一种配向膜制备方法、显示基板及显示面板技术

本发明专利技术提供了一种配向膜制备方法、显示基板及显示面板。所述方法包括：在基板上形成待配向膜层，所述待配向膜层划分为位于所述基板中央区域的成膜保证区和位于所述基板边缘区域的非有效成膜区，所述非有效成膜区内所述待配向膜层的厚度不均一；在所述非有效成膜区形成补偿膜层，以使所述非有效成膜区的所述待配向膜层与所述补偿膜层的总厚度与所述成膜保证区的待配向膜层厚度一致；对所述待配向膜层及所述补偿膜层进行配向，以形成配向膜。通过本发明专利技术实施例，基板非有效成膜区与成膜保证区之间的段差较小并且受控制，从而避免了在Rubbing过程中影响Cloth特性，减少了显示面板面内显示不均等不良情况，提升了良率。

Preparation method of alignment film, display substrate and display panel

The invention provides a preparation method of a alignment film, a display substrate and a display panel. The method includes: to be matched to the film formed on the substrate, the alignment layer is divided into non effective film film area located in the central region of the substrate area and ensure is located on the edge of the substrate, the non effective into the membrane area to be matched to the film thickness are one; in the non effective film formation area compensation film, so that the non effective area of the film to be matched to the total thickness of coating and the compensation film and the film forming area to be matched to ensure uniform film thickness; on the alignment film and the the compensation film is alignment, to form the alignment film. By the embodiment of the invention, a substrate of non effective film and Film Guarantee segments between the small difference and control, so as to avoid the effects of Cloth characteristics in the Rubbing process, reduce the display panel plane display is not equal to adverse conditions, improve the yield rate.

