【技术实现步骤摘要】
太阳能电池及其制造方法
本专利技术涉及太阳能电池及其制造方法,更具体地讲,涉及一种具有改进的结构的太阳能电池及其制造方法。
技术介绍
近来,随着预期诸如石油和煤的传统能源耗尽,对取代这些能源的替代能源的关注增加。其中,作为将太阳能转换为电能的下一代电池,太阳能电池受到关注。这种太阳能电池可通过根据设计形成各种层和电极来制造。太阳能电池的效率可由各种层和电极的设计来确定。为了使太阳能电池商业化,应该克服太阳能电池的低效率,因此,需要通过各种层和电极来使太阳能电池的效率最大化的设计。
技术实现思路
本专利技术的一个目的在于提供一种具有高效率的太阳能电池及其制造方法。本专利技术的目的不限于上述目的,对于本领域技术人员而言上面没有提及的其它目的将从以下描述变得明显。为了实现上述目的,根据本专利技术的示例性实施方式提供了一种太阳能电池,该太阳能电池包括:半导体基板;第一钝化膜,其位于半导体基板的前表面上;第二钝化膜,其位于半导体基板的后表面上;前电场区,其位于半导体基板的前表面上的第一钝化膜上并且导电类型与半导体基板的导电类型相同;发射极区,其位于半导体基板的后表面上的第二钝化膜上并且导电类型与半导体基板的导电类型相反;第一电极,其导电地连接至前电场区;以及第二电极,其导电地连接至发射极区。为了实现上述目的,根据本专利技术的示例性实施方式提供了一种制造太阳能电池的方法,该方法包括以下步骤:在半导体基板的前表面和后表面上形成第一钝化膜和第二钝化膜;形成前电场区和发射极区,所述前电场区位于半导体基板的前表面上的第一钝化膜上并且导电类型与半导体基板的导电类型相同,所述发射极区 ...
【技术保护点】
一种太阳能电池,该太阳能电池包括:半导体基板;第一钝化膜,该第一钝化膜位于所述半导体基板的前表面上;第二钝化膜,该第二钝化膜位于所述半导体基板的后表面上;前电场区,该前电场区位于所述半导体基板的所述前表面上的所述第一钝化膜上并且导电类型与所述半导体基板的导电类型相同;发射极区,该发射极区位于所述半导体基板的所述后表面上的所述第二钝化膜上并且导电类型与所述半导体基板的导电类型相反;第一电极,所述第一电极导电地连接至所述前电场区;以及第二电极,所述第二电极导电地连接至所述发射极区。
【技术特征摘要】
2015.12.18 KR 10-2015-0181745;2016.11.21 KR 10-2011.一种太阳能电池,该太阳能电池包括:半导体基板;第一钝化膜,该第一钝化膜位于所述半导体基板的前表面上;第二钝化膜,该第二钝化膜位于所述半导体基板的后表面上;前电场区,该前电场区位于所述半导体基板的所述前表面上的所述第一钝化膜上并且导电类型与所述半导体基板的导电类型相同;发射极区,该发射极区位于所述半导体基板的所述后表面上的所述第二钝化膜上并且导电类型与所述半导体基板的导电类型相反;第一电极,所述第一电极导电地连接至所述前电场区;以及第二电极,所述第二电极导电地连接至所述发射极区。2.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中,所述发射极区的厚度大于所述前电场区的厚度。3.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中,所述前电场区的能带隙大于所述半导体基板的能带隙;并且所述发射极区的能带隙大于所述半导体基板的能带隙。4.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中,所述前电场区和所述发射极区包括掺杂非晶硅、非晶硅氧化物、非晶硅碳化物、铟镓锌氧化物、钛氧化物和钼氧化物中的至少一种。5.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中,所述第一钝化膜和所述第二钝化膜中的至少一个包括本征非晶硅层。6.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中,所述第二钝化膜的厚度等于或大于所述第一钝化膜的厚度。7.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中,所述发射极区的厚度与所述第二钝化膜的厚度之比大于所述前电场区的厚度与所述第一钝化膜的厚度之比。8.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中,所述发射极区和所述前电场区中的至少一个包括第一部分以及掺杂浓度高于所述第一部分的掺杂浓度的第二部分,其中,所述第一部分的厚度大于所述第二部分的厚度。9.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中,所述前电场区包括位于所述第一钝化膜上的第一电场部分以及位于所述第一电场部分上并且掺杂浓度高于所述第一电场部分的掺杂浓度的第二电场部分;所述发射极区包括位于所述第二钝化膜上的第一发射极部分以及位于所述第一发射极部分上并且掺杂浓度高于所述第一发射极部分的掺杂浓度的第二发射极部分;并且所述第二发射极部分的掺杂浓度与所述第一发射极部分的掺杂浓度之比等于或大于所述第二电场部分的掺杂浓度与所述第一电场部分的掺杂浓度之比,具有第二导电类型掺杂剂的所述第一发射极部分的掺杂浓度等于或小于具有第一导电类型掺杂剂的所述第一电场部分的掺杂浓度。10.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中,所述第一电极和所述第二电极中的至少一个包括透明电极层以及位于所述透明...
【专利技术属性】
技术研发人员:李景洙,朴相昱,李真荧,
申请(专利权)人:LG电子株式会社,
类型:发明
国别省市:韩国,KR
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