有机电致发光器件及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

技术编号:15749054 阅读:292 留言:0更新日期:2017-07-03 10:27
本发明专利技术公开了一种有机电致发光器件及其制备方法、显示装置,所述有机电致发光器件包括衬底基板,所述衬底基板的上方设置有光线控制层,所述光线控制层包括同层且互相间隔设置的透光结构和遮光结构,所述遮光结构具有预设高度,所述透光结构具有预设宽度,所述光线控制层用于对所述有机电致发光器件发出的光线进行遮挡和透射,以使出射光线的出射角度在预设的角度范围之内。本发明专利技术提供的技术方案将透明电极层设置成包括同层且互相间隔设置的透光结构和遮光结构的光线控制层,从而将防窥功能集成于透明电极层,从而减小了显示基板的整体厚度,而且在避免影响有机电致发光器件的发光性能的前提之下,实现了显示基板的防窥功能。

【技术实现步骤摘要】
有机电致发光器件及其制备方法、显示装置
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种有机电致发光器件及其制备方法和显示装置。
技术介绍
目前越来越多的显示模组需要限制观测角度,以实现防窥的目的。现有的防窥技术是在有机电致发光器件的发光层增加防窥功能,在发光层增加防窥功能的工艺必须在处理腔室之内进行,然而碳元素的沸点为4827℃,过高的工艺温度很可能会影响已经蒸镀在基板上的功能层的性质,最终影响有机电致发光器件的性能。
技术实现思路
为解决上述问题,本专利技术提供一种有机电致发光器件及其制备方法、显示装置,至少部分解决现有技术在有机电致发光器件的发光层增加防窥功能,影响有机电致发光器件的性能的问题。为此,本专利技术提供一种有机电致发光器件,包括衬底基板,所述衬底基板的上方设置有光线控制层,所述光线控制层包括同层且互相间隔设置的透光结构和遮光结构,所述遮光结构具有预设高度,所述透光结构具有预设宽度,所述光线控制层用于对所述有机电致发光器件发出的光线进行遮挡和透射,以使出射光线的出射角度在预设的角度范围之内。可选的,所述光线控制层的上方设置有发光层,所述发光层的上方设置有阴极层,所述透光结构的构成材料为透明导电材料,所述遮光结构的构成材料为碳或者遮光金属。可选的,所述衬底基板上设置有阴极层,所述阴极层的上方设置有发光层,所述光线控制层设置在所述发光层的上方,所述透光结构的构成材料为透明导电材料,所述遮光结构的构成材料为碳或者遮光金属。可选的,所述透光结构与所述遮光结构为平行设置的条形结构。可选的,所述遮光结构的宽度为a,所述透光结构的宽度为b,所述透光结构与所述遮光结构构成的光栅的间距p=a+b,其中p的范围为像素单元宽度的1倍至像素单元宽度的2倍。本专利技术还提供一种有机电致发光器件的制备方法,包括:在衬底基板上形成光线控制层,所述光线控制层包括同层且互相间隔设置的透光结构和遮光结构,所述遮光结构具有预设高度,所述透光结构具有预设宽度,所述光线控制层用于对所述有机电致发光器件发出的光线进行遮挡和透射,以使出射光线的出射角度在预设的角度范围之内。可选的,还包括:在所述光线控制层的上方形成发光层;在所述发光层的上方形成阴极层。可选的,所述在衬底基板上形成光线控制层的步骤包括:在衬底基板上形成遮光层,所述遮光层的构成材料为碳或者遮光金属;对所述遮光层进行构图工艺,以形成遮光结构;在衬底基板上形成透光层,所述透光层的构成材料为透明导电材料;对所述透光层进行构图工艺,以形成透光结构。可选的,所述在衬底基板上形成遮光层的温度范围为800℃至1200℃。可选的,所述遮光结构的宽度为a,所述透光结构的宽度为b,所述透光结构与所述遮光结构构成的光栅的间距p=a+b,其中p的范围为像素单元宽度的1倍至像素单元宽度的2倍。本专利技术还提供一种显示装置,包括任一所述的有机电致发光器件。本专利技术具有下述有益效果:本专利技术提供的有机电致发光器件及其制备方法、显示装置之中,所述有机电致发光器件包括衬底基板,所述衬底基板的上方设置有光线控制层,所述光线控制层包括同层且互相间隔设置的透光结构和遮光结构,所述遮光结构具有预设高度,所述透光结构具有预设宽度,所述光线控制层用于对所述有机电致发光器件发出的光线进行遮挡和透射,以使出射光线的出射角度在预设的角度范围之内。本专利技术提供的技术方案将透明电极层设置成包括同层且互相间隔设置的透光结构和遮光结构的光线控制层,从而将防窥功能集成于透明电极层,从而减小了显示基板的整体厚度,而且在避免影响有机电致发光器件的发光性能的前提之下,实现了显示基板的防窥功能。附图说明图1为本专利技术实施例一提供的一种有机电致发光器件的结构示意图;图2为图1所示光线控制层的剖面示意图;图3为图2所示光线控制层的俯视图;图4为本专利技术实施例一提供的另一种有机电致发光器件的结构示意图;图5为本专利技术实施例二提供的一种有机电致发光器件的制备方法的流程图;图6-9为实施例二中形成光线控制层的示意图。具体实施方式为使本领域的技术人员更好地理解本专利技术的技术方案,下面结合附图对本专利技术提供的有机电致发光器件及其制备方法、显示装置进行详细描述。本专利技术实施例公开一种有机电致发光器件,包括衬底基板,衬底基板的上方设置有光线控制层,光线控制层包括同层且互相间隔设置的透光结构和遮光结构,遮光结构具有预设高度,透光结构具有预设宽度,光线控制层用于对所述有机电致发光器件发出的光线进行遮挡和透射,以使出射光线的出射角度在预设的角度范围之内。通过设置光线控制层,有机电致发光器件发出的光部分收到遮光结构的影响,无法出射,从而控制有机电致发光器件整体的出光角度。实施例一图1为本专利技术实施例一提供的一种有机电致发光器件的结构示意图,图2为图1所示光线控制层的剖面示意图。如图1和图2所示,所述有机电致发光器件包括衬底基板100,所述衬底基板100的上方设置有光线控制层101,所述光线控制层101包括同层且互相间隔设置的透光结构201和遮光结构201,所述遮光结构202具有预设高度,所述透光结构201具有预设宽度,所述光线控制层101用于对所述有机电致发光器件发出的光线进行遮挡和透射,以使出射光线的出射角度在预设的角度范围之内。可选的,所述光线控制层101的上方设置有发光层104,所述发光层104的上方设置有阴极层107。本实施例提供的技术方案中,阴极层为反光金属材料,本实施例为底发射型有机电致发光器件,将有机电致发光器件的透明阳极层设置成包括同层且互相间隔设置的透光结构201和遮光结构202的光线控制层,从而将防窥功能集成于透明阳极层,从而减小了显示基板的整体厚度,而且在避免影响有机电致发光器件的发光性能的前提之下,实现了显示基板的防窥功能。参见图1,所述光线控制层101上设置有空穴注入层102,所述空穴注入层102上设置有空穴传输层103,所述发光层104设置在所述空穴传输层103上,所述发光层104上设置有电子传输层105,所述电子传输层105上设置有电子注入层106,所述阴极层107设置在所述电子注入层106上。当所述光线控制层101与所述阴极层107之间施加电压时,在外界电压的驱动下,由所述光线控制层101注入的空穴与由所述阴极层107注入的电子进入到所述发光层104的复合区复合形成激子,所述激子辐射跃迁发射光子从而形成电致发光。图3为图2所示光线控制层的俯视图参见图2和图3,所述透光结构201和所述遮光结构202间隔设置,所述透光结构201与所述遮光结构202为平行设置的条形结构,所述遮光结构202具有高度h,所述透光结构201具有宽度b,光线1与光线2形成的夹角为可见视角,所述可见视角的一半为Θ,根据几何原理可以得出tanΘ=b/h,因此通过调整高度h和宽度b,本实施例可以控制有机电致发光器件出射光线的出射角度,最终达到防窥目的。可选的,所述透光结构201的构成材料为透明导电材料,所述遮光结构202的构成材料为碳或者遮光金属。本实施例中,所述光线控制层101也是有机电致发光器件的阳极层。因此,透光结构201和遮光结构202都具有导电功能,使得光线控制层101可以实现阳极层的功能。优选的,所述遮光结构202的宽度为a,所述透光结构201的宽度为b,所述透光结构201与所述遮光结构20本文档来自技高网...
有机电致发光器件及其制备方法、显示装置

