift)电阻较大。另外,VDMOS的两个源区(source)都在芯片(chip)表面,封装时两个源区电极均需要打金属连线(bonding),而打线电阻受物理限制很难降低。随着快充等大电流锂电充电技术实施,要求锂电保护的MOSFET内阻尽可能的低。基于以上所述,提供一种能够有效降低漂移区内阻,并降低金属连线占用面积及内阻的开关器件及其制备方法实属必要。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点,本专利技术的目的在于提供一种用于锂电保护的开关器件及其制作方法,用于解决现有技术中锂电保护的MOSFET的漂移区内阻较大以及面积较大的问题。为实现上述目的及其他相关目的,本专利技术提供一种用于锂电保护的开关器件的制作方法,所述制作方法包括步骤:1)提供一P+型衬底,于所述P+型衬底表面形成P-型外延层;2)于所述P-型外延层中形成N型阱区;3)于所述N型阱区中形成相隔排列的两个P型阱区;4)制作出两本文档来自技高网
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一种用于锂电保护的开关器件及其制作方法

【技术保护点】
一种用于锂电保护的开关器件的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括步骤:1)提供一P+型衬底,于所述P+型衬底表面形成P‑型外延层;2)于所述P‑型外延层中形成N型阱区;3)于所述N型阱区中形成相隔排列的两个P型阱区;4)制作出两个栅极结构,各栅极结构横跨于N型阱区及P型阱区之间;5)于两个栅极结构之间形成N‑型漂移区;6)于所述两个栅极结构两侧的P型阱区中分别形成N型源区及P+型接触区;7)于器件表面形成介质层,于所述介质层中打开两个源区接触窗口及一体区接触窗口,且基于所述体区接触窗口刻蚀所述P‑型外延层形成直至所述P+型衬底的沟槽;8)于所述源区接触窗口、体区接触窗口及所述沟槽内填充电极材料形成两源区电极及一体区电极,并制作金属层使得其中一个源区电极及体区电极相连,完成开关器件的电性引出。

【技术特征摘要】
1.一种用于锂电保护的开关器件的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括步骤:1)提供一P+型衬底,于所述P+型衬底表面形成P-型外延层;2)于所述P-型外延层中形成N型阱区;3)于所述N型阱区中形成相隔排列的两个P型阱区;4)制作出两个栅极结构,各栅极结构横跨于N型阱区及P型阱区之间;5)于两个栅极结构之间形成N-型漂移区;6)于所述两个栅极结构两侧的P型阱区中分别形成N型源区及P+型接触区;7)于器件表面形成介质层,于所述介质层中打开两个源区接触窗口及一体区接触窗口,且基于所述体区接触窗口刻蚀所述P-型外延层形成直至所述P+型衬底的沟槽;8)于所述源区接触窗口、体区接触窗口及所述沟槽内填充电极材料形成两源区电极及一体区电极,并制作金属层使得其中一个源区电极及体区电极相连,完成开关器件的电性引出。2.根据权利要求1所述的用于锂电保护的开关器件的制作方法,其特征在于:步骤1)还包括于所述P-型外延层中形成STI隔离区的步骤,所述STI隔离区位于后续制作的两个栅极结构之间,且后续制备的N-型漂移区包围于所述STI隔离区。3.根据权利要求1所述的用于锂电保护的开关器件的制作方法,其特征在于:步骤2)包括:步骤2-1),于所述P-型外延层制作掩膜;步骤2-2),基于掩膜采用离子注入方式于所述P-型外延层中形成N型阱区,使得所述N型阱区与后续制备的体区电极之间被所述P-型外延层隔离。4.根据权利要求1所述的用于锂电保护的开关器件的制作方法,其特征在于:所述源区电极同时与所述N型源区及P+型接触区接触。5.根据权利要求1所述的用于锂电保护的开关器件的制作方法,其特征在于:还包括于所述P+型衬底的背面制作背镀金属的步骤。6.根据权利要求5所述的用于锂电保护的开关器件的制作方法,其特征在于:所述背镀金属的制作包括:a)采用溅射或蒸镀的方法于所述P+型衬底的背面形成TiN层或Ag层;...

【专利技术属性】
技术研发人员:王凡
申请(专利权)人:上海宝芯源功率半导体有限公司
类型:发明
国别省市:上海,31

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