晶片倒角机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种晶片倒角机，其技术方案要点是，包括机架，机架上设置有工作台，工作台上面设置有用于放置晶片的放置台，机架上设有用于对晶体打磨的砂轮，机架上设置有水循环机构，水循环机构包括用于往砂轮上注水的冷却水管、连接在工作台表面的回流管、供回流管水流流入的集水箱，工作台外边缘上设置有阻碍水流走的凸边，冷却水管上设置有集水箱内设置有与回流管连接的沉淀腔、与冷却水管连接的澄清腔，沉淀腔与澄清腔之间设置有用于分隔水流的隔板，隔板顶部开设有供水流流过的连通孔，冷却水管上面设置有用于驱动水流流动的水泵。

Chip chamfering machine

The utility model discloses a wafer chamfering machine, the technical proposal is, including the frame, the frame is provided with a working table, table top is provided for placing the wafer placement table, the frame is provided with a grinding wheel for grinding crystal, the frame is provided with a water cycle mechanism, water circulation mechanism for cooling water, water to the wheel connected to the surface of the table for the return pipe, the return pipe of water flow into the set, the edge table is arranged on the outer flange hinder flow away, the cooling water pipe is arranged on the water collecting tank is arranged in the tube cavity connected with the sedimentation chamber, clarify the connection with the cooling water pipe and return flow there, a separator for separating water flow is arranged between the cavity and the precipitation clarification chamber, separator is arranged at the top hole water flow, cooling water pipe is arranged for driving the flow of water Pump.