【技术保护点】
一种有机电致发光器件,其特征在于,包括衬底基板,所述衬底基板的上方设置有光线控制层,所述光线控制层包括同层且互相间隔设置的透光结构和遮光结构,所述遮光结构具有预设高度,所述透光结构具有预设宽度,所述光线控制层用于对所述有机电致发光器件发出的光线进行遮挡和透射,以使出射光线的出射角度在预设的角度范围之内。

【技术特征摘要】
1.一种有机电致发光器件,其特征在于,包括衬底基板,所述衬底基板的上方设置有光线控制层,所述光线控制层包括同层且互相间隔设置的透光结构和遮光结构,所述遮光结构具有预设高度,所述透光结构具有预设宽度,所述光线控制层用于对所述有机电致发光器件发出的光线进行遮挡和透射,以使出射光线的出射角度在预设的角度范围之内。2.根据权利要求1所述的有机电致发光器件,其特征在于,所述光线控制层的上方设置有发光层,所述发光层的上方设置有阴极层,所述透光结构的构成材料为透明导电材料,所述遮光结构的构成材料为碳或者遮光金属。3.根据权利要求1所述的有机电致发光器件,其特征在于,所述衬底基板上设置有阴极层,所述阴极层的上方设置有发光层,所述光线控制层设置在所述发光层的上方,所述透光结构的构成材料为透明导电材料,所述遮光结构的构成材料为碳或者遮光金属。4.根据权利要求1所述的有机电致发光器件,其特征在于,所述透光结构与所述遮光结构为平行设置的条形结构。5.根据权利要求1所述的有机电致发光器件,其特征在于,所述遮光结构的宽度为a,所述透光结构的宽度为b,所述透光结构与所述遮光结构构成的光栅的间距p=a+b,其中p的范围为像素单元宽度的1倍至像素单元宽度的2倍。6.一种有机电致发光器件的制备方法,其特征在于,包括:在衬底基板...

【专利技术属性】
技术研发人员:梁菲董飞陈秀云
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司北京京东方光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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