【技术实现步骤摘要】
一种配向膜制备方法、显示基板及显示面板
本专利技术涉及液晶显示器领域，特别是涉及一种配向膜制备方法、显示基板及显示面板。
技术介绍
在TFT(ThinFilmTransistor，薄膜场效应晶体管)-LCD(LiquidCrystalDisplay液晶显示器)制作中，无论TFT基板还是CF(colorfilter，彩色滤光片)基板，其利用率均不可能为100％，除了受制于面板的尺寸与数量以外，其周边均会有一定区域为成膜不均或者不能成膜区，这个区域的大小受制于设备能力。不能成膜区一般有部分膜层或无膜层，因其段差不受控制，故在Rubbing(摩擦)配向过程中易影响Cloth(摩擦布)特性，导致出现显示面板面内显示不均等不良情况，并且无法从后端工艺进行有效改善，造成了较大的良率损失。
技术实现思路
鉴于上述问题，提出了本专利技术实施例以便提供一种克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的一种配向膜制备方法、显示基板及显示面板。本专利技术提供一种配向膜制备方法，包括：在基板上形成待配向膜层，所述待配向膜层划分为位于所述基板中央区域的成膜保证区和位于所述基板边缘区域的非有效成膜区，所述非有效成膜区内所述待配向膜层的厚度不均一；在所述非有效成膜区形成补偿膜层，以使所述非有效成膜区的所述待配向膜层与所述补偿膜层的总厚度与所述成膜保证区的待配向膜层厚度一致；对所述待配向膜层及所述补偿膜层进行配向，以形成配向膜。可选地，在所述非有效成膜区形成补偿膜层，包括：采用APR版在所述非有效成膜区形成补偿膜层，其中，所述APR版线数随所述非有效成膜区内待配向膜层厚度的变小而递增。可选地，在所述非有效成膜区形成补偿膜层，包括：采用点喷涂方式在所述非有效成膜区形成补偿膜层，并控制点喷涂采用的喷头的喷出量在所述非有效成膜区内随待配向膜层厚度的变小而递增。可选地，所述控制点喷涂采用的喷头的喷出量在所述非有效成膜区内随待配向膜层厚度的变小而递增，包括：通过控制所述喷头的数量、流量、喷涂时间中的至少一种，控制所述喷头的喷出量在所述非有效成膜区内随待配向膜层厚度的变小而递增。可选地，所述在所述非有效成膜区形成补偿膜层，还包括：检测所述非有效成膜区内待配向膜层的厚度及所述补偿膜层的厚度；根据所述非有效成膜区内待配向膜层的厚度及所述补偿膜层的厚度，调整所述喷头的喷出量。可选地，所述检测所述非有效成膜区内待配向膜层的厚度及所述补偿膜层的厚度，包括：通过光传感器实时检测所述非有效成膜区内待配向膜层的厚度及所述补偿膜层的厚度；或者，通过膜厚测试仪检测所述非有效成膜区内待配向膜层的厚度及所述补偿膜层的厚度。可选地，所述补偿膜层的厚度范围为本专利技术实施例又提供了一种显示基板，应用于显示面板，包括基板，以及在所述基板上形成的待配向膜层和补偿膜层；其中，所述待配向膜层划分为位于所述基板中央区域的成膜保证区和位于所述基板边缘区域的非有效成膜区；在所述非有效成膜区内，所述补偿膜覆盖所述待配向膜层，且所述待配向膜层与所述补偿膜层的总厚度与所述成膜保证区的待配向膜层厚度一致。可选地，所述非有效成膜区内所述补偿膜层的厚度范围为本专利技术实施例还提供了一种显示面板，所述显示面板包含上述的显示基板。与现有技术相比，本专利技术包括以下优点：通过本专利技术实施例，在基板边缘区域的非有效成膜区形成补偿膜层，使非有效成膜区的待配向膜层与补偿膜层的总厚度与成膜保证区的待配向膜层厚度一致，从而使基板非有效成膜区与成膜保证区之间的段差较小并且受控制，从而避免了在Rubbing过程中影响Cloth特性，减少了显示面板面内显示不均等不良情况，提升了良率。附图说明图1是本专利技术实施例一的一种配向膜制备方法的步骤流程图；图2是本专利技术实施例一的形成待配向膜后的基板的示意图；图3是本专利技术实施例一的形成补偿膜层后的基板的示意图；图4是本专利技术实施例二的一种配向膜制备方法的步骤流程图；图5是本专利技术实施例三的一种配向膜制备方法的步骤流程图；图6是本专利技术实施例四的一种显示基板的示意图。具体实施方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细的说明。实施例一详细介绍本专利技术实施例提供的一种配向膜制备方法。参照图1，示出了本专利技术实施例提供的一种配向膜制备方法的步骤流程图。所述方法包括：步骤101，在基板上形成待配向膜层，所述待配向膜层划分为位于所述基板中央区域的成膜保证区和位于所述基板边缘区域的非有效成膜区，所述非有效成膜区内所述待配向膜层的厚度不均一。本实施例中，在基板上形成待配向膜，本专利技术实施例对形成待配向膜的方式不作详细限定，可以根据实际情况进行选取。参照图2所示的形成待配向膜后的基板的示意图，形成待配向膜后，待配向膜层划分为位于基板10中央区域的成膜保证区A和位于基板10边缘区域的非有效成膜区B，非有效成膜区B内待配向膜层20的厚度不均一。基板01可以选用玻璃基板，也可以选用其他基板，本专利技术实施例对此不作详细限定，可以根据实际情况进行选取。由于非有效成膜区B内待配向膜层20的厚度不均匀，段差不受控制，因此在Rubbing(摩擦)配向过程中易影响Cloth(摩擦布)特性，导致显示面板出现面内显示不均等不良情况，并且无法从后端工艺进行有效改善，造成了较大的良率损失。步骤102，在所述非有效成膜区形成补偿膜层，以使所述非有效成膜区的所述待配向膜层与所述补偿膜层的总厚度与所述成膜保证区的待配向膜层厚度一致。本实施例中，非有效成膜区B内待配向膜层20的厚度不均匀，因此在非有效成膜区B形成补偿膜层30。参照图3所示的形成补偿膜层后的基板，补偿膜层30和待配向膜层20的总厚度，与成膜保证区的待配向膜层20厚度一致。本专利技术实施例对形成补偿膜层的方式不作详细限定，可以根据实际情况进行选取。步骤103，对所述待配向膜层及所述补偿膜层进行配向，以形成配向膜。本实施例中，采用Rubbing(摩擦)配向工艺对待配向膜层和补偿膜层进行配向，使待配向膜层以及补偿膜层中的液晶分子按照一定方向排列。形成补偿膜层后的非有效成膜区B内膜层厚度均一，不存在段差，因此Rubbing过程中不影响影响待配向膜层的Cloth特性，从而减少了显示面板面内显示不均等不良情况，提高了良率。综上所述，本专利技术实施例中，基板上非有效成膜区的待配向膜层与补偿膜层的总厚度与成膜保证区的待配向膜层厚度一致，基板非有效成膜区与成膜保证区之间的段差较小并且受控制，从而避免了在Rubbing过程中影响Cloth特性，减少了显示面板面内显示不均等不良情况，提升了良率。实施例二详细介绍本专利技术实施例提供的一种配向膜制备方法。参照图4，示出了本专利技术实施例提供的一种配向膜制备方法的步骤流程图。所述方法包括：步骤201，在基板上形成待配向膜层，所述待配向膜层划分为位于所述基板中央区域的成膜保证区和位于所述基板边缘区域的非有效成膜区，所述非有效成膜区内所述待配向膜层的厚度不均一。该步骤与前述步骤101类似，此处不再赘述。步骤202，采用APR版在所述非有效成膜区形成补偿膜层，其中，所述APR版线数随所述非有效成膜区内待配向膜层厚度的变小而递增。本实施例中，在非有效成膜区B形成补偿膜层30可以采用印刷APR版的方式。由生产厂家按照设定的补偿膜层的厚度制备成APR版本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种配向膜制备方法，其特征在于，包括：在基板上形成待配向膜层，所述待配向膜层划分为位于所述基板中央区域的成膜保证区和位于所述基板边缘区域的非有效成膜区，所述非有效成膜区内所述待配向膜层的厚度不均一；在所述非有效成膜区形成补偿膜层，以使所述非有效成膜区的所述待配向膜层与所述补偿膜层的总厚度与所述成膜保证区的待配向膜层厚度一致；对所述待配向膜层及所述补偿膜层进行配向，以形成配向膜。