【技术实现步骤摘要】
晶片倒角机
本技术涉及打磨加工设备，特别涉及一种晶片倒角机。
技术介绍
晶片作为光学器械的一个透光元件，需要被装配在光学器械中。由于晶片半成品的边缘较为锐利，在对晶片进行装配时，若没有对晶片的边缘进行倒角，一方面会增加晶片的装配难度，另一方面也会因晶片的侧翻而使晶片的边缘产生崩裂而影响到晶片的透光性。目前，公告号为CN201664869U的中国专利公开了一种光学石英晶片双头倒角设备，它包括机架、设置在机架上方的精密砂轮机、精密位移架体和冷却系统等。其在对水晶片进行加工的时候，水晶片是放置在倾斜状的精密位移架体上面，精密位移架体挡边阻碍水晶片往下滑动，然后用手缓缓的移动水晶片使其需要加工的边经过精密砂轮机，进而完成倒角。在加工的时候，砂轮直接对准水晶片进行加工，砂轮持续的对水晶片进行打磨，砂轮表面容易粘附有大量打磨出来的粉尘，粉尘在砂轮表面堆积过多容易影响砂轮的打磨效果。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足，本技术的目的在于提供一种晶片倒角机，通过对砂轮表面持续的注射较为干净的循环水，进而保持砂轮表面的清洁。本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种晶片倒角机，包括机架，所述机架上设置有工作台，所述工作台上面设置有用于放置晶片的放置台，所述机架上设有用于对晶体打磨的砂轮，所述机架上设置有水循环机构，所述水循环机构包括用于往砂轮上注水的冷却水管、连接在工作台表面的回流管、供回流管水流流入的集水箱，所述工作台外边缘上设置有阻碍水流走的凸边，所述集水箱内设置有与回流管连接的沉淀腔、与冷却水管连接的澄清腔，所述沉淀腔与澄清腔之间设置有用于分隔水流的隔板，所述隔板顶部开设有供水流流过的连通孔，所述冷却水管上面设置有用于驱动水流流动的水泵。通过上述技术方案，水泵会驱动澄清腔内的水流经过冷却水管往砂轮上面注射，进行对砂轮表面的冲洗。冲洗完毕的水流掉落到工作台上面，工作台上凸边的结构，水流能够在工作台上面汇聚起来，避免水流的浪费流失。然后流入到回流管内，最后进入到集水箱的沉淀腔内，水流能够在沉淀腔内积攒，被冲刷出来的粉尘逐渐沉淀，表面上较为清澈的液体从连通孔进入到澄清腔内，然后收到水泵的驱动重新对砂轮进行清洗。这样砂轮始终受到较为清澈的水流冲刷，砂轮表面保持较为的清澈，打磨效果比较稳定。同时，水流冲刷能够带走打磨过程中产生的热量，减少砂轮、水晶片局部受热的情况。再者，水流的循环利用，减少了水资源的浪费，提高了水流的利用率。本技术进一步设置为：所述沉淀腔底部设置有用于排屑的排污管。通过上述技术方案，排污管的结构能够让沉积在沉淀腔底部的粉末或者碎屑排出，能够起到一个回收废料的作用，避免了沉淀腔内沉淀物过多的情况。本技术进一步设置为：所述澄清腔内设置有与外界水管连接且用于补水的补水管。通过上述技术方案，水流在回收过程中难免会出现一定的泄漏的情况，人们可以通过补水管对集水箱内的水流进行补水，使得循环水保持一个持续循环的状态，避免出现断流的情况。本技术进一步设置为：所述补水管内设置有用于密封的阀板，所述阀板上设置有用于驱动阀板打开的复位件，所述澄清腔内设置用于驱动阀板打开的浮球，浮球与阀板之间设置有用于连接的连接绳。通过上述技术方案，阀板能够控制补水管的开闭，结合浮球，阀板在水位较低的情况下受到浮球的拉力较小，阀板受到复位件的驱动，处于打开状态，随后补水管内的水流会进入到澄清腔内，完成补水的工作。一旦水位高了，浮球会上升，进而带动阀板关闭，阻碍补水管进水。利用这种结构，阀板能够随着液位的升降自行的打开关闭，起到自动调节内部水量的作用，结构简单，效果明显。本技术进一步设置为：所述工作台上设置有X轴走向的导轨，所述导轨上面设置有滑块，所述滑块上设有用于固定滑块位置的紧固件，所述滑块上面有可沿Y轴走向自由滑动的滑板，所述放置台设置在滑板上，所述机架上竖直设置有可转动的丝杆，所述丝杆上设置有供砂轮安装的活动台，丝杆可通过转动带动活动台竖直位移。通过上述技术方案，在加工的时候，放置台可以通过滑板进行Y轴走向的自由移动，而固定滑板的滑块能够沿着X轴走向，这样放置台就可以通过滑板与滑块进行纵向与横向的位移，进而让砂轮可以对放置台上的水晶片不同部位进行打磨，可以打磨的线条范围也比较大。同时，砂轮也能够进行上下的调节，一些厚度不同的水晶片也能够得到稳定的打磨。这样，利用该倒角机在对多种不同规格、大小的水晶片进行加工的时候能够根据水晶片的情况进行较大幅度的调节滑块、砂轮的位置，进而满足打磨要求。本技术进一步设置为：所述紧固件为限位钉，所述限位钉贯穿滑块侧壁，且所述限位钉一端可通过螺旋与导轨抵触。通过上述技术方案，限位钉的结构能够对滑块的运动或者固定进行切换，拧开限位钉，使得限位钉与滑块分离，滑块能够较为自由的前后滑动。同时如果将限位钉拧紧，让限位钉的端部与导轨抵触，进而限位钉让滑块固定在某一个固定位置。本技术进一步设置为：所述滑块侧壁设置有直线延伸的凹槽，所述滑板内壁设置有与凹槽配合的卡接棱。通过上述技术方案，凹槽与卡接棱的配合能够让滑板固定在滑块上面，这样当滑板重心滑道滑块外部的时候，滑板依旧会卡在滑块上，避免滑板从滑块上脱落的情况。而直线延伸的凹槽能够让滑板沿着Y轴方向进行滑动稳定，不易出现左右晃动的情况。本技术进一步设置为：所述滑块底部设置有多个滚轮，所述滚轮与滑板内壁抵触。通过上述技术方案，滚轮的结构能够让滑板与滑块的表面滑动摩擦变成滚动摩擦，减少滑板与滑块之间的摩擦力，减少人们在推动放置台与滑板的时候力，减轻操作人员的操作负担。本技术进一步设置为：所述放置台上设有供水晶片待倒角一边抵触的且沿滑板滑动方向延伸的挡边，所述挡边位于砂轮下方。通过上述技术方案，用于安装的挡边直接设置在砂轮下方，这样在对水晶片倒角加工的时候，这样无论水晶片如何规格，只需要将水晶片贴合在挡边上然后手动移动放置台，即可完成倒角加工，同时也可以利用该设备对水晶片的多个边进行倒角加工，加工完一边之后直接取下水晶片将另一边进行加工，加工的过程较为快速方便。本技术进一步设置为：所述放置台设置有与挡边贴合的第一排水槽，所述第一排水槽与挡边走向一致，所述放置台上面设置有多条用于将放置台表面水流排出的第二排水槽。通过上述技术方案，挡边处从上方倾泻下来的水流较大，第一排水槽能够让挡边周围的水快速的流走，能够让打磨出来粉末快速的流走，减少粉末残留在放置台上面的可能性。第二排水槽能够减少放置台表面的水残留，减少水晶片与放置台之间的水量，人们在拿取水晶片的时候，水晶片不易被水粘住，影响人们的拿取速度。综上所述，本技术对比于现有技术的有益效果为：1、操作方便、快捷；2、适应性广，可加工多规格的水晶片；3、调节性好，可以多种形式进行切换。附图说明图1为实施例的整体结构图；图2为实施例水循环的结构示意图；图3为图2中K处的放大图；图4为实施例滑块与滑板关于Y轴方向竖直面的剖视图；图5为实施例滑块与滑板关于X轴方向竖直面的剖视图；图6为实施例放置台的结构图；图7为图1中I处的放大图。附图标记：1、机架；11、工作台；12、凸边；13、砂轮；14、卡接槽；2、导轨；21、滑块；22、滑板；23、限位钉；24、凹槽；25、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种晶片倒角机，包括机架(1)，其特征是：所述机架(1)上设置有工作台(11)，所述工作台(11)上面设置有用于放置晶片的放置台(3)，所述机架(1)上设有用于对晶体打磨的砂轮(13)，所述机架(1)上设置有水循环机构，所述水循环机构包括用于往砂轮(13)上注水的冷却水管(52)、连接在工作台(11)表面的回流管(5)、供回流管(5)水流流入的集水箱(51)，所述工作台(11)外边缘上设置有阻碍水流走的凸边(12)，所述集水箱(51)内设置有与回流管(5)连接的沉淀腔(56)、与冷却水管(52)连接的澄清腔(57)，所述沉淀腔(56)与澄清腔(57)之间设置有用于分隔水流的隔板(58)，所述隔板(58)顶部开设有供水流流过的连通孔(581)，所述冷却水管(52)上面设置有用于驱动水流流动的水泵(53)。