【技术特征摘要】
1.一种配向膜制备方法，其特征在于，包括：在基板上形成待配向膜层，所述待配向膜层划分为位于所述基板中央区域的成膜保证区和位于所述基板边缘区域的非有效成膜区，所述非有效成膜区内所述待配向膜层的厚度不均一；在所述非有效成膜区形成补偿膜层，以使所述非有效成膜区的所述待配向膜层与所述补偿膜层的总厚度与所述成膜保证区的待配向膜层厚度一致；对所述待配向膜层及所述补偿膜层进行配向，以形成配向膜。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述非有效成膜区形成补偿膜层，包括：采用APR版在所述非有效成膜区形成补偿膜层，其中，所述APR版线数随所述非有效成膜区内待配向膜层厚度的变小而递增。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述非有效成膜区形成补偿膜层，包括：采用点喷涂方式在所述非有效成膜区形成补偿膜层，并控制点喷涂采用的喷头的喷出量在所述非有效成膜区内随待配向膜层厚度的变小而递增。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述控制点喷涂采用的喷头的喷出量在所述非有效成膜区内随待配向膜层厚度的变小而递增，包括：通过控制所述喷头的数量、流量、喷涂时间中的至少一种，控制所述喷头的喷出量在所述非有效成膜区内随待配向膜层厚度的变小而递增。5.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘利萍，张南红，董春垒，李静，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11