【技术特征摘要】
1.一种晶片倒角机，包括机架(1)，其特征是：所述机架(1)上设置有工作台(11)，所述工作台(11)上面设置有用于放置晶片的放置台(3)，所述机架(1)上设有用于对晶体打磨的砂轮(13)，所述机架(1)上设置有水循环机构，所述水循环机构包括用于往砂轮(13)上注水的冷却水管(52)、连接在工作台(11)表面的回流管(5)、供回流管(5)水流流入的集水箱(51)，所述工作台(11)外边缘上设置有阻碍水流走的凸边(12)，所述集水箱(51)内设置有与回流管(5)连接的沉淀腔(56)、与冷却水管(52)连接的澄清腔(57)，所述沉淀腔(56)与澄清腔(57)之间设置有用于分隔水流的隔板(58)，所述隔板(58)顶部开设有供水流流过的连通孔(581)，所述冷却水管(52)上面设置有用于驱动水流流动的水泵(53)。2.根据权利要求1所述的晶片倒角机，其特征是：所述沉淀腔(56)底部设置有用于排屑的排污管(59)。3.根据权利要求1所述的晶片倒角机，其特征是：所述澄清腔(57)内设置有与外界水管连接且用于补水的补水管(54)。4.根据权利要求3所述的晶片倒角机，其特征是：所述补水管(54)内设置有用于密封的阀板(61)，所述阀板(61)上设置有用于驱动阀板(61)打开的复位件(62)，所述澄清腔内设置用于驱动阀板(61)打开的浮球(63)，浮球(63)与阀板(61)之间设置有用于连接的连接绳(64)。5.根据权利要求1所述的晶片倒角机，其特征是：...

【专利技术属性】
技术研发人员：王炳予，
申请(专利权)人：台州市原本光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33